CN104375292A - 一种真空机台的真空反应腔及真空机台 - Google Patents
一种真空机台的真空反应腔及真空机台 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104375292A CN104375292A CN201410662413.6A CN201410662413A CN104375292A CN 104375292 A CN104375292 A CN 104375292A CN 201410662413 A CN201410662413 A CN 201410662413A CN 104375292 A CN104375292 A CN 104375292A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- vacuum
- observation window
- observation
- reaction cavity
- reaction chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
本发明提供一种真空机台的真空反应腔及真空机台,该真空反应腔包括反应腔体、承载基板、以及观测窗;该观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃以及用于扩大透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。本发明还提供一种真空机台,本发明的真空机台的真空反应腔及真空机台易于观测操作,从而提高了生产效率,避免的产能浪费。
Description
技术领域
本发明涉及真空设备领域,特别是涉及一种真空机台的真空反应腔及真空机台。
背景技术
目前的液晶显示面板的阵列基板的制造过程中,主要会用到三种真空机台,如成膜部分的PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积)、CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积),刻蚀部分的干法刻蚀设备(Dry Etch)。
受成膜条件的影响,上述真空机台的真空反应腔通常会维持在高温及高真空状态;如生产过程中真空机台出现异常,需要工作人员观测真空反应腔内的腔体情况及腔体内的基板情况时,工作人员要对真空机台进行停机降温操作,然后打开真空反应腔的腔体才能进行观测操作。这个过程耗时较长,且观测完毕后还需要进行升温抽真空等一系列复机动作,从而影响生产效率,造成不必要的产能浪费。
故,有必要提供一种真空机台的真空反应腔及真空机台,以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种易于观测操作的真空机台的真空反应腔及真空机台;以解决现有的真空机台的真空反应腔及真空机台的生产效率低下且产能浪费比较严重的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明实施例提供一种真空机台的真空反应腔,其包括:
反应腔体,包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间;
承载基板,设置在所述反应腔体的所述底壁的中部,用于承载待处理基板;以及
观测窗,设置在所述反应腔体的所述侧壁上,用于观测所述反应腔体内的所述容纳空间;
其中所述观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃,以及用于扩大所述透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。
在本发明所述的真空机台的真空反应腔中,所述真空反应腔包括第一观测窗和第二观测窗,所述第一观测窗和所述第二观测窗分别设置在所述反应腔体的相对的两个侧壁上。
在本发明所述的真空机台的真空反应腔中,所述真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗,所述第一观测窗、所述第二观测窗以及所述第三观测窗分别设置在所述反应腔体的三个侧壁上。
在本发明所述的真空机台的真空反应腔中,所述视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜,所述第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合,第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。
在本发明所述的真空机台的真空反应腔中,所述视角扩大部件可相对所述透明观测玻璃前后移动。
在本发明所述的真空机台的真空反应腔中,所述视角扩大部件可拆卸的设置在所述反应腔体的所述侧壁上。
本发明实施例还提供一种真空机台,其包括真空反应腔以及反应操作装置;其中所述真空反应腔包括:
反应腔体,包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间;
承载基板,设置在所述反应腔体的所述底壁的中部,用于承载待处理基板;以及
观测窗,设置在所述反应腔体的所述侧壁上,用于观测所述反应腔体内的所述容纳空间;
其中所述观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃,以及用于扩大所述透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。
在本发明所述的真空机台中,所述真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗,所述第一观测窗、所述第二观测窗以及所述第三观测窗分别设置在所述反应腔体的三个侧壁上。
在本发明所述的真空机台中,所述视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜,所述第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合,第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。
在本发明所述的真空机台中,所述视角扩大部件可拆卸的设置在所述反应腔体的所述侧壁上;所述视角扩大部件可相对所述透明观测玻璃前后移动。
相较于现有的真空机台的真空反应腔及真空机台,本发明的真空机台的真空反应腔及真空机台通过在反应腔体的侧壁上设置具有视角扩大部件的观测窗,便于对真空反应腔进行观测操作,提高了真空机台的生产效率,避免了真空机台的产能浪费;解决了现有的真空机台的真空反应腔及真空机台的生产效率低下且产能浪费比较严重的技术问题。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1为本发明的真空机台的真空反应腔的优选实施例的俯视结构示意图;
图2为沿图1的A-A’截面线的截面图;
图3为本发明的真空机台的真空反应腔的优选实施例的观测窗的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。
在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图1和图2,图1为本发明的真空机台的真空反应腔的优选实施例的俯视结构示意图,图2为沿图1的A-A’截面线的截面图。本优选实施例的真空机台的真空反应腔10包括反应腔体11、承载基板12以及观测窗。反应腔体11包括由四侧壁111、一顶壁112以及一底壁113构成的一容纳空间114;承载基板12设置在反应腔体11的底壁113的中部,用于承载待处理基板;观测窗设置在反应腔体11的侧壁111上,用于观测反应腔体11内的容纳空间114中的情况,如待处理基板上的真空处理情况等。
在本优选实施例中,该真空反应腔10包括一个第一观测窗131、一个第二观测窗132以及两个第三观测窗133,其中第一观测窗131设置在反应腔体11的左侧壁上,第二观测窗132设置在反应腔体11的右侧壁上,第三观测窗133设置在反应腔体11的前侧壁上。真空机台的反应操作装置一般设置在反应腔体11的后侧壁上。这样操作人员可以多视角、多位置的对承载基板12上的待处理基板以及容纳空间114的其他位置进行观测操作,并且也可多个操作人员同时通过不同的观测窗进行观测操作,以及时发现反应腔体11的容纳空间114内的所有操作问题;并充分利用的反应腔体11外部的所有可利用空间。
当然这里也可在真空反应腔10上仅设置第一观测窗131以及第二观测窗132,第一观测窗131和第二观测窗132分别设置在反应腔体11的相对的两个侧壁上,通过第一观测窗131和第二观测窗132即可对容纳空间114进行无死角观测。
在本优选实施例的真空机台的真空反应腔10内,每个观测窗(如第一观测窗131以及第二观测窗132等)包括透明观测玻璃134以及视角扩大部件135。透明观测玻璃134用于操作人员进行观测操作,视角扩大部件135用于扩大透明观测玻璃134的观测视角。如图3所示,图3为本发明的真空机台的真空反应腔的优选实施例的观测窗的结构示意图。本优选实施例的视角扩大部件135包括第一凸透镜1351和第二凸透镜1352,第一凸透镜1351和第二凸透镜1352的主光轴重合于线C,第一凸透镜1351的右焦点和第二凸透镜1352的左焦点重合于B点。
通过上述的视角扩大部件135中的第一凸透镜1351和第二凸透镜1352的组合可有效的扩大每个观测窗的观测视角,使得观测操作更为清晰。
优选的,本优选实施例的真空机台的真空反应腔10的观测窗的视角扩大部件135可相对观测窗的透明观测玻璃134前后移动,这样可进一步对观测窗的观测范围进行调整,避免观测死角的产生。
优选的,本优选实施例的真空机台的真空反应腔10的观测窗的视角扩大部件135可拆卸的设置在反应腔体11的侧壁111上,以节约真空机台以及反应腔体11的制作成本。
因此本发明的真空机台的真空反应腔通过在反应腔体的侧壁上设置具有视角扩大部件的观测窗,便于对真空反应腔进行观测操作,提高了真空机台的生产效率,避免了真空机台的产能浪费。
本发明还提供一种真空机台,该真空机台包括真空反应腔以及反应操作装置,该反应操作装置用于开启或关闭真空反应腔,以及对真空反应腔进行通气操作、抽真空操作等反应操作。
该真空反应腔包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间;承载基板设置在反应腔体的底壁的中部,用于承载待处理基板;观测窗分别设置在反应腔体的侧壁上,用于观测反应腔体内的容纳空间;其中观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃,以及用于扩大透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。
优选的,真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗,第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗分别设置在反应腔体的三个侧壁上。
优选的,视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜,第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合,第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。
优选的,视角扩大部件可拆卸的设置在反应腔体的侧壁上,视角扩大部件可相对透明观测玻璃前后移动。
本发明的真空机台的具体使用原理与上述的真空机台的真空反应腔的优选实施例中描述的使用原理相同或相似,具体请参见上述真空机台的真空反应腔的优选实施例中的相关描述。
本发明的真空机台的真空反应腔及真空机台通过在反应腔体的侧壁上设置具有视角扩大部件的观测窗,便于对真空反应腔进行观测操作,减少了停机观测操作的次数,从而提高了真空机台的生产效率,避免了真空机台的产能浪费;解决了现有的真空机台的真空反应腔及真空机台的生产效率低下且产能浪费比较严重的技术问题。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种真空机台的真空反应腔,其特征在于,包括:
反应腔体,包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间;
承载基板,设置在所述反应腔体的所述底壁的中部,用于承载待处理基板;以及
观测窗,设置在所述反应腔体的所述侧壁上,用于观测所述反应腔体内的所述容纳空间;
其中所述观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃,以及用于扩大所述透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。
2.根据权利要求1所述的真空机台的真空反应腔,其特征在于,所述真空反应腔包括第一观测窗和第二观测窗,所述第一观测窗和所述第二观测窗分别设置在所述反应腔体的相对的两个侧壁上。
3.根据权利要求1所述的真空机台的真空反应腔,其特征在于,所述真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗,所述第一观测窗、所述第二观测窗以及所述第三观测窗分别设置在所述反应腔体的三个侧壁上。
4.根据权利要求1所述的真空机台的真空反应腔,其特征在于,所述视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜,所述第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合,第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。
5.根据权利要求1所述的真空机台的真空反应腔,其特征在于,所述视角扩大部件可相对所述透明观测玻璃前后移动。
6.根据权利要求1所述的真空机台的真空反应腔,其特征在于,所述视角扩大部件可拆卸的设置在所述反应腔体的所述侧壁上。
7.一种真空机台,其特征在于,包括真空反应腔以及反应操作装置;其中所述真空反应腔包括:
反应腔体,包括由四侧壁、一顶壁以及一底壁构成的一容纳空间;
承载基板,设置在所述反应腔体的所述底壁的中部,用于承载待处理基板;以及
观测窗,设置在所述反应腔体的所述侧壁上,用于观测所述反应腔体内的所述容纳空间;
其中所述观测窗包括用于观测操作的透明观测玻璃,以及用于扩大所述透明观测玻璃的观测视角的视角扩大部件。
8.根据权利要求7所述的真空机台,其特征在于,所述真空反应腔包括第一观测窗、第二观测窗以及第三观测窗,所述第一观测窗、所述第二观测窗以及所述第三观测窗分别设置在所述反应腔体的三个侧壁上。
9.根据权利要求7所述的真空机台,其特征在于,所述视角扩大部件包括第一凸透镜以及第二凸透镜,所述第一凸透镜和第二凸透镜的主光轴重合,第一凸透镜的右焦点和第二凸透镜的左焦点重合。
10.根据权利要求7所述的真空机台,其特征在于,所述视角扩大部件可拆卸的设置在所述反应腔体的所述侧壁上;所述视角扩大部件可相对所述透明观测玻璃前后移动。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410662413.6A CN104375292A (zh) | 2014-11-19 | 2014-11-19 | 一种真空机台的真空反应腔及真空机台 |
PCT/CN2014/092546 WO2016078116A1 (zh) | 2014-11-19 | 2014-11-28 | 一种真空机台的真空反应腔及真空机台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410662413.6A CN104375292A (zh) | 2014-11-19 | 2014-11-19 | 一种真空机台的真空反应腔及真空机台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104375292A true CN104375292A (zh) | 2015-02-25 |
Family
ID=52554312
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410662413.6A Pending CN104375292A (zh) | 2014-11-19 | 2014-11-19 | 一种真空机台的真空反应腔及真空机台 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104375292A (zh) |
WO (1) | WO2016078116A1 (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010109771A (ko) * | 2000-06-02 | 2001-12-12 | 윤종용 | 플라즈마 식각 장치 |
JP2002122480A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Toshiba Corp | 温度測定方法および装置、並びにプラズマ処理装置 |
TW554461B (en) * | 2002-08-22 | 2003-09-21 | Hitachi Ltd | Manufacturing method for semiconductor, plasma processing method, and its apparatus |
CN1815689A (zh) * | 2005-02-04 | 2006-08-09 | 爱德牌工程有限公司 | 等离子加工设备 |
CN103389170A (zh) * | 2012-05-07 | 2013-11-13 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种真空处理装置的基片温度测量方法和装置 |
CN103695868A (zh) * | 2013-12-13 | 2014-04-02 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 远程磁镜场约束线形等离子体增强化学气相沉积系统 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2192628Y (zh) * | 1994-06-01 | 1995-03-22 | 南开大学 | 对靶式直流磁控离子溅射台 |
CN2585870Y (zh) * | 2002-12-24 | 2003-11-12 | 中国科学院物理研究所 | 采用电弧加热靶材蒸积制备大面积薄膜的装置 |
-
2014
- 2014-11-19 CN CN201410662413.6A patent/CN104375292A/zh active Pending
- 2014-11-28 WO PCT/CN2014/092546 patent/WO2016078116A1/zh active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010109771A (ko) * | 2000-06-02 | 2001-12-12 | 윤종용 | 플라즈마 식각 장치 |
JP2002122480A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Toshiba Corp | 温度測定方法および装置、並びにプラズマ処理装置 |
TW554461B (en) * | 2002-08-22 | 2003-09-21 | Hitachi Ltd | Manufacturing method for semiconductor, plasma processing method, and its apparatus |
CN1815689A (zh) * | 2005-02-04 | 2006-08-09 | 爱德牌工程有限公司 | 等离子加工设备 |
CN103389170A (zh) * | 2012-05-07 | 2013-11-13 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种真空处理装置的基片温度测量方法和装置 |
CN103695868A (zh) * | 2013-12-13 | 2014-04-02 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 远程磁镜场约束线形等离子体增强化学气相沉积系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016078116A1 (zh) | 2016-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10328681B2 (en) | Vacuum laminating device | |
US10081860B2 (en) | Vacuum deposition apparatus and vapor deposition method | |
US20190241985A1 (en) | Flexible leather slice blanking apparatus and implementation method | |
CN107316826A (zh) | 湿法蚀刻设备 | |
CN104375292A (zh) | 一种真空机台的真空反应腔及真空机台 | |
CN203159698U (zh) | 一种用于制造有机发光显示器的掩模板 | |
US10113788B2 (en) | Refrigerator drawer and refrigerator | |
CN111215398A (zh) | 掩模板的清洗系统和清洗方法 | |
CN203320115U (zh) | 一种用于制造有机发光显示器的掩模板 | |
CN101982868B (zh) | 电极结构 | |
CN203711654U (zh) | 一种冲头喷淋装置 | |
CN103723539A (zh) | 面板对位装置 | |
CN104386489B (zh) | 玻璃基板传递系统及其机械手 | |
US9330888B2 (en) | Dry etching method | |
US20160068425A1 (en) | Glass substrate transfer system and robot arm thereof | |
CN104820301A (zh) | 一种溅射夹具及溅射操作平台 | |
CN201766049U (zh) | 一种等离子体显示器掩膜装置 | |
CN206241864U (zh) | 光学镜片加工装置用罩体 | |
CN103903953A (zh) | 干蚀刻机及干蚀刻机的下电极 | |
CN204361058U (zh) | 遮蔽框组件及基板处理装置 | |
CN205122557U (zh) | 半导体设备零组件 | |
CN204209416U (zh) | 数控切割机的数控箱体结构 | |
CN212725225U (zh) | 一种高效率高精度的大尺寸等离子蚀刻机 | |
CN203205395U (zh) | 机械手定位装置 | |
CN216959985U (zh) | 一种易于推广使用的工业内窥镜带补光摄像头模组 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20150225 |