CN104567590A - 一种缺陷定位部件 - Google Patents

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高志豪
黄俊杰
刘志鸿
郭晓辉
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EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd
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Abstract

本公开提供一种缺陷定位部件,其包括:本体,其上设有由多条网格线形成并将面板上的缺陷覆盖于内的网格部;坐标部,其是设置于该本体内,并包括对应于网格线的横向坐标和纵向坐标,由该网格线对应的横向坐标和纵向坐标确定该缺陷的范围。通过将本公开的缺陷定位部件覆盖在具有缺陷的面板上,能够快速、准确的确定缺陷的范围,从而确定所对应的掩膜的缺陷位置,便于掩膜的修复。

Description

一种缺陷定位部件
技术领域
本公开总地涉及缺陷定位部件,具体而言,涉及用于定位掩膜开口缺陷的位置的结构。
背景技术
目前,在OLED蒸镀过程中,是将掩膜制作成一定形状,然后蒸镀,在OLED基板上,于掩膜限定的图形区域内沉积蒸镀材料,形成一图案层。掩膜可选用高精度金属掩膜(FMM,Fine Metal Mask),其厚度较薄,很可能由于,例如OLED的面板上的颗粒、灰尘等使掩膜受损,造成开口,此种缺陷为掩膜,特别是高精度金属掩膜的主要缺陷之一。由于该开口缺陷,OLED蒸镀完成后,在面板上沉积的图案层上也会出现相应的开口,造成面板不合格。为此,需要进行后续的面板修复工艺。进行此工艺之前,需要定位该开口的位置。
现有的缺陷定位及掩膜改善工艺包括:以工具点亮OLED面板后切换R/G/B/黑/白/灰六种画面;目视各画面显示的开口位置,并简略记录该位置;工程人员以数据做后续改善动作的分析,再现性比对。其中,简略记录开口位置的方法通常是:人员绘制与面板大小相等的图纸,然后根据人眼观察,在图纸上绘制开口的位置和形状。当然,此方法也可在电脑上操作。总之,目前的缺陷定位只能靠人眼粗略判断,此方法准确性低,会造成工程人员判断有误,为后续的掩膜改善工艺造成不利。若要提高定位准确性,需利用测量工具,例如带测量功能的显微镜,对开口的位置进行测量,并详细记录测量数据,此方法将造成定位时间延长3~5倍,耽误大量人力,影响效率。
因此,需要一种快速定位缺陷的结构,以提高工艺效率,并相对于现有的仅靠目测判断的方式,能提高定位准确性。
在所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
公开了一种缺陷定位部件,以提高工艺效率及定位准确性。
本公开的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述,并且部分地将从描述中变得显然,或者可以通过本公开的实践而习得。
根据本公开的一个方面,一种缺陷定位部件,其包括:本体,其上设有由多条网格线形成并将面板上的缺陷覆盖于内的网格部;坐标部,其是设置于该本体内,并包括对应于网格线的横向坐标和纵向坐标,由该网格线对应的横向坐标和纵向坐标确定该缺陷的范围。
综上所述,本公开通过将缺陷定位部件覆盖在具有缺陷的面板上,能够快速、准确的确定缺陷的范围,从而确定所对应的掩膜的缺陷位置,便于掩膜的修复。相比于现有的目测及手绘方式,本公开能够大幅提高定位的准确性及效率,且本公开结构简单,成本低。
附图说明
通过参照附图详细描述其示例实施方式,本公开的上述和其它特征及优点将变得更加明显。
图1示出通过掩膜进行蒸镀工艺的示意图。
图2示出具有缺陷的面板的示意图。
图3示出本公开第一实施方式的缺陷定位部件的示意图。
图4示出利用本公开第一实施方式的缺陷定位部件定位缺陷的示意图。
图5示出利用本公开第二实施方式的缺陷定位部件定位缺陷的示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而,示例实施方式能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的实施方式;相反,提供这些实施方式使得本公开将全面和完整,并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中,为了清晰,夸大了区域和层的厚度。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略它们的详细描述。
所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本公开的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、组元、材料等。在其它情况下,不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本公开的各方面。
第一实施方式
如图1所示,通过热蒸镀,蒸镀源5内的有机电致发光材料经由设于支架4上的掩膜3上的开孔蒸镀于面板2的表面上,形成图案层。由于掩膜3上存在缺陷,例如开口缺陷,因此,蒸镀过程中,在面板2的图案层上会相应形成开口D,如图2所示。
本公开提供一种缺陷定位部件,以定位面板上缺陷的位置,从而确定掩膜上缺陷的位置,其中,缺陷可为开口缺陷。
如图3、4所示,缺陷定位部件1包括:本体10和坐标部20。本体10上设有由多条网格线111、112形成并将面板2上的开口D覆盖于内的网格部11。坐标部20设置于本体10内,并包括对应于网格线111、112的横向坐标21和纵向坐标22,由网格线111、112对应的横向坐标21和纵向坐标22确定该开口D的范围。
其中,该缺陷定位部件1为透明的平板,例如为玻璃板,其厚度为0.5mm。
其中,网格部10的尺寸与面板2尺寸相同,例如,其尺寸与4寸或5寸规格的面板尺寸一致。本实施方式中,网格线111、112未延伸至本体10的边缘,坐标部20位于本体10的边缘与网格部11的外周之间。使用时,网格部10的四周与面板2的边缘对齐,如图2所示,即可确定开口D所在的范围。
其中,网格线11、12及横向坐标21和纵向坐标22均为在缺陷定位部件1上激光刻制形成。横向坐标21和纵向坐标22的数目相同,且相邻横向坐标及相邻纵向坐标的间距相同。例如,横向坐标21和纵向坐标22的数目至少为100条,相邻横向坐标及相邻纵向坐标的间距为2-3mm。
通过将本实施方式的缺陷定位部件覆盖在具有开口的面板上,能够快速、准确的确定开口的范围,从而确定所对应的掩膜的开口位置,便于掩膜的修复。
第二实施方式
如图5所示,本实施方式的结构与第一实施方式大致相同,区别之处仅在于:网格线111、112延伸至本体10的边缘,坐标部20位于网格部11的内部,并邻近本体10的边缘。使用时,将缺陷定位部件1覆盖在面板2上,且本体10与面板2的边缘对齐。此实施方式可减小缺陷定位部件的尺寸,降低制造成本。
本公开还提供一种定位缺陷的方法,在通过掩膜于面板上形成图案层的过程中,由于该掩膜上具有缺陷,使得该图案层的相同位置出现对应的缺陷,该方法是利用一种缺陷定位部件1定位掩膜2上的缺陷,该缺陷定位部件1包括:本体10,其上设有由多条交叉的网格线111、112形成的网格部11,当缺陷定位部件1覆盖于具有开口D的面板2上时,开口位于网格部11内;坐标部20,包括分别对应于交叉的网格线111、112的横向坐标21和纵向坐标22,由网格线111、112对对应的横向坐标和纵向坐标确定该缺陷的范围,该方法包括以下步骤:该方法是利用上述的缺陷定位部件定位掩膜上的缺陷,该方法包括以下步骤:
步骤1:将缺陷定位部件1覆盖于该具有缺陷(开口D)的面板2上;
步骤2:点亮面板2,观察面板2上的开口在网格部10中的范围;及
步骤3:确定网格部10中的范围在坐标部20对应的横向坐标21和纵向坐标22。
其中,网格部10中的范围由该范围的四个边界点的横纵坐标表示。例如,图4所示,可以确定开口D所在范围(X2,Y2:X3Y2:X2,Y8:X3,Y8)。
其中,在该步骤1中:点亮该面板后先后切换R/G/B/黑/白/灰六种画面,在各个画面中分别进行缺陷的定位,以全面定位缺陷,避免遗漏。
上述方法还包括:步骤4:记录横向坐标21和纵向坐标22,将该缺陷坐标数据发送至掩膜板改善工艺。例如,可在电脑中通过EXCEL生成缺陷坐标数据表。
综上所述,本公开通过将缺陷定位部件覆盖在具有缺陷的面板上,能够快速、准确的确定开口的范围,从而确定所对应的掩膜的开口位置,便于掩膜的修复。相比于现有的目测及手绘方式,本公开能够大幅提高定位的准确性及效率,且本公开结构简单,成本低。
以上具体地示出和描述了本公开的示例性实施方式。应该理解,本公开不限于所公开的实施方式,相反,本公开意图涵盖包含在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等效布置。

Claims (7)

1.一种缺陷定位部件,其包括:
本体,其上设有由多条网格线形成并将面板上的缺陷覆盖于内的网格部;
坐标部,其是设置于该本体内,并包括对应于网格线的横向坐标和纵向坐标,由该网格线对应的横向坐标和纵向坐标确定该缺陷的范围。
2.如权利要求1所述的缺陷定位部件,其中,该缺陷定位部件为透明的平板。
3.如权利要求2所述的缺陷定位部件,其中,该缺陷定位部件为玻璃板。
4.如权利要求3所述的缺陷定位部件,其中,该网格部的尺寸与该面板尺寸相同。
5.如权利要求4所述的缺陷定位部件,其中,该网格线延伸至该本体的边缘,该坐标部位于该网格部的内部,并邻近该本体的边缘。
6.如权利要求3所述的缺陷定位部件,其中,该横向坐标和纵向坐标的数目至少为100条,该相邻横向坐标及相邻纵向坐标的间距为2-3mm。
7.如权利要求1所述的缺陷定位部件,其中,该缺陷为掩膜上的开口。
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