CN104445052A - 氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法 - Google Patents
氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104445052A CN104445052A CN201410736063.3A CN201410736063A CN104445052A CN 104445052 A CN104445052 A CN 104445052A CN 201410736063 A CN201410736063 A CN 201410736063A CN 104445052 A CN104445052 A CN 104445052A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pdms
- oxygen plasma
- micro
- template
- pdms seal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
本发明提供氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法。将制备的PDMS印章,置于氧等离子体气氛下,对PDMS印章进行刻蚀,得到表面微结构。并且详细介绍了制备具有规整微结构的CD表面微结构的方法;本发明选用氧等离子体对复制模塑技术得到的具有表面微结构的PDMS印章进行刻蚀,通过改变氧等离子体刻蚀时间,精确调控PDMS印章微结构的高度。该技术成本低、精度高、操作简便、应用范围广。在不改变PDMS印章形貌的条件下,用氧等离子体调控PDMS印章的形貌高度。采用本发明的方法制得的微结构在在光学、微电子、传感器、生物医学等很多领域有着广泛的应用前景。
Description
技术领域
本发明涉及聚合物弹性体表面的刻蚀加工技术,具体涉及一种PDMS表面形貌的氧等离子体刻蚀工艺。特别是氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法。
背景技术
刻蚀技术是微电子制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤,是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺。聚二甲基硅氧烷(PDMS)是常用的一种微电子芯片材料;它具有聚合物材料的普遍特点,另外还有较高的光学透明度和较好的生物相容性,无毒、微复制能力强。目前常用刻蚀方法有两类:干法刻蚀和湿法刻蚀。对于采用微米级和亚微米量级线宽的超大规模集成电路,刻蚀方法必须具有较高的各向异性特性,才能保证图形的精度,但湿法刻蚀不能满足这一要求。干法刻蚀中常用的光刻技术,由于其精确度,稳定性等要求,通常需要复杂的设备和工艺,需要考虑和控制的因素较多,成本高,流程繁琐,不适合大批量生产。本文提供了一种干法刻蚀技术,用氧等离子体刻蚀PDMS印章表面形貌,得到具有不同高度的PDMS印章,该方法加工批量大,控制容易,成本低,对环境污染少,适用于工业生产。
发明内容
针对上述现有技术,本发明提供了利用氧等离子体对聚二甲基硅氧烷表面形貌进行刻蚀的方法。本发明选用氧等离子体对复制模塑技术得到的具有表面微结构的PDMS印章进行刻蚀,通过改变氧等离子体刻蚀时间与刻蚀步骤,精确调控PDMS印章微结构的高度。
为了解决上述技术问题,发明了一种利用氧等离子体对聚二甲基硅氧烷表面形貌进行刻蚀的方法:将制备的PDMS印章,置于氧等离子体气氛下,对PDMS印章进行刻蚀,得到表面微结构。
改变氧等离子体的处理时间,得到具有不同高度的表面微结构。时间越长,高度越小。
本发明制备具有规整微结构的CD表面微结构的方法,包括步骤如下:
1)、用胶带将CD光盘顶层的涂漆保护层粘掉,得到具有规整微结构的CD模板;
2)、将PDMS预聚体和交联剂按质量比为(5-20):1混合后,用玻璃棒充分搅拌形成均匀的预聚物;
3)、将混合好的预聚物在循环水式多用真空泵中脱气后,浇注到步骤1)制备的CD模板表面,60-90摄氏度加热2-4小时进行交联;
4)、将PDMS从CD模板缓慢揭下,得到具有CD模板负向微结构的PDMS印章;
5)、将制备的PDMS印章剪切成正方形,置于氧等离子体气氛下,改变氧等离子体的处理时间,对PDMS印章进行刻蚀,得到具有不同高度的表面微结构。
改变氧等离子体的处理时间控制PDMS印章表面形貌的高度。
针对上述现有技术,本发明提供了利用氧等离子体对聚二甲基硅氧烷表面形貌进行刻蚀的方法。本发明选用氧等离子体对复制模塑技术得到的具有表面微结构的PDMS印章进行刻蚀,通过改变氧等离子体刻蚀时间与刻蚀步骤,精确调控PDMS印章微结构的高度。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
该技术成本低、精度高、操作简便、应用范围广。在不改变PDMS印章形貌的条件下,用氧等离子体调控PDMS印章的形貌高度。避免了其他方法中昂贵仪器的使用、复杂的工艺条件、和苛刻的实验参数等缺点。采用本发明的方法制得的微结构在在光学、微电子、传感器、生物医学等很多领域有着广泛的应用前景。
附图说明
图1为本发明实施例1复制得到的PDMS印章形貌的原子力图;
图2为本发明实施例1刻蚀5min后的PDMS印章形貌的原子力图;
图3为本发明实施例2刻蚀20min后的PDMS印章形貌的原子力图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细地描述。
实施例1:
一种利用氧等离子体对聚二甲基硅氧烷表面形貌进行刻蚀的方法,包括以下步骤:
步骤一、用胶带将CD光盘顶层的涂漆保护层粘掉,得到具有规整微结构的CD模板;
步骤二、将PDMS预聚体和交联剂按质量比为10:1混合后,用玻璃棒充分搅拌形成均匀的预聚物;
步骤三、将混合好的预聚物在循环水式多用真空泵中脱气后,浇注到步骤一制备的CD模板表面,80摄氏度加热3小时进行交联;
步骤四、将PDMS从CD模板缓慢揭下,得到具有CD模板负向微结构的PDMS印章,表面形貌如图1所示,图1为原子力图,PDMS印章高度为170nm;
步骤五、将上述制备的PDMS印章剪切成正方形,置于氧等离子体气氛下,对PDMS印章进行刻蚀5min。PDMS印章表面微结构高度减小,如图2所示,其中图2为原子力图,PDMS印章高度为100nm。
实施例2:
一种利用氧等离子体对聚二甲基硅氧烷表面形貌进行刻蚀的方法,包括以下步骤:
步骤一、用胶带将CD光盘顶层的涂漆保护层粘掉,得到具有规整微结构的CD模板;
步骤二、将PDMS预聚体和交联剂按质量比为20:1混合后,用玻璃棒充分搅拌形成均匀的预聚物;
步骤三、将混合好的预聚物在循环水式多用真空泵中脱气后,浇注到步骤一制备的CD模板表面,60摄氏度加热4小时进行交联;
步骤四、将PDMS从CD模板缓慢揭下,得到具有CD模板负向微结构的PDMS印章;
步骤五、将上述制备的PDMS印章剪切成正方形,置于氧等离子体气氛下,对PDMS印章进行刻蚀20min。PDMS印章表面微结构高度继续减小,如图3所示,其中图3为原子力图,PDMS印章高度继续减小到60nm。
Claims (3)
1.一种利用氧等离子体对聚二甲基硅氧烷表面形貌进行刻蚀的方法,其特征是将制备的PDMS印章,置于氧等离子体气氛下,对PDMS印章进行刻蚀,得到表面微结构。
2.如权利要求1所述的方法,其特征是改变氧等离子体的处理时间,得到具有不同高度的表面微结构。
3.如权利要求1所述的方法,其特征是制备具有规整微结构的CD表面微结构的方法,其特征是步骤如下:
1)、用胶带将CD光盘顶层的涂漆保护层粘掉,得到具有规整微结构的CD模板;
2)、将PDMS预聚体和交联剂按质量比为(5-20):1混合后,用玻璃棒充分搅拌形成均匀的预聚物;
3)、将混合好的预聚物在循环水式多用真空泵中脱气后,浇注到步骤1)制备的CD模板表面,60-90摄氏度加热2-4小时进行交联;
4)、将PDMS从CD模板缓慢揭下,得到具有CD模板负向微结构的PDMS印章;
5)、将制备的PDMS印章剪切成正方形,置于氧等离子体气氛下,改变氧等离子体的处理时间,对PDMS印章进行刻蚀,得到具有不同高度的表面微结构。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410736063.3A CN104445052A (zh) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | 氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410736063.3A CN104445052A (zh) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | 氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104445052A true CN104445052A (zh) | 2015-03-25 |
Family
ID=52891920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410736063.3A Pending CN104445052A (zh) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | 氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104445052A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104991416A (zh) * | 2015-07-23 | 2015-10-21 | 太原理工大学 | 一种基于光盘的二维周期性微纳结构的热压印方法 |
CN105731364A (zh) * | 2016-02-29 | 2016-07-06 | 天津大学 | 基于表面氧化控制转移印刷的pdms弹性体微纳加工方法 |
CN113249294A (zh) * | 2021-05-17 | 2021-08-13 | 北京化工大学 | 一种能够使细胞图案化生长的表面及其应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009150479A1 (en) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | National Center For Scientific Research ''demokritos'' | Method for the fabrication of periodic structures on polymers using plasma processes |
CN102491254A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-06-13 | 天津大学 | 一种聚二甲基硅氧烷弹性体选区皱纹化的方法 |
CN102583233A (zh) * | 2012-03-14 | 2012-07-18 | 北京大学 | 一种基于纳米森林模板的超亲水聚二甲基硅氧烷薄膜制备方法 |
CN102795592A (zh) * | 2012-07-13 | 2012-11-28 | 天津大学 | Pdms弹性体表面硬质薄膜层选区刻蚀的制备方法及应用 |
-
2014
- 2014-12-05 CN CN201410736063.3A patent/CN104445052A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009150479A1 (en) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | National Center For Scientific Research ''demokritos'' | Method for the fabrication of periodic structures on polymers using plasma processes |
CN102491254A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-06-13 | 天津大学 | 一种聚二甲基硅氧烷弹性体选区皱纹化的方法 |
CN102583233A (zh) * | 2012-03-14 | 2012-07-18 | 北京大学 | 一种基于纳米森林模板的超亲水聚二甲基硅氧烷薄膜制备方法 |
CN102795592A (zh) * | 2012-07-13 | 2012-11-28 | 天津大学 | Pdms弹性体表面硬质薄膜层选区刻蚀的制备方法及应用 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
CHUANG TIAN, ET AL.: ""Controlled fabrication of hierarchically microstructured surfaces via surface wrinkling combined with template replication"", 《 CHINESE CHEMICAL LETTERS》, vol. 26, 13 October 2014 (2014-10-13), pages 15 - 20 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104991416A (zh) * | 2015-07-23 | 2015-10-21 | 太原理工大学 | 一种基于光盘的二维周期性微纳结构的热压印方法 |
CN104991416B (zh) * | 2015-07-23 | 2021-05-25 | 太原理工大学 | 一种基于光盘的二维周期性微纳结构的热压印方法 |
CN105731364A (zh) * | 2016-02-29 | 2016-07-06 | 天津大学 | 基于表面氧化控制转移印刷的pdms弹性体微纳加工方法 |
CN113249294A (zh) * | 2021-05-17 | 2021-08-13 | 北京化工大学 | 一种能够使细胞图案化生长的表面及其应用 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Del Campo et al. | Patterned surfaces with pillars with controlled 3D tip geometry mimicking bioattachment devices | |
KR102423751B1 (ko) | 엠보싱 래커 및 엠보싱 방법, 및 엠보싱 래커로 코팅된 기판 표면 | |
Kang et al. | Robust superomniphobic surfaces with mushroom-like micropillar arrays | |
Chan et al. | Fabricating microlens arrays by surface wrinkling | |
CN102491254B (zh) | 一种聚二甲基硅氧烷弹性体选区皱纹化的方法 | |
CN107533287B (zh) | 聚合物组合物或预聚物组合物或者包含此类组合物的压花漆及其用途 | |
Campos et al. | Highly versatile and robust materials for soft imprint lithography based on thiol‐ene click chemistry | |
CN102795592A (zh) | Pdms弹性体表面硬质薄膜层选区刻蚀的制备方法及应用 | |
CN101923282A (zh) | 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法 | |
CN104476895B (zh) | 模板压印和表面起皱相结合构筑多级有序微结构的方法 | |
JP2006285017A (ja) | 微細パターンの形成方法及び偏光分離素子の製造方法 | |
Schift et al. | Shape control of polymer reflow structures fabricated by nanoimprint lithography | |
WO2009042231A3 (en) | Sol-gel phase-reversible hydrogel templates and uses thereof | |
CN104445052A (zh) | 氧等离子体刻蚀聚二甲基硅氧烷表面形貌的方法 | |
CN108089398A (zh) | 一种纳米通孔阵列聚合物模板及其制备方法 | |
Zhou et al. | Gecko-inspired biomimetic surfaces with annular wedge structures fabricated by ultraprecision machining and replica molding | |
CN106393526A (zh) | 聚二甲基硅氧烷微流控芯片高纵横比结构制造方法 | |
CN103710679A (zh) | 疏水层、其制作方法、具有疏水层的物品及模具的制作方法 | |
CN103803484A (zh) | 基于摩擦诱导选择性刻蚀的氮化硅膜/硅微纳米加工方法 | |
CN104708800A (zh) | 制作环烯烃类聚合物微流控芯片中微纳结构的软压印方法 | |
Finn et al. | Geometrical properties of multilayer nano-imprint-lithography molds for optical applications | |
CN1686781A (zh) | 环氧树脂微结构器件的制备方法 | |
CN103279011A (zh) | 一种巯基-烯紫外光固化纳米压印材料 | |
Wang et al. | Surface properties of bionic micro-pillar arrays with various shapes of tips | |
CN106750473A (zh) | 一种采用室温反压印技术制备高分辨率热塑性聚合物图案的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20150325 |