CN111752108A - 一种led照明装置及曝光机 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种LED照明装置及曝光机。该LED照明装置包括：LED光源模块，光源控制模块，匀光模块，成像模块和视场调整模块；所述光源控制模块与所述LED光源模块连接，用于控制所述LED光源模块的发光状态；所述匀光模块用于对所述LED光源模块发出的光束进行匀光；所述视场调整模块用于调整所述匀光模块出射的光束的视场大小；所述成像模块用于将所述视场调整模块出射的光束投射到照明位置。本发明实施例的方案可有效解决照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。

Description

一种LED照明装置及曝光机

技术领域

本发明实施例涉及边缘曝光技术，尤其涉及一种LED照明装置及曝光机。

背景技术

硅片边缘曝光(WEE)是IC电路制造非常重要的工艺之一。由于硅片边缘存在裂纹，判断方向的缺口(Notch)，以及光刻胶的剩余物、清洗的污染物和镀膜、刻蚀、抛光的不均匀等缺陷问题，导致硅片边缘不能使用或即使整个硅片边缘布满了芯片，但仍会由于硅片边缘的问题而成为废片，这就需要将硅片边缘部分区域的光刻胶提前曝光去除掉。

电镀在IC电路后道封装工艺中，需要利用硅片边缘做阳极，硅片中间的电镀窗口为阴极，通过控制阴阳极之间的电流大小及电镀液的浓度来控制金属凸块(Bump)的高度。由于光刻胶不导电，因此在电镀工艺之前需要将硅片边缘的光刻胶去掉，而去边宽度大小取决于WEE工艺的去边宽度需求。另外，在某些特殊的工艺中还会要求对硅片边缘内部一定宽度的环形区域进行曝光，这就对边缘曝光系统的光斑尺寸调整、能量利用率、光源响应时间、曝光产率、产品使用寿命等诸多方面提出了更高的要求。

然而，现有边缘曝光机采用汞灯作为光源，存在开关延时、照度低且寿命较短，频繁更换，浪费备件成本的问题。

发明内容

本发明提供一种LED照明装置及曝光机，可有效解决照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。

第一方面，本发明实施例提供了一种LED照明装置，包括：

LED光源模块，光源控制模块，匀光模块，成像模块和视场调整模块；

所述光源控制模块与所述LED光源模块连接，用于控制所述LED光源模块的发光状态；

所述匀光模块用于对所述LED光源模块发出的光束进行匀光；

所述视场调整模块用于调整所述匀光模块出射的光束的视场大小；

所述成像模块用于将所述视场调整模块出射的光束投射到照明位置。

可选的，所述视场调整模块包括多个光阑，所述多个光阑开孔大小不同且可切换地进入照明光路中。

可选的，所述多个光阑的开孔中心之间的距离均大于等于12mm。

可选的，所述多个光阑的开孔沿曝光宽度方向的尺寸依次增大，其他方向的尺寸均相等。

可选的，所述LED光源模块包括LED发光单元和聚焦透镜。

可选的，所述成像模块包括沿光路依次设置的第一双凸透镜、第一凸凹透镜、第二双凸透镜、第三双凸透镜、第一凹凸透镜以及第四双凸透镜；

所述第一双凸透镜设置于所述第一凸凹透镜邻近所述LED光源模块的一侧。

可选的，所述匀光模块包括第一石英棒。

可选的，所述LED光源模块包括LED发光单元阵列。

可选的，所述匀光模块包括微透镜阵列和第二石英棒；

所述微透镜阵列沿光路设置于所述第二石英棒邻近所述LED光源模块的一侧。

可选的，所述第二石英棒的出射端面的面积大于入射端面的面积。

可选的，该LED照明装置还包括：

光学挡片，沿光路设置于所述LED光源模块和所述匀光模块之间，所述光学挡片用于调整所述LED光源模块出射光束的数值孔径。

可选的，成像模块包括沿光路依次设置的第二凹凸透镜、第五双凸透镜、第二凸凹透镜、第三凸凹透镜、第六双凸透镜、反射镜、第一双凹透镜、第三凹凸透镜、第七双凸透镜以及平面透镜；

第二凹凸透镜设置于第五双凸透镜邻近LED光源模块的一侧。

第二方面，本发明实施例还提供一种曝光机，包括本发明任意实施例所述的LED照明装置。

可选的，该曝光机还包括：

第一运动部件，所述第一运动部件用于带动LED照明装置的视场调整模块运动，切换不同的光阑。

本发明实施例提供的LED照明装置采用LED光源模块，由于LED发光单元能量照度高，能耗小，使用寿命长，响应较快，可有效解决LED照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种LED照明装置的示意图；

图2是本发明实施例提供的一种视场调整模块的示意图；

图3是本发明实施例提供的一种LED照明装置的结构示意图；

图4是视场调整模块与匀光模块的位置示意图；

图5是本发明实施例提供的成像模块的示意图；

图6是本发明实施例提供的又一种LED照明装置的示意图；

图7为一种微透镜阵列的示意图；

图8是本发明实施例提供的又一种成像模块的示意图；

图9是本发明实施例提供的一种曝光机的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

本发明提供了一种LED照明装置，图1是本发明实施例提供的一种LED照明装置的示意图，参考图1，该装置包括：

LED光源模块10，光源控制模块20，匀光模块30，视场调整模块40和成像模块50；

光源控制模块20与LED光源模块10连接，用于控制LED光源模块10的发光状态；

匀光模块30用于对LED光源模块10发出的光束进行匀光；

视场调整模块40用于调整匀光模块30出射的光束的视场大小；

成像模块50用于将视场调整模块40出射的光束投射到照明位置。

其中，LED光源模块10包括至少一个发光二极管(Light Emitting Diode,LED)发光单元，多个LED发光单元的发光波长可以相同也可以不同。LED光源模块10的发光波段可以包括365nm、385nm、395nm、400nm、425nm等。具体的，LED发光单元能量照度高，与常规弧光灯相比LED发光单元能耗非常小，可有效节能，且LED发光单元的使用寿命较长，无需频繁更换，此外LED发光单元的开启和关闭时间仅有25ms，响应较快，可有效解决照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。

光源控制模块20用于控制LED光源模块10的开启或关闭，光源控制模块20接收曝光剂量，并根据曝光剂量控制LED光源模块10的照度。此外，光源控制模块20还用于监控LED光源模块10的温度以及寿命等参数，使LED光源模块10在照射期间光学稳定性自动维持在±5％以内，实现自动闭环校准，进一步提高了边缘曝光的产率和良率。光源控制模块20可以包括PLC控制器以及光耦合器器件等。

由于LED发光单元出光端的光斑能量分布不均匀，为了获得均匀分布的照射光斑，需要进行匀光，匀光模块30可以采用石英棒等匀光器件，本实施例并不做具体限定。此外，通过设置视场调整模块40，可以方便的调整光束的视场大小，满足不同的曝光宽度需求，提高工艺适应性。成像模块50用于将光束汇聚成像到硅片面上，实现指定区域的曝光。

本实施例提供的LED照明装置采用LED光源模块10，由于LED能量照度高，能耗小，使用寿命长，响应较快，可有效解决LED照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。

图2是本发明实施例提供的一种视场调整模块的示意图，可选的，参考图2，视场调整模块40包括多个光阑41，多个光阑41开孔大小不同且可切换地进入照明光路中。

其中，不同开孔大小的光阑41对应不同大小的视场，可以通过切换不同开孔的光阑41调整视场大小，从而调整曝光尺寸。示例性的，视场调整模块40可以包括光阑座42以及固定于光阑座42上的多个光阑41，通过移动光阑座42实现不同光阑41的切换。

可选的，多个光阑41的开孔中心之间的距离均大于等于12mm。

具体的，若光阑41的中心距离太小，相邻的光阑41之间容易对曝光视场产生影响，通过设置光阑41的开孔中心之间的距离均大于等于12mm，保证了曝光的稳定性，示例性的，相邻光阑41的开孔中心距离可以设置为23mm，光阑41的外形尺寸可以设置为22mm×15mm。

具体的，光阑41的开孔尺寸可以根据不同的曝光宽度要求进行设定，可以设置光阑41开孔沿曝光宽度方向的尺寸依次增大，各光阑41其他方向的尺寸可以设置为均相等，示例性的可以均设置为2mm、3mm或5mm等。表1示出了光阑41开孔的具体尺寸。其中，开孔尺寸指光阑41开孔沿曝光宽度方向的尺寸，镜头倍率指成像模块的放大倍率，像尺寸指成像模块照明束所成的像的尺寸，负胶偏差和正胶偏差分别指采用负性光刻胶和采用正性光刻胶时的曝光尺寸偏差。负胶曝光宽度以及正胶曝光宽度分别指相应的开口尺寸时采用负胶和正胶进行曝光时的曝光宽度。可以根据不同的曝光宽度需要选择相应的开孔尺寸。

表1

图3是本发明实施例提供的一种LED照明装置的结构示意图，可选的，参考图3，LED光源模块10包括LED发光单元11和聚焦透镜12。

其中，聚焦透镜12用于汇聚LED发光单元11发射的光束，使LED发光单元11发射的光束更多的进入匀光模块30，提高光能利用率。

可选的，继续参考图3，匀光模块30包括第一石英棒。

具体的，第一石英棒通过将光束在其内部进行多次反射，达到匀光的目的。其中，第一石英棒入射端面和出射端面的截面尺寸可以相同，即第一石英棒为长方体形。为了满足均匀性需求，第一石英棒需要达到一定的长宽比。第一石英棒入射端面和出射端面的宽度与第一石英棒沿光束传输方向的长度的比值，决定匀光效果，其中，第一石英棒入射端面和出射端面的宽度和高度由LED照明装置的物方视场尺寸决定。示例性的，第一石英棒尺寸可以设置为9.4mm×9.4mm×175mm。

此外，LED光源模块的出射数值孔径较大时，则进入第一石英棒的光束的入射角度较大，光束不能满足全反射条件，可以对第一石英棒的四个反射面镀全反射膜，从而提高光能利用率。

图4是视场调整模块与匀光模块的位置示意图，参考图4，第一石英棒固定于机械固定座31上，光阑41与机械固定座之间的距离可以设置为0.2mm，与第一石英棒出射端面的距离可以设置0.5mm。这样设置，保证光阑41移动时不会与机械固定座31产生摩擦，且使得光阑41对光束的折射、反射以及散射等作用较小，保证光阑41在调整视场大小的同时不会对光束产生影响。

图5是本发明实施例提供的成像模块的示意图，可选的，参考图5，成像模块50包括沿光路依次设置的第一双凸透镜51、第一凸凹透镜52、第二双凸透镜53、第三双凸透镜54、第一凹凸透镜55以及第四双凸透镜56；

第一双凸透镜51设置于第一凸凹透镜52邻近LED光源模块的一侧。

具体的，表2示出了各透镜的具体尺寸以及各透镜之间的间距。其中，rij指沿光路传输方向第i个透镜的第j个表面的半径，其中i为大于或等于1，且小于或等于6的正整数，j为1或2，j等于1代表透镜邻近LED光源模块的表面，j等于2代表透镜远离LED光源模块的表面。且rij为正数代表该表面沿光线传输方向向远离LED光源模块的方向凸起，rij为负数代表该表面沿光线传输方向向邻近LED光源模块的方向凸起。dm代表沿光路传输方向第m个透镜沿光轴的厚度，m为大于或等于1，且小于或等于6的正整数。dpq代表沿光路传输方向第p个透镜和第q个透镜之间沿光轴的间距，p和q均为大于或等于1，且小于或等于m的整数。

表2

示例性的，参考表2，r11为第一双凸透镜51邻近LED光源模块的表面的半径，r11为负值代表第一双凸透镜51邻近LED光源模块的表面向LED光源模块方向凸起。d1为第一双凸透镜51的厚度，d12为第一双凸透镜51与第一凸凹透镜52之间沿光轴的间距。

此外，参考图5，成像模块还包括第一遮杂散光光阑57，设置于第二双凸透镜53和第三双凸透镜54之间，用于去除环境中的杂散光。沿光路传输方向,第一遮杂散光光阑57和第二双凸透镜53以及第三双凸透镜54之间的间距分别为d8和d7，第一双凸透镜51与物面之间的间距为d0，第四双凸透镜56与像面之间的间距为d9。需要说明的是，本实施例中所提到的间距均为在中心光轴上的距离。

通过仿真得到，本实施例的成像模块最大弥散斑尺寸不超过0.25mm，对应光学半影不超过0.2mm；视场内不同波长的最大畸变<0.4％，在像面设置探测器，通过设置条件追迹大量光线，对探测器上的光强数据进行分析可知，硅片面5×5mm照明区域的均匀性为2.5％。

为方便安装及降低零件成本，成像模块可以采用调节方式确保透镜偏心、倾斜和空气间隔精度。

图6是本发明实施例提供的又一种LED照明装置的示意图，在上述实施例的基础上，可选的，参考图6，LED光源模块包括LED发光单元11阵列。

具体的，LED发光单元阵列可以包括m*n个LED发光单元11，其中，m和n均为大于或等于1的整数。示例性的，可以包括九个相同型号的LED发光单元11，排列成3*3的阵列。LED发光单元11阵列的角分布采用朗伯分布，使得LED光源模块10发出的光束近似一个同样半径同样亮度的发光圆盘。LED发光单元11的发光波长可以为465nm、435nm、365nm或更短波长。LED发光单元11阵列的出射NA小于0.95。通过采用LED发光单元11阵列，可提高LED光源模块10的照度，从而提高LED光源模块10的照度，提高曝光效率。具体的，可以根据照度需要调节LED发光单元11阵列中LED发光单元11的数量。

可选的，匀光模块30包括微透镜阵列33和第二石英棒32；

微透镜阵列33沿光路设置于第二石英棒32邻近LED光源模块10的一侧。

具体的，微透镜阵列33由两组相互垂直的柱面镜叠加组成，可以将单个光源分解成多个照明光源，提高照明均匀性，利用微透镜阵列33来收集光束的作用是初步匀光，通过对微透镜阵列33的曲率的设计来改变光束数值孔径，使得进入第二石英棒32的光束的数值孔径变大，第二石英棒32中光束的反射次数增加，达到在第二石英棒32出射端面的光束分布更加均匀的效果。图7为一种微透镜阵列的示意图，示例性的，微透镜阵列33的结构如图7所示，尺寸为20mm*20mm*2mm(公差均为±0.1)，通光口径为18mm*18mm，半径为4.35±0.13mm，透过率92％。

第二石英棒32是一个入射端面与出射端面有一定比例M的石英积分棒，可以通过改变M的值来控制石英棒出射数值孔径。成像模块50的物面位于第二石英棒32的出射端面，把第二石英棒32出射端面的均匀视场放大，并在中继像面形成均匀性1％以下的均匀性曝光视场。

本实施例中采用微透镜阵列33和第二石英棒32组合形成匀光模块30调节光束的均匀性，进一步提高了匀光效果，且LED发光单元11阵列发出的光直接进入匀光模块30中，此过程没有光能损失，大大提高了光能利用率。

可选的，参考图6，LED照明装置还包括：

光学挡片60，沿光路设置于LED光源模块10和匀光模块30之间，光学挡片60用于调整LED光源模块10出射光束的数值孔径。

其中，LED光源模块10采用LED发光单元11阵列时，其具有一定的出射数值孔径，并且数值孔径关于LED发光单元11阵列的中心对称。通过设置光学挡片60可以一定程度上减小LED光源模块10的数值孔径，使LED光源模块10发出的光线能够最大限度的耦合进入匀光模块30，提高光能利用率。

具体的，LED光源模块10与光学挡片60之间的距离为L1，L1小于2mm。其中，LED光源模块10与光学挡片60之间的距离L1由LED光源模块10的出射端的数值孔径及第二石英棒32的入射端面的大小决定，距离越近(L1越小)，耦合进入微透镜阵列33和第二石英棒32的光能量越多，光能利用率就会越高，当L1小于lmm时，耦合进入微透镜阵列33和第二石英棒32的光能可达到100％。

可选的，光学挡片60与所述微透镜阵列33之间的距离为L2，L2<L4/2tanθ，其中，θ为所述LED光源模块10的最大半散射角。微透镜阵列33与第二石英棒32之间的距离也为L2，使得第二石英棒32能够收集到从光学挡片60穿出的所有光束。

可选的，第二石英棒32的出射端面的面积大于入射端面的面积。

具体的，LED光源模块10的出射截面为L3XL3的正方形，出射数值孔径小于0.95，第二石英棒32的入射端面为L4X L4的正方形，出射端面为L5X L5的正方形，且L3<L4<L5，则可得到数值孔径为0.40，视场大小为L5×L5mm的均匀区域。

此外，通过第二石英棒32的出射端面的面积大于入射端面的面积，使得第二石英棒32的出射光束的数值孔径与后续光学系统匹配。当然，本实施例也可通过调整LED光源模块10与第二石英棒32之间的距离调整第二石英棒32的出射光束的数值孔径，并达到与后续光学系统匹配的效果。

可选的，第二石英棒32的反射面上均镀有全反射膜。

具体的，当LED光源模块10的出射光束的数值孔径非常大，在进入第二石英棒32中时，入射角度较大的光束不能满足全反射条件，通过对第二石英棒32的四个反射面镀全反射膜，可以大大提高光能利用率。

图8是本发明实施例提供的又一种成像模块的示意图，可选的，参考图8，成像模块50包括沿光路依次设置的第二凹凸透镜71、第五双凸透镜72、第二凸凹透镜73、第三凸凹透镜74、第六双凸透镜75、反射镜76、第一双凹透镜77、第三凹凸透镜78、第七双凸透镜79以及平面透镜80；

第二凹凸透71镜设置于第五双凸透镜72邻近LED光源模块10的一侧。

具体的，表3示出了各透镜的具体尺寸以及各透镜之间的间距。其中，Rij指沿光路传输方向第i个透镜的第j个表面的半径，其中i为大于或等于1，且小于或等于6的正整数，j为1或2，j等于1代表透镜邻近LED光源模块的表面，j等于2代表透镜远离LED光源模块的表面。且Rij为正数代表该表面沿光线传输方向向远离LED光源模块的方向凸起，Rij为负数代表该表面沿光线传输方向向邻近LED光源模块的方向凸起。Dm代表沿光路传输方向第m个透镜沿光轴的厚度，m为大于或等于1，且小于或等于6的正整数。Dpq代表沿光路传输方向第p个透镜和第q个透镜之间沿光轴的间距，p和q均为大于或等于1，且小于或等于m的整数。

表3

示例性的，参考表3，R11为第二凹凸透镜71邻近LED光源模块的表面的半径，R11为正代表该表面沿光路向远离LED光源模块的方向凸起。D1为第二凹凸透镜71的厚度，D12为第二凹凸透镜71与第五双凸透镜71之间的距离。

此外，参考图8，成像模块还包括第二遮杂散光光阑81，设置于第二凸凹透镜73和第三凸凹透镜74之间，用于去除环境中的杂散光。沿光路传输方向,第二遮杂散光光阑81和第二凸凹透镜73以及第三凸凹透镜74之间的间距分别为D31和D41，第二凹凸透镜71与物面之间的间距为D0。

通过采用上述成像模块，可以得到远心准直视场，且对上述成像模块进行仿真和实测得到，仿真光束的均匀性可达3.69％，实测光束均匀性可达3.9％。

本实施例还提供了一种曝光机，图9是本发明实施例提供的一种曝光机的示意图，参考图9，该曝光机100包括本发明任意实施例所提供的LED照明装置200。

可选的，该曝光机100还包括：

第一运动部件，第一运动部件用于带动LED照明装置200的视场调整模块运动，切换不同的光阑。

具体的，曝光机100还包括运动部件300、控制部件400和监测部件500，可以完成6寸、8寸以及12寸硅片的边缘曝光、分段曝光、环形曝光盒直线曝光等多种功能。其中：

运动部件300包括WEE运动组件和预对准运动组件。其中WEE运动组件包括X和Y运动平台和光阑自动切换D轴(即第一运动部件)。D轴主要完成视场的自动切换和调整，满足不同视场大小的需求；X和Y运动平台承载实施的LED照明装置200，通过X和Y运动平台的相互配合运动，实现照明光束在硅片面上的不同位置调整，同时实现不同硅片曝光工位的自动切换，并实现Y向的直线曝光。

预对准组件主要包括定心台、旋转升降台、CCD镜头光源和切换轴等。定心台提供水平向直线运动(实现硅片偏心的补偿)；旋转升降台提供垂向升降(实现硅片垂向定位以及与定心台的硅片交接)和水平向旋转(带动硅片旋转)；CCD镜头光源实现对硅片边缘形貌数据的采集；切换轴提供水平向直线运动(实现CCD镜头光源的位置切换以适应不同尺寸的硅片，比如实现6寸、8寸、12寸硅片工位的自动切换)。

预对准过程主要是完成硅片(包括6寸、8寸和12寸硅片)的定心和定向功能，实现硅片标记(比如notch标记)的精确定位，为后续边缘曝光功能的实现奠定基础。

监测部件500包括ESS传感器组件。ESS传感器(energy spot sensor)用于测量LED照明装置的光强，并响应不同的光强输出一定线性度对应的电压值ESS＝gain×U。

控制部件400包括光源控制器、控制机箱、计算机软硬件系统等组件组成。通过控制LED照明装置200、运动部件300、监测部件500协调完成边缘曝光流程示。其中计算曝光参数，主要是根据边缘曝光的剂量控制照度、扫描速度、视场大小、硅片尺寸之间的关系，计算旋转R轴的曝光运动速度。对于同一个目标剂量，以上主要变量的关系为：

其中，I为照度；dl为视场大小；v扫描速度；W为硅片周长，其中目标剂量dDose根据不同的光刻胶等确定，硅片尺寸是确定的；视场大小dl是不变的，以上公式中仅有照度I与扫描速度v为可控的变量，通过调节照度和扫描速度实现曝光功能。

本实施例提供的曝光机100通过采用LED照明装置200，LED照明装置200采用LED光源模块，由于LED能量照度高，能耗小，使用寿命长，响应较快，可有效解决LED照明装置开关延时、照度低和寿命短的问题，提高了边缘曝光的产率和良率，并节约了备件成本。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (14)

1.一种LED照明装置，其特征在于，包括：

LED光源模块，光源控制模块，匀光模块，成像模块和视场调整模块；

所述光源控制模块与所述LED光源模块连接，用于控制所述LED光源模块的发光状态；

所述匀光模块用于对所述LED光源模块发出的光束进行匀光；

所述视场调整模块用于调整所述匀光模块出射的光束的视场大小；

所述成像模块用于将所述视场调整模块出射的光束投射到照明位置。

2.根据权利要求1所述的LED照明装置，其特征在于：

所述视场调整模块包括多个光阑，所述多个光阑开孔大小不同且可切换地进入照明光路中。

3.根据权利要求2所述的LED照明装置，其特征在于：

所述多个光阑的开孔中心之间的距离均大于等于12mm。

4.根据权利要求2所述的LED照明装置，其特征在于：

所述多个光阑的开孔沿曝光宽度方向的尺寸依次增大，其他方向的尺寸均相等。

5.根据权利要求1所述的LED照明装置，其特征在于：

所述LED光源模块包括LED发光单元和聚焦透镜。

6.根据权利要求5所述的照明装置，其特征在于：

所述成像模块包括沿光路依次设置的第一双凸透镜、第一凸凹透镜、第二双凸透镜、第三双凸透镜、第一凹凸透镜以及第四双凸透镜；

所述第一双凸透镜设置于所述第一凸凹透镜邻近所述LED光源模块的一侧。

7.根据权利要求5所述的LED照明装置，其特征在于：

所述匀光模块包括第一石英棒。

8.根据权利要求1所述的LED照明装置，其特征在于：

所述LED光源模块包括LED发光单元阵列。

9.根据权利要求1或8所述的LED照明装置，其特征在于：

所述匀光模块包括微透镜阵列和第二石英棒；

所述微透镜阵列沿光路设置于所述第二石英棒邻近所述LED光源模块的一侧。

10.根据权利要求9所述的LED照明装置，其特征在于：

所述第二石英棒的出射端面的面积大于入射端面的面积。

11.根据权利要求8所述的LED照明装置，其特征在于，还包括：

光学挡片，沿光路设置于所述LED光源模块和所述匀光模块之间，所述光学挡片用于调整所述LED光源模块出射光束的数值孔径。

12.根据权利要求8所述的LED照明装置，其特征在于：

成像模块包括沿光路依次设置的第二凹凸透镜、第五双凸透镜、第二凸凹透镜、第三凸凹透镜、第六双凸透镜、反射镜、第一双凹透镜、第三凹凸透镜、第七双凸透镜以及平面透镜；

第二凹凸透镜设置于第五双凸透镜邻近LED光源模块的一侧。

13.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求1-12任一项所述的LED照明装置。

14.根据权利要求13所述的曝光机，其特征在于，还包括：

第一运动部件，所述第一运动部件用于带动LED照明装置的视场调整模块运动，切换不同的光阑。

Images