CN104284870A - 反射红外线的透明的层系统及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提出了一种在透明的介电基材S0上的、反射红外线的透明层系统及其制造方法，该层系统从基材S0向上观察包括：带有介电的基底层GAG的基底层布置体系GA，置于其上的、带有金属功能层UFAF和阻隔层UFAB的功能层布置体系UFA，以及覆盖层DA。为了在不损失光学、力学和热学性能的情况下使层系统的材料成本下降，至少一个功能层UFAF、MFAF、OFAF含有铜并且至少一个功能层UFAF、MFAF、OFAF含有银。

Description

反射红外线的透明的层系统及其制造方法

技术领域

本发明一般性地涉及一种能热处理的、反射红外线(IR)的透明层系统，其在透明的介电基材上含有至少两个金属的红外反射层，并且涉及一种制造这种层系统的方法。

背景技术

反射红外线的层系统(以下也被仅称为层系统)在功能上的突出之处在于其在红外光谱范围(波长>>3μm)中的低发射率以及与之相关的高反射率以及微小的透射率。同时，应当在可见光范围中得到高的透射率(低辐射层系统；Low-E-Schichtsysteme)或者有针对性地降低的透射率(阳光低辐射层系统；Low-E-Sun-Schichtsysteme)。因此，其在由可见光到近红外的过渡部中具有透射的急剧下降和反射的强烈上升。由于其透射性能，这种层系统通常被称为低辐射层系统。

针对建筑玻璃，阳光低辐射层系统作为防晒玻璃用在以下地点：在那里，透过玻璃的能量输入占优势，并且所使用的玻璃的较小的能量透射率以及与之相关的高选择性是有利的。相反，上述低辐射层系统用于在通过玻璃的能量损失占主导的气候区域中的玻璃。除了不同的反射红外线的层系统的结构和材料之外，其在建筑玻璃中的安装位置也是不同的。以下，将反射红外线的层系统的两种类型简称为层系统，并且只要没有另加说明，就应当包括低辐射层系统和阳光低辐射层系统。

为了得到所描述的性能，层系统具有透明和局部吸收的、能在功能上加以区别的层布置体系。

术语“层布置体系”如所描述的那样通常情况下包括多于一个的层，但同样包含仅由本身实现各自功能的单层构成的层布置体系。单层与层布置体系的配属关系不是在任何情况下都能被明确地实行，这是因为每一层既对相邻的层又对整个系统都有影响。通常，层的配属参照它的功能进行。

从基材向上观察，层系统通常首先包括基底层布置体系，其主要用于在基材与其他层序列之间的中介物，特别是为了把系统粘附在玻璃上。基底层布置体系的层还可以影响作为整体的层系统的性能(例如化学和/或力学耐受性)和/或调整光学性能。

在基底层布置体系上跟着是功能层布置体系，该功能层布置体系包括：红外反射层以及可选地包括其他的能够支持这种功能的以及影响它们的光学、化学、力学和电学性能的层或者用于粘附的层。这种补充性的层例如为阻隔层、胚层或界面层，其用于沉积和/或用于调整相邻层的电学和光学性能。在适当的材料选择的情况下，可以通过一个层实现多种功能。因此，下方的阻隔层系统可以导致：省略位于其下的胚层。

针对所提及的层系统，在红外范围的高反射通常通过一种或多种金属的红外反射层得到。通常，上面述及在光谱的透射特性曲线和反射特性曲线中的陡边随着红外反射层的数量升高而更加陡峭，也就是说，选择性提升，因此越来越多地使用带有两个或更多的反射层的层系统。

为了制造针对建筑玻璃应用的低放射的层系统，通常使用用于红外反射层的纯银或银合金。这种材料是在微小的层厚下就已经特别是在红外区域中具有高反射率，其与可见光光谱范围中的微小的吸收相关联。但是，银的非常高并且不断上升的价格是不利的。单层的低辐射层系统通常含有约10-15nm厚的银层。在带有改善的热学性能(譬如更低的发射率、更小的g值或者更高的选择性)的多层低辐射层中，总的银厚度大约要乘以银层的数量，并且因此还乘以材料成本。在此，银成本构成了在制造这些层系统时的材料成本的主要部分。

因此在层系统的制造进程中，在已经施布的层序列中出现不同的温度负荷，其归因于与沉积相关的能量输入或对沉积的层的不同处理步骤。

除此之外，反射红外线的层系统经常经受退火过程来硬化和/或变形基材。在这种情况下，反射红外线的层具有带有以下的层性能的层序列，即，其可以使得承载层系统的基材经受热处理，并且在此出现的层系统的光学、力学和化学性能的改变保持在限定的范围之内。取决于经覆层的基材的应用，在退火过程中，基材的层系统在不同的时间区内遭受不同的气候条件。

由于这种温度负荷，导致了不同的、改变红外反射层的反射能力以及层系统的透射率的过程，特别是用于在红外反射层中的基材或抗反射层的成分扩散的过程，以及反过来的过程，并且由此导致了在红外反射层中的氧化过程。

为了避免这种扩散过程和氧化过程，在红外反射层的一侧或两侧添加阻隔层，其用对于扩散成分的缓冲。相应于出现的温度负荷结构化并布置这些阻隔层，并且保护敏感的、经常是非常薄的红外反射层(或者多个红外反射层)免受相邻层的影响。通过添加一个或多个阻隔层，特别是可以防止在覆层过程本身期间或者由于退火过程，发生层系统的红外反射层的氧化以及与之相关的表面电阻的增加或层系统的强烈色彩偏移。作为阻隔层已知：可退火的层系统，例如含镍和/或铬的层，它们包括反射红外线的银层(DE 035 43 178 A1和EP 1 174 379A1)或它们是至少单侧保护的。

同时还能使用阻隔层，以便调整层系统的透射率，其方式为，一个或更多个规则地处在红外反射层以下的阻隔层起吸收层的作用。由于这个原因，低太阳辐射层系统具有至少一个阻隔层。其大多布置在最下方的、即紧邻基材的红外反射层以下。

除此之外确定了，层系统反射性能和透射性能还通过由玻璃开始的扩散过程所影响。为了摆脱这种影响，特别是对于可退火的层系统，在功能层布置体系以下(通常在基底层布置体系中)添加了壁垒层，其应当使玻璃的组分(譬如碱金属离子)到层系统中的扩散减少。还可以通过这种壁垒层减少质量问题，其归因于：在原片玻璃中非限定的原始状态(也就是说，玻璃的波动的化学组成)或者其他的玻璃影响。

覆盖层布置体系的层向上封闭层系统，并且也可以像基底层布置体系一样在功能上涉及整个系统。覆盖层布置体系包括至少一个力学上和/或化学上起稳定化作用的保护层。其还可以本身或者通过补充层影响层系统的光学性能(例如通过利用干涉效应的抗反射性)，从而在必要时还可以结合抗反射的基底层来提高透射率。覆盖层通常由带有高折射率的、金属的或半导体的介电的氧化物或氮化物的一个或多个层组成。

这些介电材料被认为是无吸收的材料，这使其胜任所述及的光学功能。其折射率处在1.8至2.7的范围内，大多甚至处在1.9、优选2.0至2.6的范围中。与之相比较，大多是浮法玻璃的基材相反地具有约1.52的低折射率。因此，在该范围以下直至在基材的范围中的值的材料是低折射的。

如此构建的所谓单层低辐射或单层阳光低辐射(其仅包括一个功能层布置体系)可以通过附加一个或多个其他的功能层布置体系加以补充(双层、三层、多层的低辐射或阳光低辐射)，它们通过联接层或中间层布置体系而布置在第一功能层之上。中间层布置体系特别是通过在功能上使两个功能层布置体系彼此分离并且使它们在力学上相互连接用于在可见区域中的抗反射。此外，在适当的材料组合的情况下，通过中间层布置体系还可以得到层系统的力学稳定化。

对于建筑玻璃的另一个要求是色觉及其稳定性。所期望的经常是中性的或灰色至蓝色的基材侧反射色彩，它们应当不依赖于观察角度。在CIE L*a*b*色彩系统中，中性色彩的特征在于约为零的a*和b*色值，而蓝色通过负的b*色值并且红色通过正的a*色值来表征。此外，在一些应用情况下还可能要求中性或灰色的透射色彩。

发明内容

本发明的任务是，给出一种反射红外线的层系统及其制造方法，该层系统能以更小的材料成本制造并且相对于基于银的层系统具有相似的或更好的光学、力学和热学性能。

作为解决方案，给出了根据权利要求1的反射红外线的层系统以及根据权利要求8的该层系统的制造方法。在从属权利要求中说明了本发明的有利实施方案。

根据本发明，在包括至少两个红外反射层(它们在以下被称为功能层)的层系统中，把含有铜的红外反射层与含有银的红外反射层组合。在此，在多层低辐射和多层阳光低辐射层系统中可以以铜层来代替一个或多个银层。银层可以部分地或者完全地通过铜层来代替，从而备选地还能使用由子层组成的功能层，其中一个含有铜和其他的含有银。通过部分地使用铜来代替银，可以在相同的层厚度下实现层系统的相似的发射率并且进而实现隔离玻璃单元的g值或U值。

作为含有铜或银的层，在此应当理解为这样的材料组成：主要的、决定光电学特征的组分是铜或银或它们的合金。其包括：可以含有技术造成的杂质或技术造成的混杂物，它们用于在沉积期间的过程控制或例如在阴极雾化时用于靶制造。这种类型的杂质或技术上的混杂物多数处小于1％的范围中，但是也可能为数个百分点。

使用铜或含铜材料的优势在于，除了明显更小的材料成本之外，特别是在可见光范围中的、相对于银不同的折射率和消光系数的色散性能也是有利的。图1A和图1B或图2A和图2B示出了20nm的薄的铜层或银层在约350nm至2500nm的波长范围中的、依赖于波长的玻璃侧的透射特性和反射特性。

确定的是，尽管铜的偏红的外观色彩，在带有对于低辐射和阳光低辐射所期望的规格的层系统的情况下，在透射率和发射率方面可以在层系统的各个层的适当的材料和层厚度组合的情况下，在整体上较小的反射值的情况下得到：比带有银的层系统透射以及反射更中性的色彩。

本发明的另一方面是：在光谱的可见光范围中铜相对于银有更高的吸收率，这减少了层系统的光透射率。因此，通过铜层或其他的提高透射率的层的数量和厚度，在透射率方面调整到最优化。备选地，对于阳光低辐射系统可以有针对性地采用这种效应。在对至少一个反射红外线的层使用铜的情况下，可以在阳光低辐射层系统中与低发射率相结合地良好地实现所期望的较小透射率。因此，通过双层低辐射系统就已经能得到在小于3％的范围中的发射率。对于阳光低辐射层系统，借助含有铜的功能层的数量和/或至少一个阻隔层的厚度，即使在中性的外观色彩的情况下也可以得到在25％≤Y(T)≤75％的范围中的层系统透射率值。在此，借助在红外发射层的下方的阻隔层造成的透射率降低也可以消失，从而在省略该层以及在例如对于可退火的层系统使用该层来实现上述保护功能或者调整透射率的情况下，对层系统的光学特性和热学特性提供了其他的选项。

假如根据层系统的其他设计方案，含有银的功能层布置体系布置在含有铜的功能层以上，那么对于基材侧反射的透射率值和色值以及因而对于基材侧的外观色彩的强度与已知的层系统相比较可以得到更好的或者至少是相近的值。例如，在多层低辐射或低多层阳光低辐射中，每个其他的布置在含有铜的层以上的功能层都可以实施为含有银的或者由银制成的。特别是在这些实施方案中，在所要求的直至低于2％的发射率下得到了经覆层的基材的中性的外观色彩。

在含银的功能层布置体系在含铜的功能层之上的情况下，根据本发明的层系统具有中性直至蓝色的基材侧反射色彩，也就是说，基材侧的反射的CIE L*a*b*色彩系统的a*(Rg)和b*(Rg)色值处在-5≤a*≤1以及-10≤b*≤1的范围中。这种作为纯色彩优化的性能例如可以通过层系统的单层的层厚度变化得到，以及通过中间层布置体系的层厚度变化得到。此外，中间层布置体系的层厚度变化在几乎全部观察角度上允许色彩优化，从而不会进行：色彩依赖于观察角度变换至偏红色的色彩空间中。

以对于银所已知的方式通过处在最下方的功能层以下的壁垒层以及通过布置在各个功能层以下和/或以上的阻隔层对功能层进行保护，对于维持铜层的反射红外线的性能也是必须的。通过阻止来自基材的扩散过程的密实的、例如含氮的壁垒层，结合相对于银更高的层厚和/或布置在功能层以上的阻隔层以及化学稳定的覆盖层布置体系，可以得到：充分抑制含铜的功能层的降解。

能在功能上和结构上用于壁垒层的材料主要取决于其性能，确切的说是在预期的扩散过程方面的性能，从而对于总是给出的基材-层组合以及热学要求，通过试验求得适合的材料。在来自于玻璃的钠离子的扩散方面，例如发现，一些金属氧化物譬如氧化锡、锡酸锌或氧化钛仅表现出微不足道的壁垒作用。

根据使用的材料，基底层也可以是绝对高折射的。在这种情况下，基底层可以同时充当抗反射层。

补充性地，根据本发明的设计方案，至少一个也含有铜的功能层布置体系(UFA、MFA、OFA)可以含有由金属、金属混合物或金属合金或由它们的亚化学计量或化学计量的氧化物、氮化物或碳氧化物组成的阻隔层(UFAB)，用来相对氧化过程和扩散过程对功能层(UFAF)进行保护。

如果借助通过基底层的壁垒效应，已经相对由基材造成的热影响得到了足够的稳定性，则根据本发明的设计方案，例如没有必要为了所期望的更高的层系统透射率而布置下阻隔层。这种可能性对在可见光谱范围中的透射率起积极作用，而不会带来热稳定性中的损失。因此，由布置在功能层两侧的阻隔层中仅保留上边的阻隔层，其处在功能层以上并且相对沉积在功能层上的层的扩散过程和与之相关的氧化过程形成保护。

此外，根据本发明的层系统的配置基于已知的要求，从而可以布置其他的层。其中也包括中间层布置体系。该中间层系统通常包括一个或更多个中间层，并且可以由不同的介电材料组成，这些介电材料由金属、金属合金或金属混合物或半导体的氧化物、氮化物或氮氧化物，或者它们的化合物制成。

此外，在功能层以下还可以作为中间层布置体系的上封闭部而布置有胚层。胚层适用于对反射红外线的功能层的沉积和反射性能产生积极影响。通过胚层，可以改进沉积在胚层上的反射红外线的功能层的粘附性并且降低表面电阻，并且因此改进红外反射性能。胚层由金属组成，或者由金属或金属混合物或金属合金的氧化物或氮化物组成，并且作为种晶层(Seed-Layers)的意义上的层插入，其在沉积期间以如下方式影响功能层的层构造，即，使得得到所期望的低表面电阻。如果在功能层以下布置有阻隔层，那么可以取消胚层或者把胚层布置在下阻隔层与功能层之间。

附图说明

以下应当结合图示详细地描述本发明。在附图中：

图1A、图1B示出铜层在太阳辐射的范围中反射率和透射率，

图2A、图2B示出银层在太阳辐射的范围中反射率和透射率，

图3示出双层阳光低辐射层系统的层序列。

具体实施方式

图3示出根据本发明的带有两个功能层布置体系FA(双层低辐射)的反射红外线的层系统，其后描述的各个层借助DC磁控溅射或MF磁控溅射在真空贯通覆层装置中彼此相继地沉积在基材S0上。

在基材S0(在实施例中为带有约1.52折射率的浮法玻璃)上，布置有带有在10-40nm、优选15-35nm的范围中的厚度的单独的基底层GAG，其充当壁垒层和抗反射层，并且由氮化硅，例如Si₃N₄组成，其具有数个百分点的微小的铝份额，在此优选有约8重量％之高。实施例的基底层GAG具有2.12±0.05的折射率。对于含铜的功能层，氮化硅也被证明为向着基材的适宜的壁垒层。在存在氮作为反应性气体份额的情况下，在氩工作气氛中由带有6-10％铝份额的Si:Al靶反应性地溅射出层。备选地，层还可以没有铝份额地和/或在其他反应性气氛中沉积或者还可以经由PECVD制造。

备选地，基底层布置体系GA还包括其他层，它们例如由氧化钛或氧化铌组成，据此，能利用其相对于基底层GAG更高的折射率及其波长依赖性。还可以直接在下功能层布置体系UFA之上布置胚层。在另一备选方案中，基底层GAG作为亚化学计量的层沉积。

在基底层布置体系GA上沉积出第一、下功能层布置体系UFA。其直接在基底层GAG上方包括第一、下阻隔层UFAB，其带有仅数纳米的厚度，优选小于1nm的厚度，只要该阻隔层没有补充性地用于用来进一步减少透射率的铜层。否则，阻隔层就可以具有更高的层厚度，其例如在氮化铬的情况下可以处在2-10nm。在所描述的实施方式中，其中对于下功能层UFAF使用铜，还可以取消该下阻隔层UFAB。

对于阻隔层考虑不同的材料。除了在实施例中使用的已知的镍-铬，或者镍或镍铬的化学计量或亚化学计量的氧化物或氮化物层之外，还能使用其他材料，以便例如影响层系统的光学和/或电学性能。透射率的进一步提高和表面电阻的减小例如可以通过由陶瓷的、带有2％铝的ZnO_x:Al靶溅射出的阻隔层实现，其中x<1，没有额外的氧输入。如以上所介绍的那样，氧化钛TiO_x(x≤2)或氧化铌层Nb_xO_y(y/x<2.5)可以作为阻隔层，其中，后者也由陶瓷靶没有额外的氧输入地沉积为亚化学计量的层。如此沉积的层含有比金属靶所能实现的更多的氧，据此，得到明显更小的吸收，其例如由于退火过程，结合在热作用下透射率的较小增加立即导致更高的透射率。

此外，含有化学计量和亚化学计量的氮化铬、硅、钼的材料或者不锈钢-氮化物SST_xN_y也能用于阻隔层，其中，通过这些材料还能在可见光范围中得到层系统透射率的减小，例如用于阳光低辐射层系统中。在此，可见光透射率随着上升的、与上述不同的阻隔层厚度而下降，这可以通过在包括一个或多个功能层布置体系的层系统中使用一个或多个阻隔层中使用这些材料而更有针对性地进行调整。在这些材料的情况下相对退火添加了层的稳定性，这是因为其不那么容易被氧化并且在所要求的微小层厚的情况下也不重结晶。

在下阻隔层UFAB上跟着有下功能层UFAF作为红外反射层，其在实施例中由铜组成并且具有在5-15nm、优选7-13nm的范围中的厚度。备选地，还可以使用其他含铜混合物或合金。铜层或含铜层在直流(DC)模式下在纯氩气的气氛中溅射出。

在下功能层UFAF之上跟着有数纳米厚的、优选少于1nm厚的另一下阻隔层UFAB，其由氧化镍铬构成。对该下阻隔层UFAB还可以如以上对于第一阻隔层所描述的那样，也使用另外的材料和层厚。

在下功能层布置体系UFA上沉积有中间层布置体系ZA。其在实施例中由两个层(中间层ZAZ和沉积在其上的胚层ZAK)组成。中间层ZAZ特别是由于其特殊的力学上起稳定化作用的性能由锡酸锌的氧化物组成，其带有在50-85nm，优选60-75nm的范围中的厚度。其由含有50％锌和50％锡的锡酸锌靶，在存在氧的情况下在工作气体氩中反应性地溅射出。中间层布置体系ZA的胚层ZAK具有小于或等于15nm、优选≤10nm的厚度。其由锌铝氧化物组成，其由带有约2％铝份额的Zn：Al靶溅射出，或者由陶瓷锌铝氧化物靶溅射出。备选地，层还可以没有铝份额地或者由陶瓷氧化锌(所谓的本征氧化锌)靶沉积出。备选地，对于单层中的一个或多个还能使用其他材料，只要其满足所描述的功能。备选地，代替中间层，还可以沉积多个带有不同的组成的介电层。

在中间层布置体系ZA以上，直接与中间层布置体系ZA的胚层ZAK相邻地沉积出上功能层布置体系OFA，正如对下功能层布置体系UFA所描述的那样，其包括上功能层OFAF，然而仅包括一个上阻隔层OFAB(也就是说在上功能层OFAF以上)。上阻隔层OFAB相当于在实施例中来自于下功能层UFA的阻隔层，其同样布置在功能层上，从而在这方面可以参考那里的介绍。上阻隔层OFAB的层厚度范围也相当于下功能层布置体系UFA的层厚度范围。

备选地，还可以实现处在功能层以下的阻隔层，并且对于一个或多个单层还能使用其他材料，只要其满足所描述的功能。

上功能层OFAF作为红外反射层具有在10-20nm、优选12-18nm的厚度，并且在实施例中由银组成。备选地，还可以使用其他含银的混合物或合金。银层或含银层在直流(DC)模式下在纯氩气的气氛中溅射出。

反射红外线的层系统向上通过覆盖层布置体系DA封闭。覆盖层布置体系包括第一覆盖层DA1，其沉积在上阻隔层OFAB上。其由锡酸锌的氧化物或它的带有低氮份额的氮化物组成，具有在10-20nm、优选12-18nm的范围中的厚度，并且在含氧或在含氧和氮的气氛下由锡酸锌靶(其含有50％锌和50％锡)沉积出

在此，在带有小于或等于0.2的氮相对于氧的体积份额的比例的反应性气体组成的情况下，完全可以实现：尽管在反应性气氛中有氮份额，在第一覆盖层DA中没有装入氮。这还涉及中间层布置体系ZA的含有锡酸锌的层。

在第一覆盖层DA1上沉积出由氮化铝-硅组成的第二覆盖层DA2，其带有在10-30nm、优选15-25nm的范围中厚度。这与基底层GAG类似地由带有6-10％铝份额的Si:Al靶完成。折射率也与基底层GAG的折射率类似。备选地，层还可以没有铝份额地和/或在其他反应性气氛中沉积。对于需要对反射外观色彩进行色彩校正的情况(其中还采用覆盖层)，厚度可以取与在此列出的值不同的值。

由此，从基材S0向上观察得到了层系统的如下组成：

GAG    带有6-10％铝的Si₃N₄；

UFAB   NiCr；

UFAF   Cu；

UFAB   NiCrO_x；

ZAZ    锡酸锌的氧化物；

ZAK    带有约2％铝的ZnO；

OFAF   Ag；

OFAB   NiCrO_x；

DA1    锡酸锌的氧化物或氮化物；

DA2    带有6-10％铝的Si₃N₄；

配设有这种层系统的基材S0以及同样的隔离玻璃单元(其使用带有这种层系统的玻璃板)具有所期望的中性至淡蓝色的反射外观色彩，其CIE L*a*b*色彩系统的色值在垂直视线下(视线在图3中通过三个箭头示出)处在所要求的范围中。

在一个设计方案中，可以在覆盖层布置体系以下布置一个(三层低辐射或三层阳光低辐射)或更多个(多层低辐射或多层阳光低辐射)功能层系统，其分别与另一个带有置于其下的功能层布置体系的中间层布置体系连接。这些其他的功能层布置体系可以是含有银或铜的功能层。还能使用带有反射红外线的性能的其他材料，譬如金或其合金、半贵金属或钽，只要至少一个功能层含有银并且另外一个含有铜。

通过根据实施例的层系统求得的发射率对于双层低辐射为小于3％，对于三层低辐射为小于2％。

附图标记列表

S0      基材

GA      基底层布置体系

GAG     基底层

UFA     下功能层布置体系

UFAF    下功能层

UFAB    下阻隔层

ZA      中间层布置体系

ZAZ     中间层

ZAK     胚层

OFA     上功能层布置体系

OFAF    上功能层

OFAB    上阻隔层

DA      覆盖层布置体系

DA1     第一覆盖层

DA2     第二覆盖层

Claims (8)

1.一种在透明基材(S0)上的、反射红外线的透明层系统，其从所述基材(S0)向上观察带有以下层布置体系：

-带有介电基底层(GAG)的基底层布置体系(GA)，介电基底层由金属、半导体或半导体合金的氮化物、氧化物或氮氧化物制成，

-带有金属的下功能层(UFAF)的下功能层布置体系(UFA)，金属的下功能层用于反射红外线，

-至少一个中间层布置体系(ZA)，所述中间层布置体系使另一功能层布置体系(MFA、OFA)与置于其下的功能层布置体系(UFA、MFA)分离，并且所述中间层布置体系包括一个或更多个中间层(ZAZ、ZAK)，

-至少一个另外的、置于所述下功能层布置体系(UFA)以上的、带有另外的金属的功能层(MFAF、OFAF)的功能层布置体系(MFA、OFA)，另外的金属的功能层用于反射红外线，以及

-带有介电的、含有金属、半导体或半导体合金的氮化物、氧化物或氮氧化物的覆盖层(DA1、DA2)的覆盖层布置体系(DA)，

其特征在于，至少一个功能层含有铜并且至少一个功能层含有银。

2.根据权利要求1所述的、反射红外线的透明层系统，其特征在于，所述下功能层含有铜。

3.根据权利要求2所述的、反射红外线的透明层系统，其特征在于，在置于下方的功能层以上的每个另外的功能层都含有银。

4.根据前述权利要求中任一所述的、反射红外线的透明层系统，其特征在于，借助在所述层系统中组合的材料及其层厚，基材侧反射的CIE L*a*b*色彩系统的a*(Rg)和b*(Rg)色值处在-5≤a*≤1以及-10≤b*≤1的范围中。

5.根据前述权利要求中任一所述的、反射红外线的透明层系统，其特征在于，至少一个功能层布置体系(UFA、MFA、OFA)含有由金属、金属混合物或金属合金或者由它们的亚化学计量或化学计量的氧化物、氮化物或氮氧化物制成的阻隔层(UFAB)，所述阻隔层用于相对氧化过程和扩散过程保护所述功能层(UFAF)。

6.根据前述权利要求中任一所述的、反射红外线的透明层系统，其特征在于，至少一个功能层布置体系(UFA、MFA、OFA)在所述功能层(UFAF、MFAF、OFAF)以下不具有阻隔层(UFAB、MFAB、OFAB)。

7.根据权利要求5或6所述的、反射红外线的透明层系统，其特征在于，借助所述含有铜的功能层的数量和厚度以及/或者至少一个阻隔层的厚度，把所述层系统的透射率调整为在25％≤Y(T)≤75％的范围中的值。

8.一种制造反射红外线的层系统的方法，其中，根据前述权利要求中任一所述的层系统的所述透明的层布置体系(GA、ZA、DA、UFA、MFA、OFA)的各层借助真空覆层被彼此相继地沉积到透明的基材(S0)上。