CN104339047A - 一种高精度走丝机构 - Google Patents

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CN104339047A CN201410618323.7A CN201410618323A CN104339047A CN 104339047 A CN104339047 A CN 104339047A CN 201410618323 A CN201410618323 A CN 201410618323A CN 104339047 A CN104339047 A CN 104339047A
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邵建军
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Suzhou Baoma Numerical Control Equipment Co Ltd
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Suzhou Baoma Numerical Control Equipment Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H7/00Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
    • B23H7/02Wire-cutting
    • B23H7/08Wire electrodes
    • B23H7/10Supporting, winding or electrical connection of wire-electrode
    • B23H7/104Wire tension control
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H7/00Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
    • B23H7/02Wire-cutting
    • B23H7/08Wire electrodes
    • B23H7/10Supporting, winding or electrical connection of wire-electrode
    • B23H7/105Wire guides

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Abstract

本发明公开了一种高精度走丝机构,包括:贮丝筒、主导轮、辅助导轮、上线架、下线架和张紧机构,所述张紧机构位于所述贮丝筒和所述上线架、下线架之间,所述主导轮有四个,其中两个固定在所述张紧机构的上下两端,另两个固定在所述上线架、下线架的两端,所述辅助导轮有两个,位于所述张紧机构和所述上线架、下线架之间,电极丝经主导轮、辅助导轮由贮丝筒带动作往复交替移动。通过上述方式,本发明能够张紧电极丝,避免系统振动产生电极丝抖动现象,使走丝稳定,有效提高加工精度。

Description

一种高精度走丝机构
技术领域
本发明涉及电火花线切割设备领域,特别是涉及一种高精度走丝机构。
背景技术
电火花线切割机(Wire cut Electrical Discharge Machining简称WEDM),属电加工范畴,是由前苏联拉扎林科夫妇研究开关触点受火花放电腐蚀损坏的现象和原因时,发现电火花的瞬时高温可以使局部的金属熔化、氧化而被腐蚀掉,从而开创和发明了电火花加工方法。工作原理是自由正离子和电子在场中积累,很快形成一个被电离的导电通道。在这个阶段,两板间形成电流。导致粒子间发生无数次碰撞,形成一个等离子区,并很快升高到8000到12000度的高温,在两导体表面瞬间熔化一些材料,同时,由于电极和电介液的汽化,形成一个气泡,并且它的压力规则上升直到非常高。然后电流中断,温度突然降低,引起气泡内向爆炸,产生的动力把溶化的物质抛出弹坑,然后被腐蚀的材料在电介液中重新凝结成小的球体,并被电介液排走。然后通过NC控制的监测和管控,伺服机构执行,使这种放电现象均匀一致,从而达到加工物被加工,使之成为合乎要求之尺寸大小及形状精度的产品。 
我国生产和使用的绝大多数为高速走丝电火花线切割机,高速走丝电火花线切割机作为我国的独创技术,已成为我国数控机床中产量最大、应用最广的机种之一,随着我国模具行业的飞速发展,对电火花线切割机提出了更高的要求,从而也进一步促进了电火花线切割技术的发展。
高速走丝会造成导轮的磨损和系统的振动,加上电极丝的张力不容易控制,它将给加工稳定性、加工精度及表面质量带来严重影响。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种高精度走丝机构,能够张紧电极丝,避免系统振动产生电极丝抖动现象,使走丝稳定,有效提高加工精度。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种高精度走丝机构,包括: 贮丝筒、主导轮、辅助导轮、上线架、下线架和张紧机构,所述张紧机构位于所述贮丝筒和所述上线架、下线架之间,所述主导轮有四个,其中两个固定在所述张紧机构的上下两端,另两个固定在所述上线架、下线架的两端,所述辅助导轮有两个,位于所述张紧机构和所述上线架、下线架之间,电极丝经主导轮、辅助导轮由贮丝筒带动作往复交替移动。
在本发明一个较佳实施例中,所述上线架和下线架结构相同、均呈长方体柱状,并且其互相平行。
在本发明一个较佳实施例中,所述四个主导轮位于同一水平面上。
在本发明一个较佳实施例中,所述两个辅助导轮的一侧外切线与所述贮丝筒的外切线呈一水平直线。
本发明的有益效果是:本发明一种高精度走丝机构,由贮丝筒、主导轮、辅助导轮、上线架、下线架和张紧机构组成,能够张紧电极丝,避免系统振动产生电极丝抖动现象,使走丝稳定,从而有效提高加工精度。
附图说明
图1是本发明一种高精度走丝机构一较佳实施例的结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、贮丝筒,2、主导轮,3、辅助导轮,4、上线架,5、下线架,6、张紧机构。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1,本发明实施例包括:
一种高精度走丝机构,包括: 贮丝筒1、主导轮2、辅助导轮3、上线架4、下线架5和张紧机构6;所述张紧机构6位于所述贮丝筒1和所述上线架3、下线架4之间,用于张紧电极丝;所述主导轮2有四个,其中两个固定在所述张紧机构6的上下两端,另两个固定在所述上线架4、下线架5的两端,所述辅助导轮3有两个,位于所述张紧机构6和所述上线架4、下线架5之间,用于支撑电极丝;电极丝经主导轮2、辅助导轮3由贮丝筒1带动作往复交替移动。
其中,所述上线架4和下线架5结构相同、均呈长方体柱状,并且其互相平行。用于支撑电极丝,使电极丝在工作过程中能稳定移动。
所述四个主导轮2位于同一水平面上,并且四个主导轮2是相互对称设置的,可以保证电极丝正、反向移动时产生摩擦阻力相近,使电极丝的张力在整个过程中恒定。
所述两个辅助导轮3的一侧外切线与所述贮丝筒1的外切线呈一水平直线,所述主导轮2、辅导轮3连同张紧机构6用于张紧电极丝,避免系统振动产生电极丝抖动现象,使走丝稳定,从而提高切割精度。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (4)

1.一种高精度走丝机构,其特征在于,包括: 贮丝筒、主导轮、辅助导轮、上线架、下线架和张紧机构,所述张紧机构位于所述贮丝筒和所述上线架、下线架之间,所述主导轮有四个,其中两个固定在所述张紧机构的上下两端,另两个固定在所述上线架、下线架的两端,所述辅助导轮有两个,位于所述张紧机构和所述上线架、下线架之间,电极丝经主导轮、辅助导轮由贮丝筒带动作往复交替移动。
2.根据权利要求1所述的高精度走丝机构,其特征在于,所述上线架和下线架结构相同、均呈长方体柱状,并且其互相平行。
3.根据权利要求1所述的高精度走丝机构,其特征在于,所述四个主导轮位于同一水平面上。
4.根据权利要求1所述的高精度走丝机构,其特征在于,所述两个辅助导轮的一侧外切线与所述贮丝筒的外切线呈一水平直线。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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