CN104515553A - 具有改进的皮托管结构的基于压差的流量测量装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种压差流量测量系统，包括连接到测量电路的压力传感器。细长探测器被配置以插入到管道中，所述管道载送过程流体流。压力传感器感测在流体流过探测器时在流体流中产生的压差。涡旋脱落稳定器定位成接近细长探测器并且定位在过程流体流中。涡旋脱落稳定器被配置以稳定靠近细长探测器的流体流中的涡旋脱落。

Description

具有改进的皮托管结构的基于压差的流量测量装置

技术领域

本发明涉及测量工业过程中的过程流体的流量。更具体地，本发明涉及采用使用压差的均速皮托管或均速管流量计(averaging pitot tube)测量流量。

背景技术

过程工业采用过程变量变送器以监测与物质相关的过程变量，所述物质例如是化工、纸浆、石油、制药、食品和其它处理设备中的固体、泥浆、液体、蒸汽和气体。过程变量包括压力、温度、流量、液位、浑浊度、密度、浓度、化学组成及其它性能。过程流量变送器提供与感测到的过程流体流量相关的输出。流量变送器输出可以在过程控制回路上被发送到控制室，或者该输出可以被发送至另一个过程设备，以便可以监测和控制该过程的操作。

通过改变管道的内部几何形状并且应用算法到在流动流体中的被测量的压差来测量在密闭的管道中的流体流量是已知的。传统地，如通过采用文丘里流量计改变管道的横截面，或通过将流动改变装置，如节流板、均速皮托管等插入该管道中，改变该管道的几何形状。

均速皮托管均速皮托管大致包括稍微阻碍管道内的流体流的主体。该皮托管的上游和下游间的压差被测量并且与流量相关。但是，不同压差变化可能在流量确定中引起误差。

发明内容

一种压差流量测量系统，包括连接到测量电路的压力传感器。细长探测器被配置以插入载送过程流体流的管道中。压力传感器感测在流体流经探测器时在流体流中产生的压差。涡旋脱落稳定器定位成接近细长探测器并且定位在过程流体流中。涡旋脱落稳定器被配置以稳定靠近细长探测器的流体流中的涡旋脱落。

附图说明

图1示出本发明的流量测量系统和过程管道的剖视图。

图2是根据本发明的一个示例性实施例的流量测量系统和流量变送器的简化框图。

图3A是均速皮托管和在过程流体流过该管时产生的涡旋脱落的透视图。

图3B、3D和3F是压力幅值与时间关系的曲线图。

图3C和3E是针对各种涡旋脱落情况的压力幅值与频率关系的曲线图。

图4A是图1中所示的均速皮托管的前视图并且图示示例性的边界层导流栅。

图4B是在图1中所示的均速皮托管的后视图并且图示示例性的边界层导流栅。

图4C是在图1中所示的均速皮托管的透视图并且图示示例性的边界层导流栅。

图5A和图5B是包括被布置为位于均速皮托管的下游的板的涡旋脱落稳定器的均速皮托管的顶部剖视图。

图5C是具有下游板的均速皮托管的另一个配置的顶部剖面图。

图6是涡旋脱落稳定器的另一个示例性实施例的透视图。

具体实施方式

如在背景技术部分所讨论的，基于均速皮托管的流量传感器通常通过在流动的流体中产生压差进行操作。压差传感器可以用于感测该压差，并且所感测的压力可以与过程流体的流量相关。已知的是，如果从皮托管获得的上游和下游压力是横跨流管的直径取得的平均压力，则可以得到更精确的流量测量。虽然这的确提供更精确的流量动测量，但由于在流体移动通过探测器时在压差中产生的不稳定振荡，在流量测量中仍然可能出现误差。特别地，低频振荡可能被不正确地检测为流量变化。本发明稳定涡旋脱落低频振荡，并且因而提供更精确的流量测量。这将在下面被更详细地描述。

图1是图示本发明的实施例的环境的一个例子的过程控制系统10的示意图。流量测量系统12通过过程控制回路16被连接至控制室14(被建模为电压源和电阻)。回路16可以利用适当的协议在流量变送器12和控制室14之间通信流量信息。例如，过程控制回路16根据过程工业标准协议操作，如可寻址远程传感器高速通道(HART)、FOUNDATION^TM现场总线或任何其它合适的协议。此外，过程控制回路16可以包括其中信息被以无线方式传送的无线过程控制会路，例如，使用按照IEC62591标准的无线HART通信协议。可以使用其它通信技术，包括以太网或光纤连接。

图1还示出诸如管道或封闭管道18之类的过程流体容器，在该过程流体容器中安装压差测量探测器20。探测器20是均速皮托管，其径向地横跨管道18的内侧。图1中的方向箭头24表示在管道18中的流体流动的方向。流体歧管26和流量变送器壳体13被示出为安装在皮托管20的外端上。变送器壳体13可以包括压差传感器28，压差传感器28通过多个通道30流体地连接到探测器20。另外地，图1示出可选的辅助传感器连接件27，辅助传感器连接件27用于将由探测器20携带的一个或多个过程变量传感器连接到流量变送器13内的电路。例如，这可以被用来连接到温度传感器。如下面更详细地说明的那样，涡旋脱落稳定器(在图1中未示出)被定位成靠近探测器20以稳定靠近探测器20的涡旋脱落振荡。

图2是流量变送器12的系统框图。流量测量变送器12包括流量变送器壳体13和压差测量探测器20。流量测量变送器12能够连接至诸如回路16之类的过程控制回路，并且适合于发送与管道18内的过程流体流的流量相关的过程变量输出。变送器12包括回路通信器2、压差传感器28、测量电路34和控制器36。

回路通信器32连接至诸如回路16的过程控制回路，并且适于在过程控制回路上进行通信。这种通信可以依照诸如上面所讨论的协议的任何合适的过程工业标准协议。

第一和第二端口38，40通过通道30连通到探测器20的相应的第一和第二集流腔室(plenum)42，44。传感器28可以是具有响应于所施加的压力的变化而变化的电特性的任何装置。例如，传感器28可以是电容式压力传感器，在电容式压力传感器中，电容响应于在端口38和40之间施加的压差而变化。也可以使用其他的测量技术。

测量电路34被连接到传感器28并且被配置以提供与端口38和40之间的压差有关的传感器输出。测量电路34可以是能够提供与压差有关的适当信号的任何电子电路。例如，测量电路34可以是模数转换器、电容-数字转换器或任何其它适当的电路。

控制器36被连接到测量电路34和回路通信器32。控制器36适于提供过程变量输出到环路通信器32，该过程变量输出与由测量电路34提供的传感器输出相关。控制器36可以是微处理器或者任何其他适当的装置。通常地，控制器36将压差转换成与过程流体的流量相关的输出。控制器36可以执行补偿，例如，使用曲线拟合技术或类似技术来调整压差和流量之间的非线性关系。其他因素可以被用于补偿流量测量，包括补偿由于温度、被感测的过程流体、绝对压力等引起的变化。

虽然已经相对于各个模块描述了环路通信器32、测量电路34和控制器36，可以设想，它们例如可以结合在专用集成电路(ASIC)中。同样地，在基于微处理器系统中的各种软件组件可以实现测量电路34、控制器36和通信器环路32的各方面。

压差测量探测器20通过通道30被连接到变送器壳体13。因此，传感器28的端口38被连接到第一集流腔室42，而传感器28的端口40被连接到第二集流腔室44。“集流腔室(plenum)”是具有特定特征或压力的流体被引导或允许进入的通路、通道、管道等，并且流体压力通过“集流腔室”被传导或者输送。

在图示的实施例中，第一(上游)集流腔室42包括至少一个冲击孔(impact aperture)48并被设置以将来自探测器冲击(或上游)面46的压力传送到传感器28的端口38。孔48可以是任何适当的结构。孔48包括纵向构件，在一些实施例中，该纵向构件可以足够长，使得孔48(如槽)将与探测器20的纵向轴线基本上对齐。第二(下游)集流腔室44包括在下游与冲击面46间隔开的非冲击(或下游)面50。非冲击面50包括至少一个非冲击孔52，非冲击孔52设置成通过集流腔室44将来自非冲击面的压力传送到传感器28的端口40。所测量的压力的位置是用于描述目的，并且本发明并不限于此配置。

正如在背景技术部分中所讨论的，压差的变化可以在流量测量中导致误差。已经注意到，诸如均速皮托管(APT)流量计之类的基于皮托管的流动计可以在其输出中具有明显的变化量。APT在其上游侧和下游侧之间生成压差。这可以用在如下等式中以测量质量或体积流量：

$\mathrm{Qmass}=N\×K\×D^2\×Y_1\×\sqrt{\mathrm{DP}\×\mathrm{\ρ}}$ 等式(1)

$\mathrm{Qvolumetric}=N\×K\×D^2\×Y_1\×\sqrt{\mathrm{DP}/\mathrm{\ρ}}$ 等式(2)

在等式(1)和(2)中，质量流量是每单位时间的质量单位(千克/小时、磅/秒等等)，体积流量是每单位时间的实际体积单位(实际立方英尺/小时、实际立方米/分钟等等)。项N是常数转换因数，它的值由在方程(1)和(2)中的各种其他项的单位确定。在方程(1)和(2)中的变量是管道直径D、气体膨胀因数Y1、流体密度ρ和压差(DP)，管道直径D是温度的函数，气体膨胀因数Y1考虑在其改变通过设备的速度时流体的密度的变化并且是压差和静压力的比的函数，流体密度ρ是静压力和温度的函数，并且压差(DP)是在APT的前面和后面之间测得的。其余项是流量系数K。这是经验项，其量化通过流量计的真正流量与通过流量计的理论流量的比例。流量系数可以简单为常数，或者其可以是雷诺数的函数。

注意，K是经验项。确定K值的需要凭经验地来自如下事实：围绕APT的流场呈现来自探测器20的前缘的流动的分离，在下游侧产生高度湍动的回流区或紊流区(recirculation zone)。在回流区中的压力场具有明显的不稳定变化，这导致压差(DP)的变化。有助于DP(或者，代替地，K)的变化的另一个因素是，典型的APT的宽度比管道的直径小很多。这种结构的最终结果是，典型的APT应用涉及横跨管道的细长的支柱。与APT有一定的相似之处的另一个流量技术是涡街流动计。在这种类型的流量计中，涡旋脱落体跨越管道(类似于APT)，并且在下游上包括具有类似的高度湍动的回流区或紊流区的流动分离(flow separation)。这些技术之间的差别在于阻塞因数。这在下述等式(3)中被限定：

$B=\frac{4\×d}{\mathrm{\π}\×D}$ 等式(3)

在等式(3)中，d是面对输入流的APT的宽度(对于涡旋流量计，它是脱落杆的宽度)，并且D是管道直径。对于涡旋流量计，阻塞因数对于所有流量计尺寸保持基本相同(对于每个管道尺寸，脱落杆宽度变化)，而对于APT流量计，给定的APT可以用于宽范围的管道尺寸。对于APT，这意味着，当管道尺寸针对给定APT宽度增加时，阻塞因数会减小。对于涡街流量计，堵塞保持不变，以利用动态相似性，并且确保所有流量计具有相同的流体动力特性。这一策略已被证明对于涡旋流量计是成功的，主要是由于涡旋脱落以大的二维方式表现的事实。也就是说，尽管存在脱落杆跨过管道的事实，翼展方向影响是微乎其微的。已经指出只要翼展长度与脱落栏宽度的比介于约4∶1和5∶1之间，则涡旋脱落现象沿着翼展方向保持一致。几乎所有的商业涡旋流量计在设计时都考虑到这一点。大多数APT附近的分离的流场是它们正在脱落旋涡的指示。

在APT中，通过从上游侧的滞止压力中减去(在尾流区中测量的)下游压力得到压差。通常是在具有用于平均流动流上的压力的多个压力端口的集流腔室中测量这两种压力。大部分的压差信号来自吸入或下游。鉴于此，尽量减少在下游上在压力场中的波动是重要的。

APT的尾流(wake)在很大程度上受涡旋脱落支配。对于其中堵塞较高的较小的管道尺寸，涡旋脱落沿着APT的翼展方向可能更均匀。随着管道尺寸增大和阻塞因数减小，沿着翼展方向的涡旋脱落的相干性(coherence)可能变得不那么明显。这类似于在旋风形成中所发生的。形成旋风的弯曲形状在其下降到地面时扭曲。在APT的情况下，流动分离沿着APT的面并不保持固定。相反地，涡旋的轴线在其一些部分在其它部分之前分开时被扭曲。涡旋脱落沿着脱落件(shedder)的翼展方向不相干。注意，频率f_m1和f_m2可以不具有如图3C中所示的离散的和可识别的频谱。在对应于f_m1和f_m2的压力信号中可能存在或可能不存在可识别的频率。然而，将具有如图3C中图示的涡旋脱落峰值的一般宽展，与在图3E中图示的尖锐峰值相反。

在APT系统中，具有必须考虑的四个压力影响。首先，上游压力(滞止压力)将沿着APT的翼展方向略有变化。这是由在管道中的速度分布引起。对于充分发展的湍流管流，压力在中心中稍微达到峰值。因此，滞止压力将沿着APT的正面变化。可能存在在上游集流腔室中建立的某种次要流动，但是其不可能是动态影响，并且因而不会导致测得的滞止压力的压力变化。其次，在流动开以在探测器的任一侧附近行进时，具有在探测器的上游横向地振荡的上游压力。其他两个压力影响发生在下游压力测量上。首先，具有由于涡旋本身引起的压力波动。例如，涡旋脱落频率的范围对于液体应用大约是5赫兹至100赫兹的量级，对于气体应用大约是100赫兹到1000赫兹的量级些。典型的压差变送器的频率响应通常使得对于大大超过10赫兹的频率，压力波动被衰减到检测不到的点。因此，下游压力的波动应该只涉及液体流动应用中非常低的速度。因为涡旋的强度(即，压力波动的幅度)与速度的平方相关，在低速处的压力波动变得相对小。更值得关注的是尾流压力中的波动，其将由没有沿着APT的翼展方向相干地脱落的涡旋引起。这可能会造成沿着APT的背面的压力梯度，这可能引导在下游集流腔室中的次要流动。这样的波动和/或次要流动可以缓慢地变化和/或具有随机性质。这样的变化将它们表现为压差信号中的低频振荡。用于压差变送器的固定采样率将使得流量计的输出嘈杂和可重复性较少。

在流动中形成在物体的下游侧的涡旋具有非常复杂的结构，其随着位置和时间两者变化。图3A是高度简化的示意图，示出在探测器20的后缘(非碰撞侧)50上形成的拖尾涡旋33-1，33-2和33-3。涡旋33-1，33-2和33-3形成在沿着探测器20的长度的不同位置处。这些可以被看作是通过过程艺流体的单独部分，并且实际涡旋沿着探测器20的长度连贯地形成，因为它们在图3A中还向下游(向右侧)移动。单独的涡旋迅速形成并且在探测器20的任一侧之间振荡。而且，涡旋的定位、形状和定时沿着探测器20的长度变化。图3B是图示用于图3A中显示的涡旋33-1的压力幅值与时间的关系的曲线图。如图3B所示，具有被包含在被图示为f_m1-2的较低频率包络线内的主涡旋振荡f_v。这些频率被图示在图3C中显示的频率与幅值的关系曲线中。在图3C中，显示低频率f_m1和f_m2以及主涡旋脱落频率f_v。大致情况下，f_v位于足够高的频率处，使得其不干扰用于确定流量的压力测量产生。然而，通过频率f_m1和f_m2形成的较低频率的包络线可能被用来测量压差的压力传感器感测到，并且引起流量测量中的误差。正如下面更详细讨论的，下游元件可以用来减少调制脱落频率f_v的低频包络线，并且因而减少流量测量中的误差。图3E是压力幅值与时间的关系曲线图，显示当使用下游元件时对涡旋脱落的影响。类似地，图3E是幅值与频率的关系曲线图。如图3D和3E中显示，通过频率f_m1和f_m2形成的低频包络线被取消。因此，压力测量中的误差减小。

如沿着探测器的长度观察到那样，除了低频振荡，单独的涡旋还呈现的是，存在涡旋的定时变化。图3F是对于涡旋33-1和33-2的幅值与时间的关系曲线图。如图3F所示，在这些涡旋之间具有时域偏移(temporal shift)。在图3F中图示的时域偏移可能在探测器20的集流腔室中引入压力变化，这导致流动测量的误差。正如下面更详细讨论，边界层导流栅可以定位成靠近探测器20，以减少这些时域变化，并且因而提高流量测量精度。图4A、4B和4C示出这种边界层导流栅的示例性实施例。

图4A是显示探测器20的前缘的正视图，和图4B是示出探测器20的后缘的后视图。在图4A中，上游开口48沿着探测器20的上游面对侧的翼展方向延伸。同样地，在图4B中，开口52沿着探测器20的下游面对侧的翼展方向在探测器20的可选的下游元件54的任一侧上延伸。在图4A和4B中，显示多个涡旋脱落稳定边界层导流栅80，并且如下面详细说明的那样操作。图4C是探测器20的透视图，并且图示在探测器20的外周边附近延伸的边界层导流栅80的一个示例配置。

在图4A-C中显示的边界层导流栅80用来破坏沿着探测器20的翼展方向的外部压力连通。这允许流体表现得好像其被限制到在相干长度之内的几何形状。这用来调整涡旋脱落。导流栅的适当大小和开口位置将使得涡旋脱落沿着探测器20的翼展方向更均匀，导致更可重复的压差。进一步地，除了边界层导流栅80的尺寸和开口48，52的定位，可以在不同的点处调整探测器20的宽度，以增强涡旋的规则性。这在速度略低的管壁附近是最重要的。更靠近管壁的边界层导流栅80可以帮助减少这些影响。在一个方面中，边界层导流栅80的尺寸和/或构造沿着探测器20的翼展方向变化。虽然边界层导流栅80被显示为平坦元件，但可以使用任何适当的配置。另外，边界层导流栅80的间距、位置、尺寸和形状可以根据需要改变。

图5A和5B示出示例的下游元件用于提高涡旋脱落的相干性并且因而减少压差测量中的由于在图3B和3C中所示的低频成分引起的变化。图5A和图5B是探测器20的一个配置的顶部剖视图，示出上游集流腔室42和下游集流腔室44。梯形APT被示出，但是，形状可以根据需要而变化。在APT下游的是被布置为板90的涡旋脱落稳定器，板90在几个点处连接到APT，但是允许流动在板90和探测器20之间通过。请注意，下游集流腔室44可以由板90支承。在这样的结构中，从集流腔室通向过程流体的压力端口将被定位在平板90的下游测。这样的结构被图示在图5C中，其中板90在集流腔室42的下游并且形成集流腔室44。最初，当流体接近探测器20时，当流动在探测器的面上横向地振荡时，发生上游振荡93。流体最初从APT的前缘92分离以形成涡旋。在它们被完全形成之前，流体从下游板90的角部94再次分离。流动可视化实验和原型已经表明，这样的配置在APT20和板90之间产生具有较强横流(即，在图5A和5B的上下方向中)的极其有规则的(即，涡旋频率在给定的流量处的较小的标准偏差)和强烈的涡旋。如在图5A和5B中显示，上游42和下游44集流腔室测量在各自的上游面上的滞止压力以及在下游侧的APT和板之间的压力。涡旋的形成在探测器20的相对侧面之间振荡。在图5A中，涡旋朝向页面的顶部形成，其导致流体在从页面底部到页面顶部的方向上在探测器20和板90之间流动。与此相反，在图5B中，形成朝向页面底部涡旋，导致探测器20和板90之间的流体在朝向页面底部的方向上流动。在探测器20和板90之间的这种流动以稳定的方式振荡，因而消除了上面所讨论的由不稳定低频压力振荡f_m1和f_m2引起的流量测量中的误差。

图6是均速皮托管探测器20的立体图，显示在图5中示出的配置的另一个示例实施例。在图6中，沿着下游元件54的翼展方向布置多个开口96。如图6所示，下游元件54形成探测器20的T形细长肋。开口96在下游元件54的相对的侧面之间延伸，并且允许其间的流体连通。这以类似于在图5A和5B中图示的在探测器20和板90之间的间距的方式操作。

在一种配置中，为了减少由于来自如在图5A和5B中所示的配置的增强涡旋引起的压力动，在集流腔室42，44和压力传感器28之间可以设置限制装置。这样的限制装置应该被选择为不降低APT/DP传感器系统的时间响应，并且不降低APT检测实际流量变化的能力。

虽然已经参照优选实施例描述本发明，本领域的技术人员将认识到，在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以在形式和细节上进行变化。如本文中所使用，用语“皮托管”通常是指插入流体流中的探测器。“皮托管”不要求用于引导从过程流体的流动内部到外部压力传感器的压力的内部通路。按照本发明，涡旋脱落稳定器被定位过程流体的流动中，接近细长探测器。涡旋脱落稳定器可以是任何配置，并且包括边界层导流栅80，82(图4A-C)以及外部板(下游元件)90(图5A-C和图6)。然而，本发明包括任何涡旋脱落稳定器配置并且不限于本文图示的这些。在一个配置中，可以使用边界层导流栅80和外部板90的组合，以进一步改善压差测量。这里示出的均速皮托管具有“T”形。在图6中，显示孔96，孔96延伸通过“T”形的基部，由此元件54提供下游元件。压差传感器可以由单个压力传感器形成或使用多个压力传感器。

Claims (30)

1.一种基于压差的流量测量系统，包括：

压差传感器，该压差传感器具有与过程流体的流量相关的压力传感器输出；

连接到压差传感器的细长探测器，该细长探测器被配置以插入载送过程流体流的管道中；

在细长探测器中的上游集流腔室，该上游集流腔室具有至少一个上游开口，所述至少一个上游开口连接到压差传感器，由此将上游压力施加到压差传感器；

在所述管道中的下游集流腔室，该下游集流腔室具有至少一个下游开口，所述至少一个下游开口连接到压差传感器，由此将下游压力施加到压差传感器；和

涡旋脱落稳定器，定位成靠近细长探测器并且定位在过程流体流中，该涡旋脱落稳定器被配置以稳定靠近细长探测器的涡旋脱落。

2.根据权利要求1所述的流量测量系统，其中所述涡旋脱落稳定器包括至少一个边界层导流栅。

3.根据权利要求2所述的流量测量系统，其中所述边界层导流栅包括与过程流体的流动方向大致平行地布置的平面。

4.根据权利要求2所述的流量测量系统，包括沿细长探测器的长度定位的多个边界层导流栅。

5.根据权利要求4所述的流量测量系统，其中上游集流腔室包括多个上游开口并且其中所述多个边界层导流栅定位在上游开口之间。

6.根据权利要求2所述的流量测量系统，其中边界层导流栅包括平板，所述平板从细长探测器的上游面延伸到细长探测器的下游面，并且被布置为垂直于细长探测器的纵向轴线。

7.根据权利要求1所述的流量测量系统，其中涡旋脱落稳定器包括下游元件。

8.根据权利要求7所述的流量测量系统，其中所述下游元件包括邻近下游集流腔室被连接的板。

9.根据权利要求7所述的流量测量系统，其中所述下游元件在垂直于过程流体流的方向上延伸。

10.根据权利要求9所述的流量测量系统，其中所述下游元件在与细长探测器大致平行的方向上延伸。

11.根据权利要求7所述的流量测量系统，其中下游集流腔室被支承在下游元件中。

12.根据权利要求7所述的流量测量系统，其中在细长探测器和下游元件之间的开口允许在细长探测器和下游元件之间的流体连通。

13.根据权利要求1所述的流量测量系统，其中细长探测器包括均速皮托管。

14.根据权利要求1所述的流量测量系统，其中细长探测器的横截面具有“T”形形状，并且涡旋脱落稳定器包括延伸通过该“T”形形状的基部的开口。

15.一种基于压差测量过程流体的流量的方法，包括下述步骤：

将细长探测器插入载送过程流体流的管道中，所述探测器具有上游面和下游面；

将压力传感器连接到相对于细长探测器的上游压力和相对于细长探测器的下游压力；

基于上游压力和下游压力测量过程流体的流量；以及

稳定在过程流体移动通过细长探测器时在过程流体中形成的涡旋脱落振荡。

16.根据权利要求15所述的方法，其中稳定涡旋脱落振荡的步骤包括靠近细长探测器放置至少一个边界层导流栅。

17.根据权利要求16所述的方法，其中边界层导流栅包括大致平行于过程流体的流动方向布置的平面。

18.根据权利要求16所述的方法，包括沿细长探测器的长度设置多个边界层导流栅的步骤。

19.根据权利要求18所述的方法，其中细长探测器包括具有多个上游开口的上游集流腔室，并且其中所述多个边界层导流栅定位在上游开口之间。

20.根据权利要求18所述的方法，其中边界层导流栅包括平板，所述平板从细长探测器的上游面延伸到细长探测器的下游面，并且被布置为垂直于细长探测器的纵向轴线。

21.根据权利要求15所述的方法，其中稳定涡旋脱落振荡的步骤包括靠近细长探测器放置下游元件。

22.根据权利要求21所述的方法，其中所述下游元件包括邻近下游集流腔室被连接的板。

23.根据权利要求21所述的方法，其中所述下游元件在垂直于过程流体流方向上延伸。

24.根据权利要求21所述的方法，其中所述下游元件在大致平行于细长探测器的方向上延伸。

25.根据权利要求21所述的方法，其中所述下游元件包括将下游压力耦合到压力传感器的集流腔室。

26.根据权利要求21所述的方法，其中在细长探测器和下游元件之间的开口允许在细长探测器和下游元件之间的流体连通。

27.根据权利要求15所述的方法，其中细长探测器包括均速皮托管。

28.一种均速皮托管，被构造以插入到管道中，用于测量该管道中的过程流体的流量，该均速皮托管包括：

具有至少一个上游开口的上游集流腔室，该上游集流腔室被配置以连接到压力传感器，因而将上游压力施加到所述压力传感器；

具有至少一个下游开口的下游集流腔室，该下游集流腔室被配置以连接到所述压力传感器，因而将下游压力施加到所述压力传感器；和

定位在过程流体流中的涡旋脱落稳定器，该涡旋脱落稳定器被配置以稳定涡旋脱落。

29.根据权利要求28所述的均速皮托管，其中涡旋脱落稳定器至少包括边界层导流栅。

30.根据权利要求28所述的均速皮托管，其中涡旋脱落稳定器包括下游元件。