CN104327857B - 一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法 - Google Patents

一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104327857B
CN104327857B CN201410517686.1A CN201410517686A CN104327857B CN 104327857 B CN104327857 B CN 104327857B CN 201410517686 A CN201410517686 A CN 201410517686A CN 104327857 B CN104327857 B CN 104327857B
Authority
CN
China
Prior art keywords
etching solution
etching
hydrogen peroxide
touch
hydrofluoric acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201410517686.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104327857A (zh
Inventor
李林波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JIANGXI PINGBO ELECTRONIC Co Ltd
Original Assignee
JIANGXI PINGBO ELECTRONIC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JIANGXI PINGBO ELECTRONIC Co Ltd filed Critical JIANGXI PINGBO ELECTRONIC Co Ltd
Priority to CN201410517686.1A priority Critical patent/CN104327857B/zh
Publication of CN104327857A publication Critical patent/CN104327857A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104327857B publication Critical patent/CN104327857B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法，每升蚀刻液由以下原料组成：盐酸180-220mL、磷酸二氢钠5-20g、氢氟酸70-90mL、双氧水40-50mL、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑3-7mL、氯代十六烷基吡啶0.1-1mL、余量为水。本发明采用氢氟酸和双氧水取代了三氯化铁，无需经常更换蚀刻液，不仅节约资源而且减少对环境产生的污染，同时本发明并加入了具有缓释效果的氯代十六烷基吡啶和磷酸二氢钠与盐酸、氢氟酸、双氧水配合使用，蚀刻稳定蚀刻速度适中、蚀刻均匀，蚀刻后的电极图形边缘整齐，基本无侧蚀现象。

Description

一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法
技术领域
本发明涉及蚀刻液技术领域，具体涉及一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法。
背景技术
随着信息技术和平面显示技术的迅速发展，触摸屏的应用越来越普遍。大到公共场所的信息查询系统，小到个人电脑、平板电脑、手机，触摸屏和我们的生活息息相关。触摸屏用的铟锡氧化物(ITO)导电膜具有电阻率低，透光性好，高温稳定性好及制备和图形加工工艺简单等诸多优点，是一种理想的透明电极材料，被广泛应用于LCD、PDP、FED、OLED/PLED等平板显示器上作为透明电极。
为制备所需要的电极图形，就要对ITO导电膜进行蚀刻。蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻液的选择是非常重要的，它所以重要是因为它在印制电路板制造工艺中直接影响高密度细导线图像的精度和质量。
在现有技术中常用的ITO蚀刻液主要由盐酸或硝酸、FeCl3、纯水和添加剂，经搅拌混匀过滤制得，但该蚀刻液蚀刻速度快，侧面蚀刻量大，蚀刻液不稳定，难以控制蚀刻角度和金属层的蚀刻量，而且由于蚀刻液中含有FeCl3，需要经常更换蚀刻液，不仅造成资源的浪费，而且造成环境的污染。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种蚀刻速度适中、蚀刻均匀，蚀刻稳定、无需经常更换的触摸屏用蚀刻液及其制备方法。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：一种触摸屏用蚀刻液，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸180-220mL
磷酸二氢钠5-20g
氢氟酸70-90mL
双氧水40-50mL
氯代十六烷基吡啶0.1-1mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑3-7mL
余量为水。
优选的，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸180-200mL
磷酸二氢钠5-10g
氢氟酸70-80mL
双氧水40-45mL
氯代十六烷基吡啶0.1-0.5mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑3-5mL
余量为水。
另一优选的，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸200-220mL
磷酸二氢钠10-20g
氢氟酸80-90mL
双氧水45-50mL
氯代十六烷基吡啶0.5-1mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑5-7mL
余量为水。
更为优选的，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸200mL
磷酸二氢钠10g
氢氟酸80mL
双氧水45mL
氯代十六烷基吡啶0.5mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑5mL
余量为水。
所述盐酸的质量百分比浓度为38%，所述氢氟酸的质量百分比浓度为36%，所述双氧水的质量百分比浓度为30%。
一种触摸屏用蚀刻液的制备方法，它包括以下制备步骤：
A、将配方量的磷酸二氢钠溶于纯水，得到磷酸二氢钠水溶液，备用；
B、将盐酸、氢氟酸、双氧水、氯代十六烷基吡啶、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑、磷酸二氢钠水溶液搅拌均匀，然后加入纯水，定容至1L,即得触摸屏用蚀刻液。
本发明与现有技术相比较，有益效果在于：
本发明采用氯代十六烷基吡啶作为阳离子表面活性剂，防止蚀刻过程中产生泡沫，本发明采用氢氟酸和双氧水取代了三氯化铁，无需经常更换蚀刻液，不仅节约资源而且减少对环境产生的污染，同时本发明并加入了具有缓释效果的4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑和磷酸二氢钠与盐酸、氢氟酸、双氧水配合使用，蚀刻稳定蚀刻速度适中、蚀刻均匀，蚀刻后的电极图形边缘整齐，基本无侧蚀现象。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1。
一种触摸屏用蚀刻液，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸180mL
磷酸二氢钠5g
氢氟酸70mL
双氧水40mL
氯代十六烷基吡啶0.1mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑3mL
余量为水。
所述盐酸的质量百分比浓度为38%，所述氢氟酸的质量百分比浓度为36%，所述双氧水的质量百分比浓度为30%。
一种触摸屏用蚀刻液的制备方法，它包括以下制备步骤：
A、将配方量的磷酸二氢钠溶于纯水，得到磷酸二氢钠水溶液，备用；
B、将盐酸、氢氟酸、双氧水、氯代十六烷基吡啶、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑、磷酸二氢钠水溶液搅拌均匀，然后加入纯水，定容至1L,即得触摸屏用蚀刻液。
本实施例蚀刻液在温度25℃、浸渍时间25min的条件下，蚀刻的产品蚀刻角度为45.6，且基本无侧蚀现象。
实施例2。
一种触摸屏用蚀刻液，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸200mL
磷酸二氢钠10g
氢氟酸80mL
双氧水45mL
氯代十六烷基吡啶0.5mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑5mL
余量为水。
所述盐酸的质量百分比浓度为38%，所述氢氟酸的质量百分比浓度为36%，所述双氧水的质量百分比浓度为30%。
一种触摸屏用蚀刻液的制备方法，它包括以下制备步骤：
A、将配方量的磷酸二氢钠溶于纯水，得到磷酸二氢钠水溶液，备用；
B、将盐酸、氢氟酸、双氧水、氯代十六烷基吡啶、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑、磷酸二氢钠水溶液搅拌均匀，然后加入纯水，定容至1L,即得触摸屏用蚀刻液。
本实施例蚀刻液在温度30℃、浸渍时间20min的条件下，蚀刻的产品蚀刻角度为49.8，且基本无侧蚀现象。
实施例3。
一种触摸屏用蚀刻液，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸190mL
磷酸二氢钠14g
氢氟酸82mL
双氧水46mL
氯代十六烷基吡啶0.8mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑6mL
余量为水。
所述盐酸的质量百分比浓度为38%，所述氢氟酸的质量百分比浓度为36%，所述双氧水的质量百分比浓度为30%。
一种触摸屏用蚀刻液的制备方法，它包括以下制备步骤：
A、将配方量的磷酸二氢钠溶于纯水，得到磷酸二氢钠水溶液，备用；
B、将盐酸、氢氟酸、双氧水、氯代十六烷基吡啶、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑、磷酸二氢钠水溶液搅拌均匀，然后加入纯水，定容至1L,即得触摸屏用蚀刻液。
本实施例蚀刻液在温度25℃、浸渍时间25min的条件下，蚀刻的产品蚀刻角度为56.4，且基本无侧蚀现象。
实施例4。
一种触摸屏用蚀刻液，每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸220mL
磷酸二氢钠20g
氢氟酸90mL
双氧水50mL
氯代十六烷基吡啶1mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑7mL
余量为水。
所述盐酸的质量百分比浓度为38%，所述氢氟酸的质量百分比浓度为36%，所述双氧水的质量百分比浓度为30%。
一种触摸屏用蚀刻液的制备方法，它包括以下制备步骤：
A、将配方量的磷酸二氢钠溶于纯水，得到磷酸二氢钠水溶液，备用；
B、将盐酸、氢氟酸、双氧水、氯代十六烷基吡啶、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑、磷酸二氢钠水溶液搅拌均匀，然后加入纯水，定容至1L,即得触摸屏用蚀刻液。
本实施例蚀刻液在温度32℃、浸渍时间19min的条件下，蚀刻的产品蚀刻角度为51.3，且基本无侧蚀现象。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (5)

1.一种触摸屏用蚀刻液，其特征在于：每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸180-220mL
磷酸二氢钠5-20g
氢氟酸70-90mL
双氧水40-50mL
氯代十六烷基吡啶0.1-1mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑3-7mL
余量为水，
所述盐酸的质量百分比浓度为38%，所述氢氟酸的质量百分比浓度为36%，所述双氧水的质量百分比浓度为30%。
2.根据权利要求1所述的一种触摸屏用蚀刻液，其特征在于：每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸180-200mL
磷酸二氢钠5-10g
氢氟酸70-80mL
双氧水40-45mL
氯代十六烷基吡啶0.1-0.5mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑3-5mL
余量为水。
3.根据权利要求1所述的一种触摸屏用蚀刻液，其特征在于：
每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸200-220mL
磷酸二氢钠10-20g
氢氟酸80-90mL
双氧水45-50mL
氯代十六烷基吡啶0.5-1mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑5-7mL
余量为水。
4.根据权利要求1所述的一种触摸屏用蚀刻液，其特征在于：每升蚀刻液由以下原料组成：
盐酸200mL
磷酸二氢钠10g
氢氟酸80mL
双氧水45mL
氯代十六烷基吡啶0.5mL
4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑5mL
余量为水。
5.权利要求1-4任一项所述的一种触摸屏用蚀刻液的制备方法，其特征在于：它包括以下制备步骤：
A、将配方量的磷酸二氢钠溶于纯水，得到磷酸二氢钠水溶液，备用；
B、将盐酸、氢氟酸、双氧水、氯代十六烷基吡啶、4-甲基-5-（2-乙酰氧乙基）噻唑、磷酸二氢钠水溶液搅拌均匀，然后加入纯水，定容至1L，即得触摸屏用蚀刻液。
CN201410517686.1A 2014-09-30 2014-09-30 一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法 Expired - Fee Related CN104327857B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410517686.1A CN104327857B (zh) 2014-09-30 2014-09-30 一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410517686.1A CN104327857B (zh) 2014-09-30 2014-09-30 一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104327857A CN104327857A (zh) 2015-02-04
CN104327857B true CN104327857B (zh) 2016-01-13

Family

ID=52402671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410517686.1A Expired - Fee Related CN104327857B (zh) 2014-09-30 2014-09-30 一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104327857B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105755574B (zh) * 2016-03-03 2017-11-24 东莞市平波电子有限公司 一种增加钓鱼线的蚀刻线工艺
CN109897639A (zh) * 2019-03-08 2019-06-18 基伊埃(天津)农牧科技有限公司 电子液晶屏幕清洁用蚀刻液

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3905907A (en) * 1972-12-22 1975-09-16 Furukawa Electric Co Ltd Solutions for chemical dissolution treatment of metal materials
US6783694B1 (en) * 1997-08-20 2004-08-31 Micron Technology, Inc. Composition for selectively etching against cobalt silicide
WO2010090394A2 (ko) * 2009-02-06 2010-08-12 주식회사 엘지화학 절연된 도전성 패턴의 제조 방법
CN102732254A (zh) * 2011-04-11 2012-10-17 关东化学株式会社 透明导电膜用蚀刻液组合物
CN103365477A (zh) * 2013-07-18 2013-10-23 东莞市平波电子有限公司 一种ogs触控面板及其制造方法
CN103593089A (zh) * 2013-11-30 2014-02-19 东莞市平波电子有限公司 一种gg结构的触摸屏的制作工艺

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3905907A (en) * 1972-12-22 1975-09-16 Furukawa Electric Co Ltd Solutions for chemical dissolution treatment of metal materials
US6783694B1 (en) * 1997-08-20 2004-08-31 Micron Technology, Inc. Composition for selectively etching against cobalt silicide
WO2010090394A2 (ko) * 2009-02-06 2010-08-12 주식회사 엘지화학 절연된 도전성 패턴의 제조 방법
CN102732254A (zh) * 2011-04-11 2012-10-17 关东化学株式会社 透明导电膜用蚀刻液组合物
CN103365477A (zh) * 2013-07-18 2013-10-23 东莞市平波电子有限公司 一种ogs触控面板及其制造方法
CN103593089A (zh) * 2013-11-30 2014-02-19 东莞市平波电子有限公司 一种gg结构的触摸屏的制作工艺

Also Published As

Publication number Publication date
CN104327857A (zh) 2015-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104445971B (zh) 蚀刻液
CN103232820B (zh) 导电封框胶、显示面板及其制作方法、显示装置
CN105176533A (zh) 一种AM-OLED显示屏用ITO/Ag/ITO蚀刻液及制备方法
CN103602815B (zh) 从废液晶显示器中回收铟的方法
CN104327857B (zh) 一种触摸屏用蚀刻液及其制备方法
CN102645778A (zh) 一种液晶显示面板及其制作方法
CN109055921A (zh) 一种化学浸镀锡液及其制备方法
CN103399444B (zh) 一种聚合物稳定液晶透镜及其制备方法、显示装置
CN101838111B (zh) 玻璃基板蚀刻液及其制备方法
CN103665277B (zh) 一种耐水建筑乳液的制备方法
CN102424736A (zh) 装饰性银包铜防腐导电涂料的制备方法
CN106479504A (zh) 一种用于ITO‑Ag‑ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法
CN106238749A (zh) 一种微量盐辅助多元醇法制备超长银纳米线
US20180187055A1 (en) Sealing Adhesive, its Preparation Method, and Liquid Crystal Display Device
CN105038411B (zh) 一种导电油墨及其制备方法和使用方法
CN104962287A (zh) 液晶面板制造工艺中的ito膜蚀刻液及其制备方法
CN105670494A (zh) 配向膜层溶液及其制备方法、显示基板及其制备方法
CN105845604B (zh) 一种蚀刻过程中酸浓度的监控方法及系统
CN101774767A (zh) 一种平板显示用玻璃基板蚀刻液
CN102285897B (zh) 多聚磷酸和金属锌联合使用在对四乙酰乙二胺母液进行脱色中的应用
WO2016165202A1 (zh) 可弯曲透明导电电极及其制备方法
CN102115545B (zh) 一种具有中孔洞的光学扩散膜的制备方法
CN102226087B (zh) 透明导电膜湿法蚀刻液组合物
CN106986960A (zh) 一种制备石墨烯三维构造粉体材料含碳聚合物的方法
CN203444221U (zh) 一种聚合物稳定液晶透镜及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20160113

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee