CN104656361A - 一种投影装置及投影调整方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种投影装置及投影调整方法，投影装置包括光源模块、反射模块及影像模块，由光源模块射出的光线经由反射模块反射至影像模块上，以在影像模块上形成投射区域，其中，影像模块具有有效区域，且投影装置还包括位置调整装置，该位置调整装置包括：设置于反射模块上的第一调整机构、设置于光源模块上的第二调整机构以及位置判断单元，位置判断单元耦接第一调整机构和第二调整机构，当位置判断单元判断反射模块位于第一位置时，驱动该第二调整机构调整该光源模块至第二位置。利用本发明可以使得投影装置获得正常的投影影像，且投影影像的亮度及均匀度均可最佳化。

Description

一种投影装置及投影调整方法

技术领域

本发明涉及投影装置领域，尤其涉及一种具有调整投影效果功能的投影装置及投影调整方法。

背景技术

伴随着投影技术不断的成熟，投影装置对于光学精度需求也是越来越高，所以制造者们通过会设计一些调整机构来规避掉由于元件组装公差引起的光学特性的缺陷，进而来提高投影装置的光学精度。我们知道，一般投影装置会包括光源、均光器、反射元件、影像模块、镜头等元件，基于上述光学精度问题，在业界通常将调整机构设置在均光器或反射元件上，以单独地调整均光器或反射元件的位置(对应元件在整个光学系统中相对主光线的角度位置)，来实现投影装置光学精度的调整。然而，上述两种调整机构设置方式均存在一些弊端，例如：若单独地调整均光器的位置实质无法调整投射到影像模块上照射区域的亮度和均匀度，进而无法实现对投射进镜头光线的亮度和均匀度；而若单独地调整反射元件，也会同时造成所述照射区域的亮度和均匀度的改变以及照射区域在投影模块上位置的偏移(照射区域无法覆盖影像模块的有效区域)，进而影响影像模块的输出效能。

因此，在现有技术中，并没有给出较佳的调整机构设置和调整方式来进一步完善投影装置光学精度的调整方案，故如何来克服现有技术中的缺陷从而获得更好的投影效果即成为本发明研究的重要课题。

发明内容

为了使得投影装置能够获得更好的投影效果，本发明提出了一种具有调整投影效果功能的投影装置及投影调整方法。

本发明提出一种投影装置，该投影装置包括光源模块、反射模块及影像模块，由该光源模块射出的光线经由该反射模块反射至该影像模块上，以在影像模块上形成投射区域，其中，影像模块具有有效区域，该投影装置还包括位置调整装置，该位置调整装置包括：

第一调整机构，设置于该反射模块上，该第一调整机构用以调整该反射模块至第一位置，以使该投射区域的第一亮度值及第一均匀度分别落在基准亮度范围和基准均匀度范围内；

第二调整机构，设置于该光源模块上，该第二调整机构用以调整该光源模块至第二位置，以使该投射区域覆盖该有效区域；以及

位置判断单元，耦接该第一调整机构和该第二调整机构，当该位置判断单元判断该反射模块位于该第一位置时，驱动该第二调整机构调整该光源模块至该第二位置。

作为优选的方案，该反射模块包括至少一反射镜，该反射镜具有反射面和背面，该第一调整机构设置于该反射镜的该背面。

作为优选的方案，该第一调整机构包括：

活动板，扣设于该反射镜的该背面，该活动板具有相互邻接的第一侧边和第二侧边；

固定件，可活动地抵接该活动板，且该固定件固设于该投影装置内；

第一调节件，邻近该活动板的该第一侧边设置，且该第一调节件抵接该固定件和该活动板，以调节该固定件和该活动板间相对于该第一侧边的第一间距；以及

第二调节件，邻近该活动板的该第二侧边设置，且该第二调节件抵接该固定件和该活动板，以调节该固定件和该活动板间相对于该第二侧边的第二间距。

作为优选的方案，该固定件与该活动板抵接的位置位于该反射镜的轴心线上。

作为优选的方案，该光源模块包括光源、均光器及透镜，该光源模块射出的光线经由该光源的出射光经该均光器均光后从该透镜射出，该第二调整机构设置于该均光器上。

作为优选的方案，该第二调整机构包括：

定位架，具有顺次邻接的第一内表面、第二内表面、第三内表面及第四内表面，以形成一容置空间，该容置空间用以套设该均光器，该第一内表面与该均光器之间具有第一弹性件，该第二内表面与该均光器之间具有第二弹性件，该第一弹性件与该第二弹性件用以抵接该均光器与该定位架；

第一定位件，穿设该第三内表面以抵接该均光器，该第一定位件用以调整该均光器在第一方向上的位置；以及

第二定位件，穿设该第四内表面以抵接该均光器，该第二定位件用以调整该均光器在第二方向上的位置。

作为优选的方案，该定位架具有外表面，该第一弹性件和该第二弹性件由该定位架的该外表面向内弯折形成。

本发明还提出了一种投影调整方法，用以调整投影装置的投影效果，该投影装置包括光源模块、反射模块及影像模块，由该光源模块射出的光线经由该反射模块反射至该影像模块上，以在影像模块上形成投射区域，其中，影像模块具有有效区域，该投影调整方法为：

A.调整该反射模块至第一位置，以使该投射区域的第一亮度值及第一均匀度分别落在基准亮度范围和基准均匀度范围内；

B.调整该光源模块至第二位置，以使该投射区域覆盖该有效区域。

作为优选的方案，该反射模块包括至少一反射镜，该反射镜具有反射面和背面，该投影装置还包括第一调整机构，该第一调整机构设置于该反射镜的背面，且该第一调整机构包括：活动板，扣设于该反射镜的该背面，该活动板具有相互邻接的第一侧边和第二侧边；固定件，可活动地抵接该活动板，且该固定件固设于该投影装置内；第一调节件，邻近该活动板的该第一侧边设置，且该第一调节件抵接该固定件和该活动板；第二调节件，邻近该活动板的该第二侧边设置，且该第二调节件抵接该固定件和该活动板，该步骤A进一步为：

通过该第一调节件及该第二调节件分别调节该固定件和该活动板间相对于该第一侧边的第一间距以及相对于该第二侧边的第二间距，以调整该反射模块至该第一位置。

作为优选的方案，该光源模块包括光源、均光器及透镜，该光源模块射出的光线经由该光源的出射光经该均光器均光后从该透镜射出，该投影装置还包括第二调整机构，该第二调整机构设置于该均光器上，且该第二调整机构包括：定位架，具有顺次邻接的第一内表面、第二内表面、第三内表面及第四内表面，以形成一容置空间，该容置空间用以套设该均光器，该第一内表面与该均光器之间具有第一弹性件，该第二内表面与该均光器之间具有第二弹性件，该第一弹性件与该第二弹性件用以抵接该均光器与该定位架；第一定位件，穿设该第三内表面以抵接该均光器；第二定位件，穿设该第四内表面以抵接该均光器，该步骤B进一步为：

通过该第一定位件及该第二定位件分别调整该均光器在第一方向上及第二方向上的位置，以调整该光源模块至该第二位置。

与现有技术相比，本发明所提出之投影装置及投影调整方法，通过先调整反射模块至最佳位置，以使投射区域的亮度值及均匀度分别满足亮度及均匀度要求，之后再调整光源模块至最佳位置，以使投射区域覆盖影像模块上的有效区域，进而解决由于调整反射模块的位置引起的投射区域在影像模块130上位置偏移的问题，因此，本发明通过先后调整反射模块和光源模块的方式，使得投影装置可以获得正常的投影影像，且投影影像的亮度及均匀度均可最佳化。

附图说明

图1为本发明一实施例中投影装置的功能架构示意图；

图2为本发明一实施例中投影装置的结构示意图；

图3A、图3B分别为本发明两种实施例中投影装置的主要元件的空间示意图；

图4A、图4B分别为本发明一实施例中影像模块上投射区域覆盖有效区域的示意图及投射区域部分覆盖有效区域的示意图；

图5为本发明投影装置中由影像模块投射出的主轴光线射入镜头的示意图；

图6A为图2中第一调整机构设置于反射模块上的结构示意图；

图6B为图6A所示结构沿A方向视角的结构示意图；

图7A为图2中第二调整机构设置于光源模块上的结构示意图；

图7B为图7A所示结构沿B方向视角的结构示意图；

图8为本发明一实施例中投影调整方法的流程示意图。

具体实施方式

为使对本发明的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细说明如下。

请参照图1，为本发明一实施例中投影装置的功能架构示意图。本发明的投影装置100主要包括光源模块110、反射模块120、影像模块130以及位置调整装置140，其中，位置调整装置140至少包括第一调整机构141和第二调整机构142，在本实施例中，第一调整机构141设置于反射模块120上，用以调整反射模块120相对于其他元件的位置；第二调整机构142设置于光源模块110上，用以调整光源模块110相对于其他元件的位置，需要说明的是，在习知的投影装置中，光源模块和反射模块在整个光学投影体系中对最终投影效果起着决定性的作用，所以本发明在光源模块110和反射模块120上均架设了调整机构，且上文所述“相对于其他元件的位置”是指对应元件在整个光学投影体系中的位置，例如可以是相对于入射光线的角度等空间位置。

再进一步参照图2、图3A及图3B，其中，图2为本发明一实施例中投影装置的结构示意图；图3A、图3B分别为本发明两种实施例中投影装置的主要元件的空间示意图。在图2所示之投影装置的结构示意图中可以看出，一般来说，投影装置100除了上述主要元件外，还进一步包括镜头150，即由镜头150最终投射出的影像会在荧幕160上得到呈现。详述之，光源模块110具体包括光源111、均光器112和透镜113，光源111射出的光线经过均光器112均光整形后再从透镜113射出，以投射到反射模块120上，之后由反射模块120反射的光线会投射到影像模块130上，形成一个投射区域，影像模块130藉由自身反射功能可选择性地将这个投射区域的光线反射至镜头150中，以形成灰度影像，其中，光源111可为激光光源、半导体发光二极管光源(LED，Light EmittingDiode)或者激光和LED混合光源。下面结合图3A和图3B所示的两种实施例来进一步说明本发明之构想。

结合图2参照图3A，在本实施例中，第二调整机构142设置于均光器112上，以通过调整均光器112的位置来实现对光源模块110位置的调整，进而实现对光源模块110出射光线的角度调整。如图3A所示，反射模块120包括一反射镜121，由光源模块110射出的光线R1经由反射镜131反射出光线R2，以投射到影像模块130上，上述反射镜121可以是曲面反射镜，一般反射镜具有反射面和背面，故在本实施例中，第一调整机构141设置于反射镜121的背面；再如3B所示之实施例，与上一实施例不同的是，反射模块120包括平面反射镜122和曲面反射镜123，在本实施例中，由光源模块110射出的光线R1会先经由平面反射镜122反射出光线R3至曲面反射镜123，再由曲面反射镜123反射出光线R3以投射至影像模块130上，值得一提的是，在本实施例中，第一调整机构141可设置于平面反射镜122和曲面反射镜123其中之一上，而无需再两反射镜上均设置调整机构，如此设计，在后续调整投影效果时会更加简便、精准，同时，在一些实施例中，由于光线经过曲面反射镜123反射就直接投射向影像模块130，所以，优选的，我们将第一调整机构141设置于曲面反射镜123上，而将平面反射镜122固设在投影装置内部，如此，通过第一调整机构141调整曲面反射镜123的位置，可以更快、更直观地在影像模块130上看到调整的结果。

接着参照图4A、图4B，分别为本发明一实施例中影像模块上投射区域覆盖有效区域的示意图及投射区域部分覆盖有效区域的示意图。如上文可知：“由反射模块120反射的光线会投射到影像模块130上，形成一个投射区域”。如图4A、图4B所述，反射模块120反射的光线投射到影像模块130上会形成投射区域1302，而影像模块130一般具有一个有效区域1301，只有投射在此有效区域1301的光线才能被实质利用，详言之，如图4A所示，投射区域1302完全覆盖了影像模块130上的有效区域1301，而如图4B所示，投射区域1302仅仅部分覆盖了影像模块130上的有效区域1301，此时，有效区域1301中没有被投射区域1302覆盖的部分就无法实现光线输出，从而导致能量的损失。因此，在本领域中，我们期望投射区域1302均能完全覆盖影像模块130上的有效区域1301，如图4A所示，而投射区域1302的位置调整可藉由光源模块110位置的调整，即在本实施例中，通过第二调整机构142即可对投射区域1302在影像模块130上的位置进行调整。

另一方面，请参照图5，为本发明投影装置中由影像模块投射出的主轴光线射入镜头的示意图。如上文可知：“影像模块130藉由自身反射功能可选择性地将这个投射区域的光线反射至镜头150中，以形成灰度影像。”。于本实施例中，影像模块130可以是数字微镜元件(DMD，Digital Micromirror Device)，即有效区域1301就是影像模块130上设置微镜的区域，通过影像模块130内部处理器控制，藉由微镜反射角度的实时调整，就可选择性将投射区域1302中覆盖有效区域1301的光线反射至镜头150中，以形成灰度影像。如图5所示，由影像模块130投射至镜头150的光线以主轴光线R5表示，镜头150具有一中心光轴151，在本领域中，主轴光线R5相对于此中心光轴151的角度α，决定着投影影像的亮度和亮度均匀度，而上述角度α又是由反射模块120反射的光线投射到影像模块130上时的投射角度决定的，这一投射角度由决定了投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx，即只要使得投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx能够分别落在基准亮度范围L0和基准均匀度范围R0内，就可以优化投影影像的亮度和亮度均匀度，换言之，在本实施例中，只要通过第一调整机构141调整反射模块120的位置，就可以实现对投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx的调整。

然而，在反射模块120的位置被调整的同时，投射区域1302在影像模块130上的位置亦会发生偏移，即会影响影像模块130的光线利用率，也会导致投影影像的缺失。因此，再参照图1和图2，在本实施例中，位置调整装置140还包括位置判断单元143，此位置判断单元143耦接第一调整机构141和第二调整机构142，用以根据侦测所得之反射模块120当前位置，来选择性地驱动第二调整机构142来调整光源模块110的位置。进一步而言，在本实施例中，为了获得更优质的投影影像，且又造成影像缺失，需要通过第一调整机构141将反射模块120调整至第一位置，以使得投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx能够分别落在基准亮度范围L0和基准均匀度范围R0内；之后藉由位置判断单元143判断反射模块120位于此第一位置时，驱动第二调整机构142来调整光源模块110至第二位置，以使得投射区域1302覆盖影像模块130上的有效区域1301。如此一来，由于调整反射模块120的位置引起的投射区域1302在影像模块130上的位置偏移的问题，可以通过第二调整机构142对光源模块110的位置调整来解决。需要说明的是，本实施例中的位置判断单元143可以作为投影装置中的内部构件，亦可以作为一个独立装置存在，即在投影装置组装测试时即可利用位置判断单元143来对投影效果进行校正，实现自动测试校正功能，此外，在自动化程度不高的情况下，位置判断单元143所完成的动作亦可以由作业员根据投影效果的实时数据来判断并藉由位置调整装置140来完成对光源模块110和反射模块120的位置调整。

下面结合具体机构设置来说明本发明的调整方式，请先参照图6A和图6B，分别为图2中第一调整机构设置于反射模块上的结构示意图及图6A所示结构沿A方向视角的结构示意图。以图2及图3A所示的实施例为例，结合图6A和图6B可知，反射镜121具有反射面1211和背面1212，第一调整机构141设置于反射镜121的背面1212上，第一调整机构141进一步包括：活动板1411、固定件1412、第一调节件1413和第二调节件1414(为更加清楚地表现元件结构特征，固定件1412以虚线示之)。

其中，活动板1411扣设于反射镜121的背面1212上，其扣设方式可以是由活动板1411周缘长出卡扣以卡固住反射镜121，亦可以利用外设扣合元件将活动板1411与反射镜121相互固定，但扣设方式不以此为限。如此，活动板1411的活动即可带动反射镜121的从动，且第一调整机构141的其他元件又不会直接与反射镜121接触，以避免各元件位置调整过程中对反射镜121造成不必要的损伤；固定件1412可活动地抵接活动板1412，具体可以为孔柱配合的抵接方式，如图6A所示，活动板1411与固定件1412抵接的位置长出有定位柱14111，而固定件1412与之相对应的形成有凹孔14121，且凹孔14121所形成的容置空间略大于定位柱14111所占空间，及定位柱14111与凹孔14121之间具有可活动的间隙，以使得固定件1412可活动地抵接活动板1412，需要说明的是，上述孔柱配合的抵接方式仅举例示之，即在实际应用中，还可以采用其他可活动的抵接方式，例如采用弹性元件承接方式、球体及球形孔配合方式等等，并以上述实施例为限；活动板1411具有相互邻接的第一侧边S1和第二侧边S2，第一调节件1413邻近活动板1411的第一侧边S1设置，第二调节件1414邻近活动板1411的第二侧边S2设置，且第一调节件1413与第二调节件1414均抵接活动板1411和固定件1412，进一步参照图6B，藉由第一调节件1413与第二调节件1414的设置，可分别调节活动板1411和固定件1412间相对于第一侧边S1的第一间距D1和相对于第二侧边S2的第二间距D2，值得说明的是，此处所述活动板和固定件间相对于某一侧边的间距，是指活动板和固定件间于对应调节件位置处的垂直距离，即举例而言，由于第一调节件1413邻近第一侧边S1设置，故其可调节活动板1411和固定件1412间相对于第一侧边S1的第一间距D1，即活动板1411和固定件1412间于第一调节件1413位置处的垂直距离D1。

藉由上述第一调整机构141的设置，由于固定件1412是固设于投影装置内的，所以当利用第一调节件1413与第二调节件1414对活动板1411和固定件1412间不同位置处的间距调节时，可以使得活动板1411相对于固定件1412发生位移，进而带动反射镜121产生位置的变动。于实际应用中，第一调节件1413与第二调节件1414可以是套设弹簧的螺柱，亦可以是具有调节段落感的齿条，凡用以调节两元件间间距的调节结构均可以作为本实施例中的第一调节件1413与第二调节件1414。此外，如图6A所示，活动板1411与固定件1412抵接的位置优选位于反射镜121的轴心线1211上，即在本实施例中，定位柱14111与凹孔14121位于反射镜121的轴心线1211上，以使第一调整机构141获得更精准的调节效果。

接着，请参照图7A和图7B，分别为图2中第二调整机构设置于光源模块上的结构示意图及图7A所示结构沿B方向视角的结构示意图。以图2所示的实施例为例，结合图7A和图7B可知，第二调整机构142设置均光器112上，第二调整机构142包括定位架1421、第一定位件1422和第二定位件1423。其中，定位架1421具有顺次邻接的第一内表面14211、第二内表面14212、第三内表面14213及第四内表面14214与外表面14215，以形成一容置空间W，此容置空间W用以套设均光器112，且第一内表面14211与均光器112之间具有第一弹性件T1，第二内表面14212与均光器112之间具有第二弹性件T2，第一弹性件T1与第二弹性件T2用以抵接均光器112与定位架1421，在本实施例中，第一弹性件T1与第二弹性件T2由定位架1421的外表面14215向内弯折形成，但于实际应用中，不以此为例，第一弹性件T1与第二弹性件T2可以是设置于定位架1421内表面与均光器112间的弹簧或者由均光器112外表面向外形成的弹性部等等，凡可以使得均光器112可相对于定位架1421发生位移的弹性元件均可作为第一弹性件T1与第二弹性件T2；第一定位件1422与第二定位件1423分别对应穿设第三内表面14213与第四内表面14214以抵接均光器112(如图7B所示)，其中，第一定位件1422用以调整均光器112在第一方向(Y轴方向)上的位置，第二定位件1423用以调整均光器112在第二方向(X轴方向)上的位置，藉此，通过第一弹性件T1与第二弹性件T2、第一定位件1422与第二定位件1423的设置，可以调整均光器112在第一方向与第二方向上的位置，进而实现第二调整机构142对光源模块110位置的调整。于本实施例中，第一定位件1422与第二定位件1423为螺丝，但不以此限，其亦可以为其他实现实时定位的构件，例如：定位滑轨、定位齿条等。

简言之，基于上述机构，本发明所提出之投影装置的特点在于首先利用第一调整机构141中的第一调节件1413与第二调节件1414调整反射模块120至第一位置，以使得投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx能够分别落在基准亮度范围L0和基准均匀度范围R0内；再由位置判断单元143判断反射模块120位于此第一位置时，驱动第二调整机构142中的第一定位件1422与第二定位件1423来调整光源模块110至第二位置，以使得投射区域1302覆盖影像模块130上的有效区域1301。

下面结合上述机构说明来进一步说明本发明提出的投影调整方法，请参照图8，为本发明一实施例中投影调整方法的流程示意图。本发明的投影调整方法包括：

S110：调整反射模块至第一位置，以使投射区域的第一亮度值及第一均匀度分别落在基准亮度范围和基准均匀度范围内；

S120：调整光源模块至第二位置，以使投射区域覆盖有效区域。

具体而言，在本实施例中，为了使得由影像模块130投射至镜头150的光线能获得更好的入射角度，即为了获得更好的投影品质，如步骤S110所示，需调整反射模块120至第一位置，以使得反射模块120反射的光线投射到影像模块130上所形成的投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx落在基准亮度范围L0和基准均匀度范围R0内，以确保投影装置100最终投射出的影像具有较好的亮度和亮度均匀度，但由于调整反射模块120的过程中，投射区域1302在影像模块130上的位置会随着反射模块120位置的改变而发生位移，进而导致投射区域1302无法完全覆盖影像模块130上的有效区域1301，从而导致投影影像的缺失，藉此，在执行步骤S110后，还需进行步骤S120：进一步调整光源模块110至第二位置，以使得投射区域1302覆盖影像模块130上的有效区域1301，进而解决由于调整反射模块120的位置引起的投射区域1302在影像模块130上的位置偏移的问题，并使得投影装置100可以投射出正常且完整的投影影像。

如上文所述，本发明的投影装置100还可以包括位置调整装置140中的第一调整机构141和第二调整机构142，且第一调整机构141设置于反射模块120上，第二调整机构142设置于光源模块110上，藉此，步骤S110中“调整反射模块至第一位置”实质为通过第一调整机构141调整反射模块120至第一位置；而步骤120中“调整光源模块至第二位置”实质为通过第二调整机构142调整光源模块110至第二位置。更进一步，如图6A、图6B以及图7A、7B所示之实施例中，第一调整机构141设置于反射镜121的背面1212上，且第一调整机构141进一步包括：活动板1411、固定件1412、第一调节件1413和第二调节件1414；第二调整机构142设置均光器112上，且第二调整机构142包括定位架1421、第一定位件1422和第二定位件1423。在此种机构设置下，步骤S110中“调整反射模块至第一位置”实质为通过第一调节件1413及该第二调节件1414分别调节固定件1412和活动板1411间相对于第一侧边S1的第一间距D1以及相对于第二侧边S2的第二间距D2，以调整反射镜121(反射模块120)至第一位置；而步骤120中“调整光源模块至第二位置”实质为通过第一定位件1422和第二定位件1423分别调整均光器112在第一方向(Y轴方向)上及第二方向(X轴方向)上的位置，以调整光源模块110至第二位置。

还需说明的是，本发明所提出之投影调整方法不仅可以直接作为投影装置生产过程中作业员的投影调整流程，即在对投影影像进行调整时，需要先调整反射模块的位置至最佳位置，再将光源模块调整至最佳位置；还可以作为程序植入至上文所述之位置调整装置140的位置判断单元143中，让位置判断单元143来控制第一调整机构141和第二调整机构142来完成上述位置调整动作，故位置判断单元143需耦接第一调整机构141和第二调整机构142，以实时的根据侦测光源模块110和反射模块120的位置以及投影效果的参数值(投射区域1302的第一亮度值Lx及第一均匀度Rx和投射区域1302相对于有效区域1301的位移量)，来对第一调整机构141和第二调整机构142发出驱动指令，以先后调整反射模块120和光源模块110至最佳位置，进而实现投影调整的自动化。

综上所述，本发明所提出之投影装置及投影调整方法，通过先调整反射模块至最佳位置，以使投射区域的亮度值及均匀度分别满足亮度及均匀度要求，之后再调整光源模块至最佳位置，以使投射区域覆盖影像模块上的有效区域，进而解决由于调整反射模块的位置引起的投射区域在影像模块130上位置偏移的问题，因此，本发明通过先后调整反射模块和光源模块的方式，使得投影装置可以获得正常的投影影像，且投影影像的亮度及均匀度均可最佳化。

本发明已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已揭露的实施例并未限制本发明的范围。相反地，在不脱离本发明的精神和范围内所作的更动与润饰，均属本发明的专利保护范围。

Claims (10)

1.一种投影装置，该投影装置包括光源模块、反射模块及影像模块，由该光源模块射出的光线经由该反射模块反射至该影像模块上，以在影像模块上形成投射区域，其中，影像模块具有有效区域，其特征在于，该投影装置还包括位置调整装置，该位置调整装置包括：

第一调整机构，设置于该反射模块上，该第一调整机构用以调整该反射模块至第一位置，以使该投射区域的第一亮度值及第一均匀度分别落在基准亮度范围和基准均匀度范围内；

第二调整机构，设置于该光源模块上，该第二调整机构用以调整该光源模块至第二位置，以使该投射区域覆盖该有效区域；以及

位置判断单元，耦接该第一调整机构和该第二调整机构，当该位置判断单元判断该反射模块位于该第一位置时，驱动该第二调整机构调整该光源模块至该第二位置。

2.如权利要求1所述的投影装置，其特征在于，该反射模块包括至少一反射镜，该反射镜具有反射面和背面，该第一调整机构设置于该反射镜的该背面。

3.如权利要求2所述的投影装置，其特征在于，该第一调整机构包括：

活动板，扣设于该反射镜的该背面，该活动板具有相互邻接的第一侧边和第二侧边；

固定件，可活动地抵接该活动板，且该固定件固设于该投影装置内；

第一调节件，邻近该活动板的该第一侧边设置，且该第一调节件抵接该固定件和该活动板，以调节该固定件和该活动板间相对于该第一侧边的第一间距；以及

第二调节件，邻近该活动板的该第二侧边设置，且该第二调节件抵接该固定件和该活动板，以调节该固定件和该活动板间相对于该第二侧边的第二间距。

4.如权利要求3所述的投影装置，其特征在于，该固定件与该活动板抵接的位置位于该反射镜的轴心线上。

5.如权利要求1所述的投影装置，其特征在于，该光源模块包括光源、均光器及透镜，该光源模块射出的光线经由该光源的出射光经该均光器均光后从该透镜射出，该第二调整机构设置于该均光器上。

6.如权利要求5所述的投影装置，其特征在于，该第二调整机构包括：

定位架，具有顺次邻接的第一内表面、第二内表面、第三内表面及第四内表面，以形成一容置空间，该容置空间用以套设该均光器，该第一内表面与该均光器之间具有第一弹性件，该第二内表面与该均光器之间具有第二弹性件，该第一弹性件与该第二弹性件用以抵接该均光器与该定位架；

第一定位件，穿设该第三内表面以抵接该均光器，该第一定位件用以调整该均光器在第一方向上的位置；以及

第二定位件，穿设该第四内表面以抵接该均光器，该第二定位件用以调整该均光器在第二方向上的位置。

7.如权利要求6所述的投影装置，其特征在于，该定位架具有外表面，该第一弹性件和该第二弹性件由该定位架的该外表面向内弯折形成。

8.一种投影调整方法，用以调整投影装置的投影效果，该投影装置包括光源模块、反射模块及影像模块，由该光源模块射出的光线经由该反射模块反射至该影像模块上，以在影像模块上形成投射区域，其中，影像模块具有有效区域，其特征在于，该投影调整方法为：

A.调整该反射模块至第一位置，以使该投射区域的第一亮度值及第一均匀度分别落在基准亮度范围和基准均匀度范围内；

B.调整该光源模块至第二位置，以使该投射区域覆盖该有效区域。

9.如权利要求8所述的投影调整方法，其特征在于，该反射模块包括至少一反射镜，该反射镜具有反射面和背面，该投影装置还包括第一调整机构，该第一调整机构设置于该反射镜的背面，且该第一调整机构包括：活动板，扣设于该反射镜的该背面，该活动板具有相互邻接的第一侧边和第二侧边；固定件，可活动地抵接该活动板，且该固定件固设于该投影装置内；第一调节件，邻近该活动板的该第一侧边设置，且该第一调节件抵接该固定件和该活动板；第二调节件，邻近该活动板的该第二侧边设置，且该第二调节件抵接该固定件和该活动板，该步骤A进一步为：

通过该第一调节件及该第二调节件分别调节该固定件和该活动板间相对于该第一侧边的第一间距以及相对于该第二侧边的第二间距，以调整该反射模块至该第一位置。

10.如权利要求8所述的投影调整方法，其特征在于，该光源模块包括光源、均光器及透镜，该光源模块射出的光线经由该光源的出射光经该均光器均光后从该透镜射出，该投影装置还包括第二调整机构，该第二调整机构设置于该均光器上，且该第二调整机构包括：定位架，具有顺次邻接的第一内表面、第二内表面、第三内表面及第四内表面，以形成一容置空间，该容置空间用以套设该均光器，该第一内表面与该均光器之间具有第一弹性件，该第二内表面与该均光器之间具有第二弹性件，该第一弹性件与该第二弹性件用以抵接该均光器与该定位架；第一定位件，穿设该第三内表面以抵接该均光器；第二定位件，穿设该第四内表面以抵接该均光器，该步骤B进一步为：

通过该第一定位件及该第二定位件分别调整该均光器在第一方向上及第二方向上的位置，以调整该光源模块至该第二位置。