CN104535593B - 一种用于辐射装置的调节装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于辐射装置的调节装置，包括：底座、射线源支架、夹紧装置、第一调节装置；所述底座固定在射线源支架上，所述射线源装置放置在底座上，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧所述射线源装置；所述底座与所述射线源支架之间限定一定的第一滑动路径，夹紧所述射线源装置的所述底座可在预定方向上沿所述第一滑动路径移动；所述第一调节装置与所述底座相结合驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动。本发明提供的用于辐射装置的调节装置，通过优化结构，以最少的铅达到完全屏蔽作用，并使射线源装置在三个自由度都能独立精准调节，从而在硬件上保证了CT成像质量。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于辐射装置的调节装置，属于辐射检测技术领域。
背景技术
在目前的现有技术中，涉及CT安全检查系统包括用作射线源装置的X光机。射线源装置的发出X射线束以对CT扫描通道中的待检查物体或人进行扫描。但是，在现有技术中，用于固定射线源装置的装置不能很方便地调节，并调整精度较差。而且，由于准直器与射线源装置的分别设置，从而调节一致性较差，并且造成射线源装置的调节定位装置的结构庞大。射线源装置的没有对射线源进行屏蔽，只能对射线源沿射线源轴线方向平移调节和以轴线为轴进行旋转调节。
射线源装置是安检CT的核心部件，射线源靶点位置的精准度对CT成像质量有很大的影响，射线源靶点几何精度低，需要通过调节来达到最佳效果。同时，射线源装置的作为射线的源头，其可靠的射线屏蔽对整机的辐射防护起关键作用，现有技术存在屏蔽不彻底，调节环节少，调节机构没有导向，调节精度较低，导致CT的成像质量差或者调节环节不独立等缺点。另外现有的X光机存在屏蔽不彻底，调节环节少，或者调节环节不独立等缺点。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：可以在三自由度独立调节，以最少的屏蔽材料实现彻底屏蔽。
为实现上述的发明目的，本发明提供了一种用于辐射装置的调节装置，包括：
底座、射线源支架、夹紧装置、第一调节装置；
所述底座固定在射线源支架上，所述射线源装置放置在底座上，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧所述射线源装置；
所述底座与所述射线源支架之间限定一定的第一滑动路径，夹紧所述射线源装置的所述底座可在预定方向上沿所述第一滑动路径移动；
所述第一调节装置与所述底座相结合驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动。
其中较优地，所述第一调节装置设置在所述射线源装置轴向方向上，所述第一调节装置与所述底座相结合驱动所述底座沿所述第一滑动路径在所述射线源装置轴向方向移动。
其中较优地，所述第一调节装置包括安装到所述底座上的第一调节螺杆，所述第一调节螺杆具有第一螺纹部分；所述射线源支架上设置有与第一螺纹部分配合的第二螺纹部分以驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动；或
所述第一调节装置包括安装到所述射线源支架上的第一调节螺杆，所述第一调节螺杆具有第一螺纹部分；所述底座上设置有与第一螺纹部分配合的第二螺纹部分，以驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动。
其中较优地，所述底座与所述射线源支架相接触的位置还设置有供所述底座在预定方向上沿所述第一滑动路径移动的第一导向装置。
其中较优地，所述第一导向装置包括在所述射线源支架上的凸棱和在所述底座上与所述凸棱相配合的凹槽；或
所述第一导向装置包括在所述底座上的凸棱和在所述射线源支架上与所述凸棱相配合的凹槽。
其中较优地，还包括扇型盒和第二调节装置；
所述射线源支架固定在所述扇型盒上，所述射线源支架与所述扇型盒之间限定一定的第二滑动路径，夹紧所述射线源装置的所述底座和所述射线源支架可在预定方向上沿所述第二滑动路径移动；
所述第二调节装置与所述射线源支架相结合驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动。
其中较优地，所述第二调节装置设置在垂直于线源装置的束流方向上，所述第二调节装置与所述射线源支架相结合驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径在所述垂直于线源装置的束流方向上移动。
其中较优地，所述第二调节装置包括安装到所述射线源支架上的第二调节螺杆，所述第二调节螺杆具有第三螺纹部分；所述扇型盒上设置有与第三螺纹部分配合的第四螺纹部分以驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动；或
所述第二调节装置包括安装到所述扇型盒上的第二调节螺杆，所述第二调节螺杆具有第三螺纹部分；所述射线源支架上设置有与第三螺纹部分配合的第四螺纹部分，以驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动。
其中较优地，所述射线源支架与所述扇型盒相接触的位置还设置有供所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动的第二导向装置。
其中较优地，所述第二导向装置包括在所述扇型盒上的导向销和与在所述射线源支架上的导向槽；或
所述第二导向装置包括在所述射线源支架上的导向销和与在所述扇型盒上的导向槽。
其中较优地，所述底座与所述射线源装置接触面在所述底座上还设置有第一铅屏蔽层。
其中较优地，所述夹紧装置与所述射线源装置接触面还设置有钢板层，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧钢板层和所述射线源装置固定在所述底座上。
其中较优地，所述钢板层与所述射线源装置接触面还设置有第二铅屏蔽层，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧钢板层、第二铅屏蔽层和所述射线源装置固定在所述底座上。
其中较优地，所述底座上设置有锥束射线源窗口。
其中较优地，所述锥束射线源窗口内侧设置有第三铅屏蔽层。
本发明提供的一种用于辐射装置的调节装置，通过优化结构，以最少的铅达到完全屏蔽作用，并使射线源装置在三个自由度都能独立精准调节，从而在硬件上保证了CT成像质量。
附图说明
图1是本发明用于辐射装置的调节装置立体结构示意图；
图2是本发明用于辐射装置的调节装置后视图；
图3是本发明用于辐射装置的调节装置俯视图
图4是本发明用于辐射装置的调节装置结构纵剖面图；
图5是本发明用于辐射装置的调节装置结构横剖面图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图1、图2、图5所示，本发明提供一种用于辐射装置的调节装置，该调节装置包括：底座5、射线源支架6、夹紧装置4、第一调节装置8；底座5固定在射线源支架6上，射线源装置2放置在底座5上，夹紧装置4连接底座5以夹紧射线源装置2；底座5与射线源支架6之间限定一定的第一滑动路径，夹紧射线源装置2的底座5可在预定方向上沿第一滑动路径移动；第一调节装置8与底座5相结合驱动底座5沿第一滑动路径移动。下面对本发明提供的用于辐射装置的调节装置展开详细的说明。
如图2、图5所示，第一调节装置8优选设置在射线源装置2轴向方向上，第一调节装置8与底座5相结合驱动底座沿第一滑动路径在射线源装置2轴向方向移动。通过第一调节装置可以使射线源装置2在轴线方向上水平调节。在本发明的一种实施方式中，第一调节装置8包括安装到底座5上的第一调节螺杆，第一调节螺杆具有第一螺纹部分；射线源支架6上设置有与第一螺纹部分配合的第二螺纹部分以驱动底座沿5第一滑动路径移动。当然可以理解，在本法发明的另一种实施方式中，第一调节装置8包括安装到射线源支架6上的第一调节螺杆，第一调节螺杆具有第一螺纹部分；底座上设置有与第一螺纹部分配合的第二螺纹部分，以驱动底座沿第一滑动路径移动。如图4所示，为了进一步使底座5在沿第一滑动路径移动时更精准，底座与射线源支架6相接触的位置还设置有供底座5在预定方向上沿第一滑动路径移动的第一导向装置88。第一导向装置88包括在射线源支架6上的凸棱和在底座5上与凸棱相配合的凹槽。当然可以理解，在本法发明的另一种实施方式中，第一导向装置包88括在底座5上的凸棱和在射线源支架6上与凸棱相配合的凹槽。如图2所示，为进一步体现驱动底座5沿第一滑动路径在在轴线方向上水平调节移动的距离，在底座5上(或射线源支架6上)设置有第一移动标尺80。用户可以根据第一移动标尺80的刻度精准读取底座的移动距离。
如图1、图2、图3所示，为了使射线源装置2可以在垂直于束流方向上移动，本发明提供的用于辐射装置的调节装置，还包括扇型盒1和第二调节装置7；射线源支架6固定在扇型盒1上，射线源支架6与扇型盒1之间限定一定的第二滑动路径，夹紧射线源装置2的底座2和射线源支架6可在预定方向上沿第二滑动路径移动；第二调节装置7与射线源支架6相结合驱动射线源支架6沿第二滑动路径移动。如图1所示，第二调节装置7设置在垂直于线源装置2的束流方向上，第二调节装置7与射线源支架6相结合驱动射线源支架6沿第二滑动路径在垂直于线源装置2的束流方向上移动。
如图1所示，第二调节装置7包括安装到射线源支架上6的第二调节螺杆，第二调节螺杆具有第三螺纹部分；扇型盒1上设置有与第三螺纹部分配合的第四螺纹部分以驱动射线源支架6沿第二滑动路径移动；当然可以理解，在本法发明的另一种实施方式中，第二调节装置7包括安装到扇型盒1上的第二调节螺杆，第二调节螺杆具有第三螺纹部分；射线源支架6上设置有与第三螺纹部分配合的第四螺纹部分，以驱动射线源支架6沿第二滑动路径移动。如图3所示，为了进一步使射线源支架6在沿第二滑动路径移动时更精准，射线源支架6与扇型盒1相接触的位置还设置有供射线源支架6沿第二滑动路径移动的第二导向装置77。第二导向装置77包括在扇型盒1上的导向销和与在射线源支架上的导向槽。当然可以理解，在本法发明的另一种实施方式中，第二导向装置77包括在射线源支架6上的导向销和与在扇型盒1上的导向槽。如图1、图3所示，为进一步体现驱动射线源支架6沿第二滑动路径在垂直于线源装置2的束流方向上移动的距离在上述扇型盒1上(或射线源支架6上)设置有第二移动标尺70。用户可以根据第二移动标尺77的刻度精准读取射线源支架6的移动距离。
本发明不仅可以通过第一调节装置在射线源装置2轴向方向上平移，还可以通过第二调节装置在射线源装置的束流垂直方向上平移，还可以通过旋转等方式使射线源装置2沿轴向方向上转动，从而实现用于辐射装置的调节装置在三个方向上实现三自由度独立调节，进而实现射线源装置2的精准调节。
如图1、图2、图4、图5所示，本发明的一个实施例中，为了使射线源装置产生的射线束完全屏蔽，在底座5与射线源装置2接触面在底座5上还设置有第一铅屏蔽层10。夹紧装置4与射线源装置2接触面还设置有钢板层3，夹紧装置4连接底座5以夹紧钢板层10和射线源装置2固定在底座5上。为进一步屏蔽辐射资源的辐射，钢板层9与射线源装置2的接触面还设置有第二铅屏蔽层9，夹紧装置4连接底座5以夹紧钢板层3、第二铅屏蔽层9和射线源装置2固定在底座5上。如图4图5所示，底座上设置有锥束射线源窗口50。为屏蔽射线源射线束出口处的辐射，在锥束射线源窗口内侧设置有第三铅屏蔽层11。
如图1至图5所示，本发明中为适应射线源装置的外形，底座5截面设置成半圆形，相应的在底座上设置的铅屏蔽层截面也是半圆形。为了使夹紧装置4更好的夹紧固定，夹紧装置4截面优选也设置成半圆形，优选是卡箍。夹紧装置4优选是多个。夹紧装置4的数量根据实际需要确定。多个夹紧装置4通过螺丝柱连接底座5以夹紧射线源装置。
综上所述，本发明提供的用于辐射装置的调节装置，通过优化结构，以最少的铅达到完全屏蔽作用，并使射线源装置在三个自由度都能独立精准调节，从而在硬件上保证了CT成像质量。
以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
Claims (14)
1.一种用于辐射装置的调节装置，其特征在于包括：
底座、射线源支架、夹紧装置、第一调节装置；
所述底座固定在射线源支架上，射线源装置放置在底座上，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧所述射线源装置；
所述底座与所述射线源支架之间限定一定的第一滑动路径，夹紧所述射线源装置的所述底座可在预定方向上沿所述第一滑动路径移动；
所述第一调节装置与所述底座相结合驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动；
还包括扇型盒和第二调节装置；
所述射线源支架固定在所述扇型盒上，所述射线源支架与所述扇型盒之间限定一定的第二滑动路径，夹紧所述射线源装置的所述底座和所述射线源支架可在预定方向上沿所述第二滑动路径移动；
所述第二调节装置与所述射线源支架相结合驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动。
2.如权利要求1所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述第一调节装置设置在所述射线源装置轴向方向上，所述第一调节装置与所述底座相结合驱动所述底座沿所述第一滑动路径在所述射线源装置轴向方向移动。
3.如权利要求2所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，
所述第一调节装置包括安装到所述底座上的第一调节螺杆，所述第一调节螺杆具有第一螺纹部分；所述射线源支架上设置有与第一螺纹部分配合的第二螺纹部分以驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动；或
所述第一调节装置包括安装到所述射线源支架上的第一调节螺杆，所述第一调节螺杆具有第一螺纹部分；所述底座上设置有与第一螺纹部分配合的第二螺纹部分，以驱动所述底座沿所述第一滑动路径移动。
4.如权利要求1所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述底座与所述射线源支架相接触的位置还设置有供所述底座在预定方向上沿所述第一滑动路径移动的第一导向装置。
5.如权利要求4所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述第一导向装置包括在所述射线源支架上的凸棱和在所述底座上与所述凸棱相配合的凹槽；或
所述第一导向装置包括在所述底座上的凸棱和在所述射线源支架上与所述凸棱相配合的凹槽。
6.如权利要求1所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，
所述第二调节装置设置在垂直于线源装置的束流方向上，所述第二调节装置与所述射线源支架相结合驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径在所述垂直于射线源装置的束流方向上移动。
7.如权利要求6所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，
所述第二调节装置包括安装到所述射线源支架上的第二调节螺杆，所述第二调节螺杆具有第三螺纹部分；所述扇型盒上设置有与第三螺纹部分配合的第四螺纹部分以驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动；或
所述第二调节装置包括安装到所述扇型盒上的第二调节螺杆，所述第二调节螺杆具有第三螺纹部分；所述射线源支架上设置有与第三螺纹部分配合的第四螺纹部分，以驱动所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动。
8.如权利要求6所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述射线源支架与所述扇型盒相接触的位置还设置有供所述射线源支架沿所述第二滑动路径移动的第二导向装置。
9.如权利要求8所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述第二导向装置包括在所述扇型盒上的导向销和与在所述射线源支架上的导向槽；或
所述第二导向装置包括在所述射线源支架上的导向销和与在所述扇型盒上的导向槽。
10.如权利要求1所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，
所述底座与所述射线源装置接触面在所述底座上还设置有第一铅屏蔽层。
11.如权利要求1所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，
所述夹紧装置与所述射线源装置接触面还设置有钢板层，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧钢板层和所述射线源装置固定在所述底座上。
12.如权利要求11所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述钢板层与所述射线源装置接触面还设置有第二铅屏蔽层，所述夹紧装置连接所述底座以夹紧钢板层、第二铅屏蔽层和所述射线源装置固定在所述底座上。
13.如权利要求1所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述底座上设置有锥束射线源窗口。
14.如权利要求13所述的用于辐射装置的调节装置，其特征在于，所述锥束射线源窗口内侧设置有第三铅屏蔽层。
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