CN104570491A - 液晶显示装置的制作方法 - Google Patents

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Abstract

液晶显示装置的制作方法包括:将下基板和上基板相对组立设置;分割相对组立设置的下基板和上基板形成多个基板单元,各基板单元包括相对组立设置的第一基板和第二基板;向各基板单元的第一基板和第二基板之间注入液晶材料,以形成液晶显示单元,液晶材料在第一环境温度下具有第一密度;从第一环境温度升高液晶显示单元所处的环境温度至第二环境温度后,对液晶显示单元进行研磨制程,此时液晶材料在第二环境温度下具有第二密度,第二密度小于第一密度。液晶显示装置的制作方法能有效地避免配向膜的刮伤而形成的小亮点不良,提升产品良率,降低制造成本。

Description

液晶显示装置的制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,且特别是涉及一种液晶显示装置的制作方法。
背景技术
液晶显示面板在组装过程中通常是先将大片的彩色滤光基板(Color Filter,CF)和薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor,TFT)对置后组装在一起,然后再分割成需要的大小再进行后续的研磨、偏贴等制程。
其中,在彩色滤光基板面向薄膜晶体管阵列基板的表面和薄膜晶体管阵列基板面向彩色滤光基板的表面覆盖有一层配向膜(Polyimide,PI),为后续灌入在彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板的液晶材料进行配向。在彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板对置后,由柱状隔垫物(Photospace,PS)作为支撑物来保持彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板之间的间隔距离。柱状隔垫物一般都设置在彩色滤光基板面向薄膜晶体管阵列基板的表面。由于柱状隔垫物是一种树脂材料,具有一定的弹性,在彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板组立在一起后柱状隔垫物受挤压后会有一定的压缩量,从而使彩色滤光基板和薄膜晶体管阵列基板互相接触的部位具有相对的作用力。由于薄化后的液晶显示面板或液晶显示面板连片存在凹点、凸点、刮伤、不平等缺陷,需要进行研磨制程以达到光滑、平整的效果。-而研磨过程中,第一基板和第二基板会产生相对运动,导致第二基板的柱状隔垫物刮伤第一基板的第一配向膜。配向膜被刮伤后产生小颗粒进入液晶层或者配向膜刮伤后使液晶失去配向,从而形成小亮点不良。目前,为降低小亮点不良通常都是选择硬度较大、较耐刮的配向膜,这样就涉及材料搭配性问题而造成选材受限,或者在研磨制程中微调研磨条件如调整研磨压力、上下盘转速、研磨盘摆幅、摆频、研磨时间等,这对研磨制程控制提出较严苛的要求。
发明内容
本发明的目的在于,提供了一种液晶显示装置的制作方法,其能有效地避免配向膜的刮伤而形成的小亮点不良,提升产品良率,降低制造成本。
本发明解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。
一种液晶显示装置的制作方法,其包括将下基板和上基板相对组立设置。分割相对组立设置的所述下基板和所述上基板形成多个基板单元,各所述基板单元包括相对组立设置的第一基板和第二基板。向各基板单元的所述第一基板和所述第二基板之间注入液晶材料,以形成液晶显示单元,所述液晶材料在所述第一环境温度下具有第一密度。从第一环境温度升高所述液晶显示单元所处的环境温度至第二环境温度后,对所述液晶显示单元进行研磨制程,所述液晶材料在所述第二环境温度下具有第二密度,且所述第二密度小于所述第一密度。
在本发明较佳实施例中,所述第一基板包括玻璃基板、薄膜晶体管、第一电极和第一配向膜,所述薄膜晶体管位于所述玻璃基板面向所述第二基板的表面。第一电极位于所述薄膜晶体管上,第一配向膜覆盖所述第一电极并覆盖所述玻璃基板面向所述第二基板的整个的表面。所述第二基板包括彩色滤光片、第二电极、柱状隔垫物和第二配向膜。所述第二电极位于所述彩色滤光片面向所述第一基板的表面,所述柱状隔垫物位于所述第二电极面向所述第一基板的表面并对应位于所述薄膜晶体管的上方,所述第二配向膜覆盖所述柱状隔垫物和所述第二电极并覆盖所述彩色滤光片面向所述第一基板的整个的表面。
在本发明较佳实施例中,所述柱状隔垫物具有弹性,在所述第一环境温度时所述柱状隔垫物的第一高度小于在所述第二环境温度时所述柱状隔垫物的第二高度。
在本发明较佳实施例中,所述柱状隔垫物对所述第一基板的所述第一配向膜的作用力在所述第二环境温度下比在所述第一环境温度下小。
在本发明较佳实施例中,所述第一环境温度为20~30℃,所述第二环境温度为60~120℃。
在本发明较佳实施例中,所述第一环境温度是指所述研磨制程开始前所述液晶材料所处的环境温度,所述第二环境温度是指研磨所述液晶显示单元时所述液晶材料所处的环境温度。
在本发明较佳实施例中,所述研磨制程是指对所述液晶显示单元的所述第一基板和所述第二基板的外表面(即接触空气的非元件区)进行打磨。
本发明的有益效果是,本发明的液晶显示装置的制作方法,是在第一环境温度下向各基板单元的第一基板和第二基板之间注入具有第一密度液晶材料,并升温至第二环境温度后对液晶显示单元进行研磨制程,其中利用环境温度的提升,使得液晶材料的密度降低,液晶材料膨胀后增加了液晶材料的层高,从而降低了柱状隔垫物对第一基板的第一配向膜的作用力,有效避免了配向膜被刮伤形成的小亮点不良,提升了产品良率。此外,液晶显示装置选材时不再受配向膜需硬度较大、较耐刮等限制,研磨制程中也无需微调研磨条件,制作过程简单,有利于降低制作成本。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述液晶显示装置的制作方法和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明。
附图说明
图1是本发明一实施例的液晶显示装置的制作过程中在第一环境温度时的剖面结构示意图。
图2是本发明一实施例的液晶显示装置的制作过程中在第二环境温度时的剖面结构示意图。
图3是本发明一实施例的液晶显示装置的液晶材料的密度与温度的变化曲线图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的液晶显示装置的制作方法的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如下。
有关本发明的前述及其它技术内容、特点及功效,在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明,当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解,然而所附图式仅是提供参考与说明之用,并非用来对本发明加以限制。
图1是本发明一实施例的液晶显示装置的制作过程中在第一环境温度时的剖面结构示意图。图2是本发明一实施例的液晶显示装置的制作过程中在第二环境温度时的剖面结构示意图。请参阅图1和图2,图1至图2为液晶显示单元100对应一个柱状隔垫物的所在区域的局部剖面结构示意图。液晶显示单元100是形成液晶显示装置的半成品。液晶显示单元100包括第一基板110,与第一基板相对设置的第二基板130及位于第一基板110和第二基板130之间的液晶材料120。
以下将对本实施例的液晶显示装置的制作方法做详细说明。
首先,将下基板和上基板相对组立设置,下基板是未分割大片的薄膜晶体管阵列基板,上基板是未分割的大片的彩色滤光基板。
然后,分割相对组立设置的下基板和上基板形成所需尺寸的多个基板单元,各基板单元包括相对组立设置的第一基板110和第二基板130。如图1所示,第一基板110是分割后的薄膜晶体管阵列基板,第二基板130是分割后的彩色滤光基板,但并不以此为限。
第一基板110包括玻璃基板111、位于玻璃基板111面向第二基板130的表面的多条相互平行的扫描线(图未示)、多条相互平行的数据线(图未示)、多个在扫描线和数据线交叉位置处设置的薄膜晶体管112和第一电极114,薄膜晶体管112包括栅极、半导体层、源漏极和多层绝缘保护层等,此为本领域技术人员所熟知结构,在此不再赘述。第一电极114例如是像素电极,第一电极114通过绝缘层116的间隔位于薄膜晶体管112上。第一基板110还包括第一配向膜118,第一配向膜118覆盖第一电极114和绝缘层116等,即第一配向膜覆盖玻璃基板111面向第二基板130的整个的表面。
第二基板130包括彩色滤光片131、第二电极134、柱状隔垫物136和第二配向膜138。第二电极134例如是公共电极,第二电极134位于彩色滤光片131面向第一基板110的表面,柱状隔垫物136位于第二电极134面向第一基板110的表面并对应位于薄膜晶体管112的上方,第二配向膜138覆盖柱状隔垫物136和第二电极134并覆盖彩色滤光片131面向第一基板110的整个的表面。第二基板130的彩色滤光片131还包括玻璃基板、黑矩阵、彩色滤光光阻、保护层等本领域技术人员所熟知的结构,在此不再赘述。
在第一环境温度下向基板单元的第一基板110和第二基板130之间注入液晶材料120,以形成液晶显示单元100。图3是本发明一实施例的液晶显示装置的液晶材料的密度与温度的变化曲线图。请同时参阅图1和图3,第一环境温度是指研磨制程开始前的环境温度,第一环境温度为20~30℃。以第一环境温度25℃时为例,此时,液晶材料120具有第一密度A,例如第一密度A的大小为1.0619g/cm3;由液晶材料120所形成的液晶层的层高(即液晶材料120两侧的第一配向膜118与第二配向膜138的相对表面之间的间距)为H1,H1例如是3.6μm。柱状隔垫物136的第一高度为H2,第一高度H2例如是3.14μm,柱状隔垫物136例如是树脂材料制成,具有一定的弹性,第一基板110和第二基板130组立对置后受挤压后具有一压缩量例如为0.28μm,此时,第一基板110和第二基板130对应柱状隔垫物136位置相接触部分的第一配向膜118与第二配向膜138之间具有一相互作用力。
接着,升高液晶显示单元100所处的环境温度至第二环境温度,第二环境温度为60~120℃。在第二环境温度下,对液晶显示单元100进行研磨制程,研磨制程是指对液晶显示单元100的第一基板110和第二基板130的四周边进行磨边和对四角进行倒角。第二环境温度是指研磨液晶显示单元100时液晶材料120所处的环境温度。例如,将液晶显示单元100所处的环境温度从25℃提升到80℃,此时液晶材料120的温度也是从第一环境温度25℃提升到了第二环境温度80℃。如图2和图3所示,当第二环境温度为80℃时,液晶材料120具有第二密度B,例如第二密度B的大小为1.039811g/cm3,相较第一环境温度25℃时降低2.08%。由于液晶材料120随温度的提高会逐渐膨胀,使得由液晶材料120形成的液晶层的层高(也即液晶材料120两侧的第一配向膜118与第二配向膜138的间距)增大到H1′,H1′>H1。柱状隔垫物136的高度也恢复到第二高度H2′,H2′>H2,例如柱状隔垫物136的高度恢复了0.0653μm,也即是说,柱状隔垫物136的压缩量减小了0.0653μm,在第一环境温度时柱状隔垫物136的第一高度小于在第二环境温度时柱状隔垫物136的第二高度。此时,第一基板110和第二基板130对应柱状隔垫物136位置相接触部分的第一配向膜118与第二配向膜138之间的相互作用力将减少23.3%,即柱状隔垫物136对第一基板110的第一配向膜118的作用力降低。因此,在第二环境温度下对液晶显示单元100进行正常的研磨制程,第一基板110和第二基板130的相对运动时明显降低了柱状隔垫物136对第一配向膜118的刮伤,减少了小亮点不良的产生,进而提升了产品的良率。
最后,液晶显示装置的制作方法还包括对液晶显示单元100进行清洗、贴附偏光片等制程,制作成成品即液晶显示装置,此为本领域技术人员所熟知技术,在此不再赘述。
本发明的液晶显示装置的制作方法,是在第一环境温度下向各基板单元的第一基板和第二基板之间注入具有第一密度液晶材料,并升温至第二环境温度后对液晶显示单元进行研磨制程,其中利用环境温度的提升,使得液晶材料的密度降低,液晶材料膨胀后增加了液晶材料的层高,从而降低了柱状隔垫物对第一基板的第一配向膜的作用力,有效避免了第一配向膜和第二配向膜被刮伤形成的小亮点不良,提升了产品良率。此外,液晶显示装置选材时不再受硬度较大、较耐刮等限制,研磨制程中也无需微调研磨条件,制作过程简单,有利于降低制作成本。
以上对本发明所提供的液晶显示装置的制作方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (7)

1.一种液晶显示装置的制作方法,其特征在于:
将下基板和上基板相对组立设置;
分割相对组立设置的所述下基板和所述上基板形成多个基板单元,各所述基板单元包括相对组立设置的第一基板和第二基板;
向各所述基板单元的所述第一基板和所述第二基板之间注入液晶材料,以形成液晶显示单元,所述液晶材料在所述第一环境温度下具有第一密度;以及
从第一环境温度升高所述液晶显示单元所处的环境温度至第二环境温度后,对所述液晶显示单元进行研磨制程,所述液晶材料在所述第二环境温度下具有第二密度,且所述第二密度小于所述第一密度。
2.如权利要求1所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述第一基板包括玻璃基板、薄膜晶体管、第一电极和第一配向膜,所述薄膜晶体管位于所述玻璃基板面向所述第二基板的表面,所述第一电极位于所述薄膜晶体管上,所述第一配向膜覆盖所述第一电极并覆盖所述玻璃基板面向所述第二基板的整个的表面;所述第二基板包括彩色滤光片、第二电极、柱状隔垫物和第二配向膜,所述第二电极位于所述彩色滤光片面向所述第一基板的表面,所述柱状隔垫物位于所述第二电极面向所述第一基板的表面并对应位于所述薄膜晶体管的上方,所述第二配向膜覆盖所述柱状隔垫物和所述第二电极并覆盖所述彩色滤光片面向所述第一基板的整个的表面。
3.如权利要求2所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述柱状隔垫物具有弹性,在所述第一环境温度时所述柱状隔垫物的第一高度小于在所述第二环境温度时所述柱状隔垫物的第二高度。
4.如权利要求2所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,,所述柱状隔垫物对所述第一基板的所述第一配向膜的作用力在所述第二环境温度下比在所述第一环境温度下小。
5.如权利要求1所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述第一环境温度为20~30℃,所述第二环境温度为60~120℃。
6.如权利要求1所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述第一环境温度是指所述研磨制程开始前所述液晶材料所处的环境温度,所述第二环境温度是指提高温度后研磨所述液晶显示单元时所述液晶材料所处的环境温度。
7.如权利要求1所述的液晶显示装置的制作方法,其特征在于,所述研磨制程是指对所述液晶显示单元的所述第一基板和所述第二基板的外表面(即接触空气的非元件区)进行打磨。
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