CN104549973A - 便于剥离的雾面离型膜的制备工艺 - Google Patents

便于剥离的雾面离型膜的制备工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN104549973A
CN104549973A CN201310467946.4A CN201310467946A CN104549973A CN 104549973 A CN104549973 A CN 104549973A CN 201310467946 A CN201310467946 A CN 201310467946A CN 104549973 A CN104549973 A CN 104549973A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
parts
film
surface coating
cloudy surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310467946.4A
Other languages
English (en)
Inventor
金闯
张庆杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sidike New Materials Jiangsu Co Ltd
Original Assignee
Sidike New Materials Jiangsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sidike New Materials Jiangsu Co Ltd filed Critical Sidike New Materials Jiangsu Co Ltd
Priority to CN201310467946.4A priority Critical patent/CN104549973A/zh
Publication of CN104549973A publication Critical patent/CN104549973A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，雾面涂层朝向离型剂涂层表面具有若干个凸起部，其主要由下列步骤组成：在聚酯薄膜层上涂覆一层厚度为0.2～2微米的雾面涂层剂；将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液；将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；将预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液；在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金。本发明提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题。

Description

便于剥离的雾面离型膜的制备工艺
技术领域
本发明涉及一种离型膜制备方法，特别涉及一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺。
背景技术
离型纸又称隔离纸、防粘纸，主要用于贴覆在胶带的表面用于保护胶带表面的胶粘剂层。现有的离型纸一般是在离型纸底纸层的表面淋膜一层淋膜层（采用的材料主要有聚乙烯），然后在淋膜层的表面涂布一层离型剂层（采用的材料主要为硅油）得到离型纸。但是由于淋膜层平整度高，离型剂涂层与淋膜层之间附着力差，当离型纸与涂覆有高粘度粘合剂的贴膜贴附时，容易导致离型纸上的离型剂涂层被粘附力更大的粘合剂带走，从而在贴膜的局部表面形成难以清理掉的离型剂涂层区域，破坏了贴膜整体的纯净、一致性。
发明内容
本发明提供一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，该雾面离型膜的制备工艺提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题，有利于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层上。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，所述雾面离型膜由聚酯薄膜层、雾面涂层和离型剂涂层依次层叠构成，其特征在于：所述雾面涂层朝向离型剂涂层表面具有若干个凸起部；所述雾面离型膜制备工艺主要由下列步骤组成：
第一步：在聚酯薄膜层上涂覆一层厚度为0.2～2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂进一步通过以下工艺获得：
步骤1. 将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 
步骤2. 将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；
步骤3. 将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液；
步骤4. 在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金；
第二步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层；
第三步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
上述技术方案中进一步改进的技术方案如下：
1. 上述方案中，所述纳米SiO2粉体的直径范围为10~15nm，所述纳米Al2O3粉体的直径范围为25~35nm。
2. 上述方案中，所述聚酯薄膜层为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点和效果：
本发明便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，特定直径的纳米SiO2粉体、纳米Al2O3粉体在溶剂下与硅烷偶联剂经超声波共同作用，且机械搅拌和超声波搅拌组合，有利于纳米SiO2粉体、Al2O3粉体呈均匀分布，特定的聚合物溶液和预分散液采用不同的溶剂，降低纳米SiO2粉体、Al2O3颗粒的表面能，进一步利于粉体颗粒在溶剂中的分散，提高了与离型剂涂层接触的雾面涂层表面粗糙度均匀性，解决离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不稳定的技术问题，有利于剥离以及避免残留压敏胶和将离型剂残留于压敏胶层上。
附图说明
附图1为本发明便于剥离的雾面离型膜结构示意图；
附图2a为现有的雾面涂层微观形貌SEM测试图；
附图2b为本发明制备工艺获得的雾面涂层微观形貌SEM测试图。
以上附图中：1、聚酯薄膜层；2、雾面涂层；3、离型剂涂层；4、凸起部。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述：
实施例1~5：一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，所述雾面离型膜由聚酯薄膜层1、雾面涂层2和离型剂涂层3依次层叠构成，其特征在于：所述雾面涂层2朝向离型剂涂层3表面具有若干个凸起部4；所述雾面离型膜制备工艺主要由下列步骤组成：
第一步：在聚酯薄膜层1上涂覆一层厚度为0.2～2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂进一步通过以下工艺获得：
步骤1. 将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 
步骤2. 将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；
步骤3. 将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液；
步骤4. 在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金；
实施例1~5雾面涂层各组分重量份含量见表1。
表1
  实施例一 实施例二 实施例三 实施例四 实施例五
乙烯基硅氧烷 100份 100份 100份 100份 100份
含氢硅氧烷 0.3份 0.5份 0.4份 0.35份 0.9份
纳米SiO2粉体 0.5份 0.6份 1份 0.8份 0.4份
纳米Al2O3粉体 0.45份 0.25份 0.2份 0.5份 0.6份
硅烷偶联剂 0.35份 1份 0.4份 0.45份 0.9份
甲苯 8~10份 8份 8.5份 9份 8份
丁酮 120份 125份 150份 135份 130份
第二步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层；
第三步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
上述纳米SiO2粉体的直径范围为12nm，所述纳米Al2O3粉体的直径范围为30nm。
上述实施例1中聚酯薄膜层1为聚丙烯薄膜，实施例2中聚酯薄膜层1为聚乙烯薄膜，实施例3中聚酯薄膜层1为聚氯乙烯薄膜，实施例4中聚酯薄膜层1为聚乙烯薄膜，实施例5中聚酯薄膜层1为聚氯乙烯薄膜。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1. 一种便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，所述雾面离型膜由聚酯薄膜层（1）、雾面涂层（2）和离型剂涂层（3）依次层叠构成，其特征在于：所述雾面涂层（2）朝向离型剂涂层（3）表面具有若干个凸起部（4）；所述雾面离型膜制备工艺主要由下列步骤组成：
第一步：在聚酯薄膜层（1）上涂覆一层厚度为0.2～2微米的雾面涂层剂，该雾面涂层剂进一步通过以下工艺获得：
步骤1. 将0.3~1份纳米SiO2粉体、0.2~0.6份纳米Al2O3粉体和0.3~1份硅烷偶联剂加入8~10份甲苯中进行超声波处理获得预分散液； 
步骤2. 将100份乙烯基硅氧烷、0.3~1份含氢硅氧烷加入120~150份丁酮中进行机械搅拌获得聚合物溶液；
步骤3. 将步骤1的预分散液、步骤2的聚合物溶液混合并依次进行机械搅拌和超声波搅拌，从而获得调制后的聚合物溶液；
步骤4. 在所述调制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份铂金；
第二步：将离型纸的雾面涂层剂通过烘烤进行聚合反应得到雾面涂层；
第三步：在所述雾面涂层的表面涂覆一层离型剂涂层。
2. 根据权利要求1所述的便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，其特征在于：所述纳米SiO2粉体的直径范围为10~15nm，所述纳米Al2O3粉体的直径范围为25~35nm。
3. 根据权利要求1所述的便于剥离的雾面离型膜的制备工艺，其特征在于：所述聚酯薄膜层（1）为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚氯乙烯薄膜。
CN201310467946.4A 2013-10-09 2013-10-09 便于剥离的雾面离型膜的制备工艺 Pending CN104549973A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310467946.4A CN104549973A (zh) 2013-10-09 2013-10-09 便于剥离的雾面离型膜的制备工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310467946.4A CN104549973A (zh) 2013-10-09 2013-10-09 便于剥离的雾面离型膜的制备工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104549973A true CN104549973A (zh) 2015-04-29

Family

ID=53067656

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310467946.4A Pending CN104549973A (zh) 2013-10-09 2013-10-09 便于剥离的雾面离型膜的制备工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104549973A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114196342A (zh) * 2020-09-17 2022-03-18 昆山高品导热材料有限公司 吸波导热绝缘垫片
CN117903694A (zh) * 2024-03-19 2024-04-19 扬州万润光电科技股份有限公司 一种光固化离型剂、耐酸碱性离型膜及其制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1506412A (zh) * 2002-12-10 2004-06-23 东丽世韩有限公司 利用硅氧烷水乳液脱模液生产剥离薄膜的方法
US20070197678A1 (en) * 2006-02-21 2007-08-23 Goldschmidt Gmbh Process for producing siloxane-containing release coatings
CN101579904A (zh) * 2009-06-15 2009-11-18 上海市合成树脂研究所 一种黑色亚光聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN102250535A (zh) * 2011-05-19 2011-11-23 苏州斯迪克电子胶粘材料有限公司 一种用于制备飞机机壳内壁绝缘袋的亚光涂料及其制备方法
CN102330382A (zh) * 2011-07-12 2012-01-25 苏州斯迪克电子胶粘材料有限公司 一种雾面离型纸及其制备方法
CN202174784U (zh) * 2011-07-12 2012-03-28 苏州斯迪克电子胶粘材料有限公司 一种雾面离型膜

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1506412A (zh) * 2002-12-10 2004-06-23 东丽世韩有限公司 利用硅氧烷水乳液脱模液生产剥离薄膜的方法
US20070197678A1 (en) * 2006-02-21 2007-08-23 Goldschmidt Gmbh Process for producing siloxane-containing release coatings
CN101579904A (zh) * 2009-06-15 2009-11-18 上海市合成树脂研究所 一种黑色亚光聚酰亚胺薄膜的制备方法
CN102250535A (zh) * 2011-05-19 2011-11-23 苏州斯迪克电子胶粘材料有限公司 一种用于制备飞机机壳内壁绝缘袋的亚光涂料及其制备方法
CN102330382A (zh) * 2011-07-12 2012-01-25 苏州斯迪克电子胶粘材料有限公司 一种雾面离型纸及其制备方法
CN202174784U (zh) * 2011-07-12 2012-03-28 苏州斯迪克电子胶粘材料有限公司 一种雾面离型膜

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114196342A (zh) * 2020-09-17 2022-03-18 昆山高品导热材料有限公司 吸波导热绝缘垫片
CN117903694A (zh) * 2024-03-19 2024-04-19 扬州万润光电科技股份有限公司 一种光固化离型剂、耐酸碱性离型膜及其制备方法
CN117903694B (zh) * 2024-03-19 2024-05-31 扬州万润光电科技股份有限公司 一种光固化离型剂、耐酸碱性离型膜及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103740294B (zh) 防眩光丙烯酸贴膜
CN104650759A (zh) 一种透明的高导热胶带及其制备方法
CN104549973A (zh) 便于剥离的雾面离型膜的制备工艺
CN104562838A (zh) 高附着力雾面离型纸的制备工艺
CN103756585B (zh) 高粘性丙烯酸胶带的制备工艺
CN104553101B (zh) 增印保护膜
CN105524569A (zh) 一种具有闪钻效果的ab胶膜及其制备方法
CN105600774B (zh) 一种石墨烯“卷对卷”转移装备及转移方法
CN202169740U (zh) 一种雾面离型纸
CN104559817B (zh) 电子产品用保护贴膜
CN203923085U (zh) 一种高透光性光学pu保护膜
CN103738019B (zh) 建筑玻璃用胶带的制造工艺
CN104774568A (zh) 雾面胶带的制备工艺
CN202174784U (zh) 一种雾面离型膜
CN105086868A (zh) 高粘接力的丙烯酸贴膜
CN104774567A (zh) 保护贴膜的制造方法
CN105086889A (zh) 高粘接力的溶剂型胶黏剂
CN104610884A (zh) 用于显示屏的防刮保护膜
CN203833864U (zh) 哑光面离型膜
CN104774581A (zh) 高粘性丙烯酸胶黏剂
CN104610889A (zh) 高黏性丙烯酸胶粘剂

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20150429

RJ01 Rejection of invention patent application after publication