CN104550157B - 清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种清洗装置，用于清洗基板，所述清洗装置包括传送装置、喷淋装置及止挡装置，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。本发明的清洗装置通过设置喷淋装置对基板进行清洗，并设置止挡件防止水流喷溅，并进一步设置风刀去除凝结所述止挡件内侧的水滴，防止水滴滴落至所述基板之上。

Description

清洗装置
技术领域
本发明涉及液晶技术领域，尤其涉及一种清洗装置。
背景技术
在液晶显示面板制造行业，TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板上的金属图案通常采用湿法蚀刻形成。采用湿法蚀刻之后，需要喷嘴喷淋水，从而将所述TFT基板之上残留的刻蚀液洗净。但是在喷嘴喷淋过程中会溅起大量的水汽并凝结滴落至TFT基板上，从而导致TFT基板表面有残留水滴，进而导致清洗效果差以及TFT基板良品率低。
发明内容
本发明提供一种具有良好清洗效果且可避免水滴滴落至基板的清洗装置。
一种清洗装置，用于清洗基板，所述清洗装置包括传送装置、喷淋装置及止挡装置，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。
进一步的，所述风刀包括呈长方体的中空室及设置于所述中空室下方的喷嘴，所述喷嘴呈三角柱状，其上设有用于喷出气体的线性端部。
进一步的，所述止挡件包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板与第二挡板的侧边分别固定连接于所述风刀两侧并朝向斜下方延伸，从而形成朝向所述传送装置的开口。
进一步的，所述风刀与止挡件采用金属材料制成。
进一步的，所述止挡件焊接于所述风刀。
进一步的，所述清洗装置还设有感测装置及连接于所述感测装置的控制阀，所述感测装置用于感测所述基板位置并控制所述控制阀的开启和关闭。
进一步的，所述感测装置包括第一传感器及第二传感器，所述第一传感器与第二传感器沿所述传送装置的传送方向依次设置，当所述基板经过所述第一传感器时，所述第一传感器控制所述控制所述控制阀关闭，从而控制所述风刀停止喷气；当所述基板经过并离开所述第二传感器时，所述第二传感器控制所述控制阀开启，从而开启风刀以去除形成于所述止挡件的水滴。
进一步的，所述止挡件于所述传送装置所在平面的竖直投影位于所述第一传感器与第二传感器之间。
本发明的清洗装置通过设置喷淋装置对基板进行清洗，并设置止挡件防止水流喷溅，并进一步设置风刀去除凝结所述止挡件内侧的水滴，防止水滴滴落至所述基板之上。另，本发明的清洗装置设置感测装置，控制所述喷淋装置及风刀的开启或关闭，提升去除凝结所述止挡件内侧的水滴的工作效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明提供的一种清洗装置的结构示意图；
图2是本发明提供的清洗装置的风刀的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1及图2，本发明较佳实施方式提供一种清洗装置10，可设置于湿制程腔室内，对基板20进行清洗。所述清洗装置10包括传送装置11、喷淋装置13及止挡装置15。在本实施例中，所述基板20指TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板或其他类型的需进行清洗的各类基板。
所述传送装置11用于传送基板20。在本实施例中，所述传送装置11包括多个传动轮111，所述传动轮111可在驱动装置(图未示)驱动下同向转动以驱动基板20移动。可以理解的是，所述传送装置11可采用任意的适用现有技术，如可采用传送带等可传输基板20的各类装置，在此不再赘述。
所述喷淋装置13设置于所述传送装置11上方。所述喷淋装置13采用水刀，其设置于所述传送装置11上方，用于向所述传送装置11所传送的基板20喷水以清洗所述基板20。
所述止挡装置15包括止挡件151、风刀153及连接于所述风刀153的进气管155。
所述止挡件151设置于所述基板20上方，从而防止所述喷淋装置13喷水时形成的水滴与水气喷溅。可以理解的是，喷淋装置13的设置位置、所述喷淋装置13相对于所述止挡件151的设置位置可按需自行调整。
所述风刀153设置于所述止挡件151朝向所述传送装置11一侧，所述进气管155连接于外部气源50以向所述风刀153供气。所述风刀153用于喷射气体以去除形成于所述止挡件151内侧的水滴。
进一步的，如图2所示，在本实施例中，所述风刀153包括呈长方体的中空室1531及设置于所述中空室1531下方的喷嘴1533，所述喷嘴1533呈三角柱状，其上设有用于喷出气体的线性端部1535。
进一步的，在本实施例中，所述止挡件151包括第一挡板1511及第二挡板1512，所述第一挡板1511与第二挡板1512的侧边分别固定连接于所述风刀153两侧并朝向斜下方延伸，从而形成朝向所述传送装置11的开口。所述风刀153的喷嘴1533的线性端部1535平行于所述传送装置11的传送方向及设置于所述传送装置11之上的基板20。
使用时，所述喷淋装置13产生水气并可进一步形成凝结于所述止挡件151内侧的水滴。所述清洗装置10可通过风刀153产生气流，从而去除形成于所述止挡件151内侧的水滴，防止在后续制程中，当基板20传送至所述止挡件151下方时，水滴滴落至所述基板20。
进一步的，在本实施例中，所述风刀153与止挡件151采用金属材料制成，并通过焊接的方式相互固定连接。可以理解的是，所述风刀153的气流喷射方向可根据止挡件151形状、尺寸自行设置，只需保证其可去除或部分去除形成于止挡件151内侧的水滴即可。所述风刀153与所述止挡件151也可采用其他材料，如塑料制成，并通过其他方式，如胶水粘结的方式相互连接。
进一步的，所述清洗装置10还设有感测装置及连接于所述感测装置的控制阀30，所述感测装置用于感测所述基板20位置，从而控制所述控制阀30的开启和关闭。所述控制阀30设置于所述进气管155以控制所述进气管155开启或关闭，进而控制所述风刀153喷气或关闭。
进一步的，所述感测装置用于感测所述基板20在所述传送装置11的传送下完成喷淋并进入所述盖板下方，从而控制所述风刀153开启。
所述感测装置包括第一传感器41及第二传感器42。所述第一传感器41与第二传感器42沿所述传送装置11的传送方向依次设置。且所述止挡件151于所述传送装置11所在平面的竖直投影位于所述第一传感器41与第二传感器42之间。
在本实施例中，所述第一传感器41或第二传感器42可采用光感传感器和机械传感器。可以理解的是，所述第一传感器41或第二传感器42可采用任意适用类型的传感器，只需保证其可感测所述基板20是否移动到相应位置即可。
使用本发明的清洗装置10对玻璃基板20进行清洗时，所述基板20在传送装置11的传送下移动，且所述基板20的前端首先经过所述第一传感器41。此时，所述感测装置的第一传感器41控制所述控制阀30关闭，从而控制所述风刀153关闭。所述基板20在传送装置11传送下持续前进，并在经过止挡件151与第二传感器42下方之后远离所述第二传感器42。在所述基板20的尾端经过并离开所述第二传感器42时，所述第二传感器42控制所述控制阀30开启，从而开启风刀153以去除形成于所述止挡件151的水滴。
本发明的清洗装置10通过设置喷淋装置13对基板20进行清洗，并设置止挡件151防止水流喷溅，并进一步设置风刀153去除凝结所述止挡件151内侧的水滴，防止水滴滴落至所述基板20之上。另，本发明的清洗装置10设置感测装置，控制所述喷淋装置13及风刀153的开启或关闭，提升去除凝结所述止挡件151内侧的水滴的工作效率。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。

Claims (6)

1.一种清洗装置，用于清洗基板，其特征在于，所述清洗装置包括传送装置、喷淋装置、止挡装置、感测装置及连接于所述感测装置的控制阀，所述传送装置用于传送所述基板，所述喷淋装置设置于所述传送装置上方，用于喷水以清洗所述基板，所述止挡装置包括止挡件、风刀及连接于所述风刀的进气管，所述止挡件设置于所述基板上方，所述风刀设置于所述止挡件朝向所述传送装置一侧，所述进气管连接于外部气源以向所述风刀供气，所述风刀用于喷射气体以去除形成于所述止挡件内侧的水滴，所述感测装置包括第一传感器及第二传感器，所述第一传感器与第二传感器沿所述传送装置的传送方向依次设置，当所述基板经过所述第一传感器时，所述第一传感器控制所述控制阀关闭，从而控制所述风刀停止喷气；当所述基板经过并离开所述第二传感器时，所述第二传感器控制所述控制阀开启，从而开启风刀以去除形成于所述止挡件内侧的水滴。
2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述风刀包括呈长方体的中空室及设置于所述中空室下方的喷嘴，所述喷嘴呈三角柱状，其上设有用于喷出气体的线性端部。
3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述止挡件包括第一挡板及第二挡板，所述第一挡板与第二挡板的侧边分别固定连接于所述风刀两侧并朝向斜下方延伸，从而形成朝向所述传送装置的开口。
4.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述风刀与止挡件采用金属材料制成。
5.如权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述止挡件焊接于所述风刀。
6.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述止挡件于所述传送装置所在平面的竖直投影位于所述第一传感器与第二传感器之间。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108356049A (zh) * 2018-03-29 2018-08-03 武汉华星光电技术有限公司 一种喷淋装置及喷淋方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106076955A (zh) * 2016-08-23 2016-11-09 无锡市湖昌机械制造有限公司 安装升降式防溅护板的清洗设备
CN107218796B (zh) * 2017-05-27 2019-10-11 合肥中科衡金工业自动化有限公司 一种用于自动化流水线的多组高速气流式吹干机
CN110575944B (zh) * 2019-10-21 2024-08-23 中冶南方工程技术有限公司 辊涂机及其涂液盘

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5762749A (en) * 1995-07-21 1998-06-09 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Apparatus for removing liquid from substrates
AUPS212502A0 (en) * 2002-05-07 2002-06-06 Sustainable Technologies International Pty Ltd Method and device for local treatment of substrates with fluids
JP4365192B2 (ja) * 2003-11-25 2009-11-18 住友精密工業株式会社 搬送式基板処理装置
KR20060002266A (ko) * 2004-07-01 2006-01-09 삼성전자주식회사 액정표시장치의 제조장치
JP4776380B2 (ja) * 2006-01-20 2011-09-21 株式会社東芝 処理装置及び処理方法
CN201020458Y (zh) * 2007-03-16 2008-02-13 陈艳华 一种冲洗带钢防飞溅装置
CN100489612C (zh) * 2007-05-14 2009-05-20 友达光电股份有限公司 基板清洁装置、基板工艺设备及基板清洁装置的清洁方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108356049A (zh) * 2018-03-29 2018-08-03 武汉华星光电技术有限公司 一种喷淋装置及喷淋方法

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