CN104423174A - 一种照明系统 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种照明系统,包括依次排列的光源、椭球碗组件、耦合透镜组、折转模块、微透镜阵列、石英棒、中继透镜组以及照明对象,所述折转模块的入光端为正方形,所述折转模块的出光端与所述石英棒的入光端形状相同,所述光源发出的光经所述椭球碗组件的会聚后进入所述耦合透镜组,再经过所述折转模块、微透镜阵列以及石英棒的多次反射匀光后进入所述中继透镜组,最终成像在照明对象上。本发明通过在照明系统中增加折转模块,所述折转模块的入光端为正方形,出光端为长方形,这样,既提高了照明系统掩模面的光瞳均匀度,同时提高了系统的能量耦合效率。

Description

一种照明系统
技术领域
本发明涉及光刻机领域,尤其涉及一种照明系统。
背景技术
投影式光刻机是一种将掩模面图案转移到基板面/硅片面形成所需要的图案,进而集成出需要的集成电路(IC)的设备。其中,照明系统为光刻机掩模面提供均匀的照明光斑,是光刻机的能量来源,掩模面的光斑能量和光瞳均匀度是照明系统的重要指标,光斑能量的大小决定了光刻机的产率,而光瞳均匀度决定了光刻机曝光时曝光线条方向性宽度的相对差异,间接地影响到光刻机的分辨率。对于大视场的扫描光学曝光系统,其曝光视场大多为长方形结构,因为视场尺寸的不对称性,其光瞳均匀度普遍低于对称结构的视场,请参考图1,当曝光视场为长方形结构时,掩模面的光瞳均匀度为7%。
目前,主要有三种方式提高光瞳的均匀度:一种是采用滤光的方式,具体请参考图2,该装置由一系列滤波片1拼合组成,在各个滤波片1上安装能量探测器(图中未示出),通过能量探测器探测该处的能量相对大小,将该探测数据反馈至控制系统(图中未示出),控制系统控制驱动元件2对滤波片1的相对位置进行调整,从而实现对光瞳均匀度的调节。该装置将滤波片1调入光路来实现光瞳均匀度补偿,其补偿精度受能量探测器的检测精度的影响,且滤波片1的透过滤受温度的影响,大角度光线被滤除,系统掩模面的照度受滤波片1滤光的影响而降低,且系统复杂,可靠性不高;
第二种是采用挡光的方式以减少边沿大角度光线比例,提高光瞳均匀度,利用不同尺寸挡光片的相对位置变化,使挡光片的阴影尺寸和相对位置变化,改变所处区域的光强分布,从而矫正光瞳均匀度。该方案利用挡光片使光散射,改变光强的区域分布和角度分布,挡光片会大大降低光路中能量的通过率,影响到系统的产率,并且对于长方形视场的曝光系统而言,该方案的能量耦合效果太低。
如图3所示,另外一种方式是在长方形端口石英棒3的前端设置正方形光阑4,将系统的入射窗口矫正为对称结构的一种光瞳矫正方案。该方案因为将石英棒3入光端改变为正方形的对称结构,可以大幅度提高系统的光瞳均匀度,请参考图4,此时掩模面的光瞳均匀度达到了0.8%,但对于长方形的入光端,这种正方形光阑4相对于石英棒3的入光端尺寸较小,大大地降低了石英棒3的能量耦合效率,大幅度降低了系统的掩模面照度。
发明内容
本发明提供一种照明系统,以提高长方形视场照明系统掩模面光瞳均匀度的同时,提高能量耦合效率。
为解决上述技术问题,本发明提供一种照明系统,包括依次排列的光源(图5中未画出)、石英棒以及照明对象,还包括折转模块,所述折转模块设置在所述光源和所述石英棒之间。
较佳地,还包括椭球碗组件、耦合透镜组、微透镜阵列、中继透镜组,他们依次的排列顺序是所述光源、所述椭球碗组件、所述耦合透镜组、所述折转模块、所述微透镜阵列、所述石英棒、所述中继透镜组以及所述照明对象。
较佳地,所述折转模块的入光端为正方形,所述折转模块的出光端与所述石英棒的入光端截面形状相同。
较佳地,所述折转模块包括第一棱柱、第二棱柱、第一直角棱镜、第二直角棱镜、第三直角棱镜以及第四直角棱镜,所述第一棱柱的长宽高比为2L:2L:L,所述第二棱柱的长宽高比为2L:L:L,所述第一直角棱镜的厚度及两条直角边的长度比为2L:L:L,所述第二直角棱镜与所述第一直角棱镜的尺寸相同,所述第三直角棱镜的厚度及两条直角边的长度比为2L:2L:L,所述第四直角棱镜与所述第三直角棱镜的尺寸相同。
较佳地,射入所述折转模块的入光端的一部分光线依次经过第一棱柱、第一直角棱镜以及第二直角棱镜,然后射出所述折转模块;射入所述折转模块的入光端的另一部分光线依次经过第三直角棱镜、第四直角棱镜以及第二棱柱,然后射出所述折转模块。
较佳地,在右侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在左侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在上部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在下部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
较佳地,所述第一直角棱镜、第二直角棱镜、第三直角棱镜和第四直角棱镜的斜面镀反射膜,所述第一棱柱、第二棱柱的入光端和所述第一直角棱镜、第二直角棱镜、第三直角棱镜和第四直角棱镜的入光端镀增透膜。
较佳地,在左侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在右侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在上部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在下部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
较佳地,在右侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在左侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在下部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在上部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
较佳地,在左侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在右侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在下部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在上部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
较佳地,所述折转模块的入光端位于所述耦合透镜组的像方焦面处。
较佳地,所述折转模块的入光端位于所述椭球碗组件的焦点处,所述耦合透镜组的物方焦面与所述折转模块的出光端重合。
较佳地,所述光源和耦合透镜组的物方焦面分别位于椭球碗组件的两个焦点上。
较佳地,所述中继透镜组的物方焦面与所述石英棒的出光端重合。
较佳地,所述照明对象位于所述中继透镜组的像方焦面处。
较佳地,所述耦合透镜组包括依次排列的耦合前组、滤波片和耦合后组,所述耦合前组和耦合后组分别包括三个球面,所述耦合前组和耦合后组的光焦度均为正。
较佳地,所述中继透镜组包括依次排列的第一中继组、第二中继组和第三中继组。
较佳地,所述光源为高压汞灯。
较佳地,所述照明系统还包括第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜位于所述椭球碗组件与所述耦合透镜组之间,所述第二反射镜位于所述中继透镜组和所述照明对象之间。
较佳地,所述第一反射镜和第二反射镜分别为冷光镜。
与现有技术相比,本发明提供的一种照明系统具有如下优点:
1.所述折转模块的入光端为正方形,即对称结构,从而提高了系统的光瞳均匀度;
2.所述折转模块采用反射和折射组件,系统的能量损失较小;
3.所述折转模块的出光端为长方形,与石英棒的形状和大小相同,大幅度提高了系统的能量耦合效率。
附图说明
图1为曝光视场为长方形时掩模面光瞳均匀度仿真图;
图2为现有技术的采用滤波片的光瞳均匀度矫正装置结构示意图;
图3为现有技术的采用正方形光阑的光瞳均匀度矫正装置结构示意图;
图4为采用图3所示结构时掩模面光瞳均匀度仿真图;
图5为本发明一具体实施方式的照明系统的结构示意图;
图6a~6d为本发明一具体实施方式的照明系统中折转模块的结构示意图;
图7为本发明一具体实施方式的照明系统中耦合透镜组的结构示意图;
图8为本发明一具体实施方式的照明系统中中继透镜组的结构示意图;
图9为本发明一具体实施方式的照明系统掩模面光瞳均匀度仿真图;
图10折转模块的第一种变形方案(其中箭头代表“物”)侧前视图;
图11折转模块的第一种变形方案(其中箭头代表“物”)侧后视图;
图12折转模块的第二种变形方案(其中箭头代表“物”)侧前视图;
图13折转模块的第二种变形方案(其中箭头代表“物”)侧后视图;
图14折转模块的第三种变形方案(其中箭头代表“物”)侧前视图;
图15折转模块的第三种变形方案(其中箭头代表“物”)侧后视图。
图2中:1-滤光片、2-驱动元件;
图3中:3-石英棒、4-正方形光阑;
图5~图8中:10-椭球碗组件、20-耦合透镜组、21-耦合前组、22-滤波片、23-耦合后组、30-折转模块、31-第一棱柱、32-第二棱柱、33-第一直角棱镜、34-第二直角棱镜、35-第三直角棱镜、36-第四直角棱镜、40-微透镜阵列、50-石英棒、60-中继透镜组、61-第一中继组、62-第二中继组、63-第三中继组、70-照明对象、80-第一反射镜、90-第二反射镜。
具体实施方式
为了更详尽的表述上述发明的技术方案,以下列举出具体的实施例来证明技术效果;需要强调的是,这些实施例用于说明本发明而不限于限制本发明的范围。
实施例1
本发明提供的一种照明系统,如图5至图9所示,包括依次排列的光源(图5中未画出)、椭球碗组件10、耦合透镜组20、折转模块30、微透镜阵列40、石英棒50、中继透镜组60以及照明对象70,较佳地,所述光源为高压汞灯,所述椭球碗组件10为椭球碗反射镜,所述折转模块30的入光端为正方形,所述折转模块30的出光端与所述石英棒50的入光端的形状相同,所述光源发出的光经所述椭球碗组件10的会聚后进入所述耦合透镜组20,再经过所述折转模块30、微透镜阵列40以及石英棒50的多次反射匀光后进入所述中继透镜组60,最终成像在照明对象70上。本发明通过在照明系统中增加折转模块30,所述折转模块30的入光端为正方形,出光端为长方形,这样,既提高了照明系统掩模面的光瞳均匀度,同时提高了系统的能量耦合效率。
较佳地,请重点参考图5,所述光源和耦合透镜组20的物方焦面分别位于椭球碗组件10的两个焦点上,所述折转模块30的入光端位于所述耦合透镜组20的像方焦面处,所述微透镜阵列40位于所述折转模块30的出光端和所述石英棒50的入光端之间,所述中继透镜组60的物方焦面与所述石英棒50的出光端重合,所述照明对象70位于所述中继透镜组60的像方焦面处。这样,所述光源发出的光经过所述椭球碗组件10的会聚后进入耦合透镜组20,在所述耦合透镜组20的像方焦面位置设置折转模块30,经过所述折转模块30调节的光束经所述微透镜阵列40和石英棒50的多次反射匀光后进入中继透镜组60,经过所述中继透镜组60的放大、传输作用后成像在照明对象70上,最终在所述照明对象70(本实施例中为掩模板)上形成所需的具有一定数值孔径、尺寸、视场均匀度和光瞳均匀度的照明光斑。
需要说明的是,所述物方焦面为经过光学元件入射方向上的焦点且垂直于系统主光轴的平面;相对应的,所述像方焦面为经过光学元件出射方向上的焦点且垂直于系统主光轴的平面。
较佳地,请重点参考图6a至图6d,所述折转模块30包括第一棱柱31、第二棱柱32、第一直角棱镜33、第二直角棱镜34、第三直角棱镜35以及第四直角棱镜36,所述第一棱柱31的长宽高比为2L:2L:L,所述第二棱柱32的长宽高比为2L:L:L,所述第一直角棱镜33的厚度及两条直角边的长度比为2L:L:L,所述第二直角棱镜34与所述第一直角棱镜33的尺寸完全相同,所述第三直角棱镜35的厚度及两条直角边的长度比为2L:2L:L,所述第四直角棱镜36与所述第三直角棱镜35的尺寸完全相同,在本实施例中,所述石英棒50的入光端尺寸为25*100mm,则,选取L=25mm,这样,所述折转模块30的入光端为50*50mm,而若采用现有技术中的正方形光阑的方案,其正方形光阑的尺寸最大为25*25mm,面积仅为本发明的四分之一,所以,只要折转模块30的入光端均处于耦合透镜组的像方焦面处,则折转模块30就可以大幅度提升入光端的面积,使石英棒50的能量耦合效率大幅度提升。当然,可根据所述石英棒50入光端的具体尺寸对L的数值大小进行选择。
较佳地,请继续重点参考图6a至图6d,在右侧所述第一棱柱31中长宽分别为L*2L的一个面与左侧所述第三直角棱镜35的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块30的入光端,其长宽分别为2L*2L;在上部所述第二棱柱32中长宽分别为L*2L的一个面与在下部所述第二直角棱镜34的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块30的出光端,其长宽分别为L*4L,较佳地,光束从所述入光端射入,一部分照射在所述第一棱柱31上,经所述第一直角棱镜33的斜面的反射进入所述第二直角棱镜34的一个直角面,再经由所述第二直角棱镜34的斜面的反射从所述第二直角棱镜34的另一个长宽分别为L*2L的直角面射出;另一部分照射在所述第三直角棱镜35的一个长宽分别为L*2L的直角面上,在所述第三直角棱镜35的斜面发生反射,进入所述第四直角棱镜36的一个直角面,并在所述第四直角棱镜36的斜面的反射作用下射入所述第二棱柱32中并射出。这样,从第一棱柱31和第三直角棱镜35组成的正方形的入光端射入的光束,经多次反射和透射后,变为从所述第二直角棱镜34和第二棱柱32组成的长方形的出光端射出的光束。
较佳地,请继续参考图6a至图6d,所述第一、第二、第三和第四直角棱镜33、34、35、36的斜面镀反射膜,所述第一、第二棱柱31、32的入光端和所述第一、第二、第三和第四直角棱镜33、34、35、36的入光端镀增透膜,进一步提高能量的耦合效率。
较佳地,请重点参考图5,所述照明系统还包括第一反射镜80和第二反射镜90,较佳地,所述第一反射镜80和第二反射镜90分别为冷光镜,所述第一反射镜80位于所述椭球碗组件10与所述耦合透镜组20之间,所述第二反射镜90位于所述中继透镜组60和所述照明对象70之间,经所述椭球碗组件10反射的光束经所述第一反射镜80的反射,照射到所述耦合透镜组20上;经所述中继透镜组60处理的光束经所述第二反射镜90的反射,照射到所述照明对象70上,所述第一反射镜80和第二反射镜90可以改变光束的传播方向,缩小本发明的照明系统所占用的空间。
较佳地,请重点参考图7,所述耦合透镜组20包括依次排列的耦合前组21、滤波片22和耦合后组23,所述耦合前组21和耦合后组23分别包括三个球面,所述耦合前组21和耦合后组23的光焦度均为正,所述耦合前组21将入射到所述滤波片22的光线的入射角调整到小于6°,使得滤波片22保持较好的滤光效果,再经由所述透镜后组23将光线会聚到所述折转模块30的入光端。
较佳地,请重点参考图8,所述中继透镜组60包括依次排列的第一中继组61、第二中继组62和第三中继组63,所述中继透镜组60对多波长的质心光线与光轴的夹角进行优化,实现多波长光线共同作用的质心远心照明,提供的远心值更精确、更贴合实际。
请参考图9,利用本发明的照明系统得到的掩模面光瞳均匀度仿真图,其光瞳均匀度为0.85%,与图4所示的采用正方形光阑方法得到的光瞳均匀度相近,但相对于正方形光阑方法的掩模面照度提高了25%(受耦合透镜组20出光端光斑大小的限制,并且耦合透镜组20像方焦面处光斑能量不均匀,照度提升没有达到4倍的效果)。由此可知,本发明的照明系统在保证了照明视场光瞳均匀度的前提下,增大了照明视场内边缘视场的理论数值孔径,提升了边缘视场的光照强度,从而补偿了由于镀膜工艺条件、石英棒50的棱边和棱角的毛边漫反射以及漏光等因素引起的照明视场内光照强度中间视场高边缘视场低的影响,进一步有效地保证了照明视场内光照强度的均匀度。
实施例2
本实施例相对于实施例1的区别点在于,所述耦合透镜组的位置设置不同。
具体地,所述光源和耦合透镜组20的物方焦面分别位于椭球碗组件10的两个焦点上,所述折转模块30的入光端位于所述椭球碗组件10的焦点处,所述耦合透镜组20的物方焦面与所述折转模块30的出光端重合,所述微透镜阵列40位于所述折转模块30的出光端和所述石英棒50的入光端之间,所述中继透镜组60的物方焦面与所述石英棒50的出光端重合,所述照明对象70位于所述中继透镜组60的像方焦面处。本实施例能够在实现提高长方形端面的石英棒50的系统掩模面照度并提高掩模面光瞳均匀度的目标的同时,得到较大的光斑,当然,实施时,可根据不同的光斑需求对实施例1和实施例2进行选择。
实施例3
请参考图10、11,作为折转模块的第一种变形,在左侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在右侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在上部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在下部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
射入所述折转模块的入光端的一部分光线依次经过第一棱柱、第一直角棱镜以及第二直角棱镜,然后射出所述折转模块;射入所述折转模块的入光端的另一部分光线依次经过第三直角棱镜、第四直角棱镜以及第二棱柱,然后射出所述折转模块。
实施例4
请参考图12、13,作为折转模块的第二种变形,在右侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在左侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在下部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在上部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
射入所述折转模块的入光端的一部分光线依次经过第一棱柱、第一直角棱镜以及第二直角棱镜,然后射出所述折转模块;射入所述折转模块的入光端的另一部分光线依次经过第三直角棱镜、第四直角棱镜以及第二棱柱,然后射出所述折转模块。
实施例5
请参考图14、15,作为折转模块的第三种变形,在左侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在右侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在下部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在上部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
射入所述折转模块的入光端的一部分光线依次经过第一棱柱、第一直角棱镜以及第二直角棱镜,然后射出所述折转模块;射入所述折转模块的入光端的另一部分光线依次经过第三直角棱镜、第四直角棱镜以及第二棱柱,然后射出所述折转模块。
综上所述,本发明提供的一种照明系统,包括依次排列的光源、椭球碗组件10、耦合透镜组20、折转模块30、微透镜阵列40、石英棒50、中继透镜组60以及照明对象70,所述折转模块30的入光端为正方形,所述折转模块30的出光端与所述石英棒50的入光端形状相同,所述光源发出的光经所述椭球碗组件10的会聚后进入所述耦合透镜组20,再经过所述折转模块30、微透镜阵列40以及石英棒50的多次反射匀光后进入所述中继透镜组60,最终成像在照明对象70上。本发明通过在照明系统中增加折转模块30,所述折转模块30的入光端为正方形,出光端为长方形,这样,既提高了照明系统掩模面的光瞳均匀度,同时提高了系统的能量耦合效率。
显然,本领域的技术人员可以对发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包括这些改动和变型在内。

Claims (20)

1.一种照明系统,包括依次排列的光源、石英棒以及照明对象,其特征在于,还包括折转模块,所述折转模块设置在所述光源和所述石英棒之间。
2.如权利要求1所述的一种照明系统,其特征在于,还包括椭球碗组件、耦合透镜组、微透镜阵列、中继透镜组,他们依次的排列顺序是所述光源、所述椭球碗组件、所述耦合透镜组、所述折转模块、所述微透镜阵列、所述石英棒、所述中继透镜组以及所述照明对象。
3.如权利要求2所述的一种照明系统,其特征在于,所述折转模块的入光端为正方形,所述折转模块的出光端与所述石英棒的入光端截面形状相同。
4.如权利要求3所述的一种照明系统,其特征在于,所述折转模块包括第一棱柱、第二棱柱、第一直角棱镜、第二直角棱镜、第三直角棱镜以及第四直角棱镜,所述第一棱柱的长宽高比为2L:2L:L,所述第二棱柱的长宽高比为2L:L:L,所述第一直角棱镜的厚度及两条直角边的长度比为2L:L:L,所述第二直角棱镜与所述第一直角棱镜的尺寸相同,所述第三直角棱镜的厚度及两条直角边的长度比为2L:2L:L,所述第四直角棱镜与所述第三直角棱镜的尺寸相同。
5.如权利要求4所述的一种照明系统,其特征在于,射入所述折转模块的入光端的一部分光线依次经过第一棱柱、第一直角棱镜以及第二直角棱镜,然后射出所述折转模块;射入所述折转模块的入光端的另一部分光线依次经过第三直角棱镜、第四直角棱镜以及第二棱柱,然后射出所述折转模块。
6.如权利要求5所述的一种照明系统,其特征在于,在右侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在左侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在上部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在下部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
7.如权利要求6所述的一种照明系统,其特征在于,所述第一直角棱镜、第二直角棱镜、第三直角棱镜和第四直角棱镜的斜面镀反射膜,所述第一棱柱、第二棱柱的入光端和所述第一直角棱镜、第二直角棱镜、第三直角棱镜和第四直角棱镜的入光端镀增透膜。
8.如权利要求5所述的一种照明系统,其特征在于,在左侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在右侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在上部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在下部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
9.如权利要求5所述的一种照明系统,其特征在于,在右侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在左侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在下部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在上部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
10.如权利要求5所述的一种照明系统,其特征在于,在左侧所述第一棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在右侧所述第三直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的入光端,其长宽分别为2L*2L;在下部所述第二棱柱中长宽分别为L*2L的一个面与在上部所述第二直角棱镜的一个长宽分别为L*2L的面组成所述折转模块的出光端,其长宽分别为L*4L。
11.如权利要求2所述的一种照明系统,其特征在于,所述折转模块的入光端位于所述耦合透镜组的像方焦面处。
12.如权利要求2所述的一种照明系统,其特征在于,所述折转模块的入光端位于所述椭球碗组件的焦点处,所述耦合透镜组的物方焦面与所述折转模块的出光端重合。
13.如权利要求2至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,所述光源和耦合透镜组的物方焦面分别位于椭球碗组件的两个焦点上。
14.如权利要求2至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,所述中继透镜组的物方焦面与所述石英棒的出光端重合。
15.如权利要求2至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,所述照明对象位于所述中继透镜组的像方焦面处。
16.如权利要求2至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,所述耦合透镜组包括依次排列的耦合前组、滤波片和耦合后组,所述耦合前组和耦合后组分别包括三个球面,所述耦合前组和耦合后组的光焦度均为正。
17.如权利要求2至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,所述中继透镜组包括依次排列的第一中继组、第二中继组和第三中继组。
18.如权利要求1至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,所述光源为高压汞灯。
19.如权利要求2至12中任一所述的一种照明系统,其特征在于,还包括第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜位于所述椭球碗组件与所述耦合透镜组之间,所述第二反射镜位于所述中继透镜组和所述照明对象之间。
20.如权利要求19所述的一种照明系统,其特征在于,所述第一反射镜和第二反射镜分别为冷光镜。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105093847A (zh) * 2015-08-04 2015-11-25 深圳市华星光电技术有限公司 曝光机
CN107450270A (zh) * 2016-05-31 2017-12-08 上海微电子装备(集团)股份有限公司 照明系统
CN107885042A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 多光谱光源耦合装置
CN109426090A (zh) * 2017-08-30 2019-03-05 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种照明系统及方法
CN111752108A (zh) * 2019-03-28 2020-10-09 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种led照明装置及曝光机

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005026569A1 (de) * 2005-06-08 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lichtintegrator für ein Beleuchtungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
CN101482705A (zh) * 2009-02-23 2009-07-15 上海微电子装备有限公司 光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法
CN102221785A (zh) * 2010-04-14 2011-10-19 上海微电子装备有限公司 一种使用汞灯光源的光刻照明装置
CN102566294A (zh) * 2010-12-28 2012-07-11 上海微电子装备有限公司 一种光刻照明光学系统
US20120212724A1 (en) * 2011-02-22 2012-08-23 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005026569A1 (de) * 2005-06-08 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Lichtintegrator für ein Beleuchtungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
CN101482705A (zh) * 2009-02-23 2009-07-15 上海微电子装备有限公司 光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法
CN102221785A (zh) * 2010-04-14 2011-10-19 上海微电子装备有限公司 一种使用汞灯光源的光刻照明装置
CN102566294A (zh) * 2010-12-28 2012-07-11 上海微电子装备有限公司 一种光刻照明光学系统
US20120212724A1 (en) * 2011-02-22 2012-08-23 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105093847A (zh) * 2015-08-04 2015-11-25 深圳市华星光电技术有限公司 曝光机
CN107450270A (zh) * 2016-05-31 2017-12-08 上海微电子装备(集团)股份有限公司 照明系统
CN107450270B (zh) * 2016-05-31 2019-07-23 上海微电子装备(集团)股份有限公司 照明系统
CN107885042A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 上海微电子装备(集团)股份有限公司 多光谱光源耦合装置
CN109426090A (zh) * 2017-08-30 2019-03-05 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种照明系统及方法
CN109426090B (zh) * 2017-08-30 2020-08-21 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种照明系统及方法
CN111752108A (zh) * 2019-03-28 2020-10-09 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种led照明装置及曝光机

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