CN104635791A - 一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法及系统,包括:在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;在t2时间段内进行第一保温;在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;在t4时间段内进行第二保温;在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温;并配合自动温度调节机制,良好解决现有技术的问题。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域,特别是涉及一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法及装置。
背景技术
由于现有烘箱温度控制报警系统只能适用于恒温控制,目前市面烘箱产品温度控制中,设置报警只能单一温度点报警;造成不良后果:对芯片粘合有一定的安全隐患:出现树脂厚度不均匀的现象;造成树脂堆积回流,导致FM 现象,影响后续的加工操作。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种烘箱温度控制方法及装置,解决上述现有技术中烘箱温度控制缺陷造成的不良后果。
为实现上述目标及其他相关目标,本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法,包括:在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;在t2时间段内进行第一保温;在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;在t4时间段内进行第二保温;在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温。
可选的,所述第一、第二及第三温度与时间线性关系为以温度与时间为坐标轴所建立平面直角坐标系中的直线图线的斜率。
可选的,所述的烘箱温度控制方法,还包括:判断当前温度是否小于上一个时间段温度;若是,按第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系斜率升温;若否,则再判断当前斜率是否为0;若为0,则按照的斜率曲线降温。
可选的,所述第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系为相同斜率。
为实现上述目标及其他相关目标,本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制装置,包括:第一升温控制模块,在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;第一保温控制模块,在t2时间段内进行第一保温;第二升温控制模块,在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;第二保温控制模块,在t4时间段内进行第二保温;降温控制模块,在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温。
可选的,所述第一、第二及第三温度与时间线性关系为以温度与时间为坐标轴所建立平面直角坐标系中的直线斜率。
可选的,所述的烘箱温度控制装置,还包括:温度调节控制模块, 用于判断当前温度是否小于上一个时间段温度;若是,按第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系斜率升温;若否,则再判断当前斜率是否为0;若为0,则按照的斜率曲线降温。
可选的,所述第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系为相同斜率。
如上所述,本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法及装置,包括:在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;在t2时间段内进行第一保温;在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;在t4时间段内进行第二保温;在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温;并配合自动温度调节机制,良好解决现有技术的问题。
附图说明
图1显示为本发明一实施例中的用于半导体制造的烘箱温度控制方法的流程示意图。
图2显示为本发明一实施例中的烘箱温度控制图线的例举示意图。
图3显示为本发明一实施例中的用于半导体制造的烘箱温度控制装置的结构示意图。
元件标号说明:
1-用于半导体制造的烘箱温度控制装置;
11-第一升温控制模块;
12-第一保温控制模块;
13-第二升温控制模块;
14-第二保温控制模块;
15-降温控制模块;
S1~S5-方法步骤。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
如图1所示,本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法,包括:
步骤S1:在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;
步骤S2:在t2时间段内进行第一保温;
步骤S3:在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;
步骤S4:在t4时间段内进行第二保温;
步骤S5:在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温。
请参阅图2,可选的,所述第一、第二及第三温度与时间线性关系为以温度与时间为坐标轴所建立平面直角坐标系中的直线图线的斜率,在一实施例中,所述t1为45分钟,t2为20分钟,t3为45分钟,t4为30分钟,t5为30分钟,若初始温度为0,则第一升温之后达到100摄氏度,第二升温之后温度达到175摄氏度;需说明的是,即使初始温度不为0,仍然可以按照相同斜率在相同时间内执行,见图示两条虚线。
优选的,所述的烘箱温度控制方法,还包括:判断当前温度是否小于上一个时间段温度;若是,按第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系斜率升温;若否,则再判断当前斜率是否为0;若为0,则按照的斜率曲线降温。
在一实施例中,所述第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系为相同斜率。
请参阅图3,本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制装置1,其可通过PLC等电子控制器实现,其原理上与上述方法大致相同,因此部分技术细节不再作赘述;所述装置1包括:第一升温控制模块11,在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;第一保温控制模块12,在t2时间段内进行第一保温;第二升温控制模块13,在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;第二保温控制模块14,在t4时间段内进行第二保温;降温控制模块15,在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温。
可选的,所述第一、第二及第三温度与时间线性关系为以温度与时间为坐标轴所建立平面直角坐标系中的直线斜率。
可选的,所述的烘箱温度控制装置,还包括:温度调节控制模块, 用于判断当前温度是否小于上一个时间段温度;若是,按第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系斜率升温;若否,则再判断当前斜率是否为0;若为0,则按照的斜率曲线降温。
可选的,所述第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系为相同斜率。
综上所述,本发明提供一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法及装置,包括:在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;在t2时间段内进行第一保温;在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;在t4时间段内进行第二保温;在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温;并配合自动温度调节机制,良好解决现有技术的问题。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效,而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下,对上述实施例进行修饰或改变。因此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本发明的权利要求所涵盖。
Claims (8)
1.一种用于半导体制造的烘箱温度控制方法,其特征在于,包括:
在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;
在t2时间段内进行第一保温;
在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;
在t4时间段内进行第二保温;
在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温。
2.根据权利要求1所述的烘箱温度控制方法,其特征在于,所述第一、第二及第三温度与时间线性关系为以温度与时间为坐标轴所建立平面直角坐标系中的直线图线的斜率。
3.根据权利要求2所述的烘箱温度控制方法,其特征在于,还包括:
判断当前温度是否小于上一个时间段温度;
若是,按第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系斜率升温;
若否,则再判断当前斜率是否为0;
若为0,则按照的斜率曲线降温。
4.根据权利要求2所述的烘箱温度控制方法,其特征在于,所述第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系为相同斜率。
5.一种用于半导体制造的烘箱温度控制装置,其特征在于,包括:
第一升温控制模块,在t1时间段内按预设的第一温度与时间线性关系进行第一升温;
第一保温控制模块,在t2时间段内进行第一保温;
第二升温控制模块,在t3时间段内按预设的第二温度与时间线性关系进行第二升温;
第二保温控制模块,在t4时间段内进行第二保温;
降温控制模块,在t5时间段内按预设的第三温度与时间线性关系进行降温。
6.根据权利要求5所述的烘箱温度控制装置,其特征在于,所述第一、第二及第三温度与时间线性关系为以温度与时间为坐标轴所建立平面直角坐标系中的直线斜率。
7.根据权利要求6所述的烘箱温度控制装置,其特征在于,还包括:温度调节控制模块, 用于判断当前温度是否小于上一个时间段温度;若是,按第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系斜率升温;若否,则再判断当前斜率是否为0;若为0,则按照的斜率曲线降温。
8.根据权利要求6所述的烘箱温度控制装置,其特征在于,所述第一温度与时间线性关系或第二温度与时间线性关系为相同斜率。
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