CN104259054B - 挤压式间隙涂布系统的控制方法 - Google Patents

挤压式间隙涂布系统的控制方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种挤压式间隙涂布系统的控制方法,包括如下步骤:S01、涂布前处理,在涂布前打开回流阀并且关闭涂布阀,使浆料在输送管道以及回流管道内流动;S02、挤压涂布处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开涂布阀,挤压头内的浆料先进行涂布处理,而输送管道内的一部分浆料补充至挤压头内,输送管道内剩下的浆料通过回流管道收回;S03、留白处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布终止位置,判断该涂布目标的涂布处理是否完成,若是则关闭涂布阀,若否则继续执行步骤S02。采用本发明的方法得到的成型涂层具有厚度均匀,良品率高的优点。

Description

挤压式间隙涂布系统的控制方法
技术领域
本发明涉及一种涂布技术,尤其涉及一种挤压式间隙涂布系统的控制方法。
背景技术
涂布是锂离子电池生产过程中必不可少的工序,也是直接影响电池安全性、容量、一致性等各项性能的关键工序。涂布就是将制作好的糊状粘稠浆料,均匀的、连续或间断的涂覆在基体上,保证各个涂布位置的厚度一致性、并将涂布厚度控制在工艺要求的公差范围内。针对涂布的方法设置了不同的涂布系统,而挤压式间隙涂布系统就是其中之一。
现有技术中的挤压式涂布系统由浆料桶1、泵、涂布阀2、回流阀4、挤压头3、接触辊5、基片6组成,参阅图1。进行涂布时涂布阀打开,回流阀关闭,浆料进入挤压头并挤压在基片上;涂布结束时(留白阶段)涂布阀关闭,回流阀打开,这样浆料在回流管中流到,不会到达挤压头,也没有浆料挤压在基片上;再进行涂布时,涂布阀打开,回流阀关闭,如此反复。由于各种原因挤压头内的压力很难控制好,如压力过高则涂布时涂布点挤压出的浆料较多形成隆起(较厚),这样形成的涂层为异形涂层,如图2所示,这些涂层7都是不良品,不利于后面的电芯的制作。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种涂层厚度均匀的挤压式间隙涂布系统的控制方法。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:提供一种挤压式间隙涂布系统的控制方法,所述挤压式间隙涂布系统包括浆料筒、输送管道、涂布阀、挤压头、回流阀、回流管道、接触辊以及基片,该控制方法包括如下步骤:
S01、涂布前处理,在涂布前打开回流阀并且关闭涂布阀,使浆料在输送管道以及回流管道内流动;
S02、挤压涂布处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开涂布阀,挤压头内的浆料先进行涂布处理,而输送管道内的一部分浆料补充至挤压头内,输送管道内剩下的浆料通过回流管道收回;
S03、留白处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布终止位置,判断该涂布目标的涂布处理是否完成,若是则关闭涂布阀,若否则继续执行步骤S02。
本发明的有益效果在于:采用在挤压涂布处理步骤中,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开回流阀,部分浆料进行回流,进入挤压头的浆料不多,不会有过量的浆料挤压到基片上,防止涂层出现的隆起问题,因此,采用本方案得到的成型涂层具有厚度均匀,良品率高的特点。
附图说明
图1为现有技术中挤压式间隙涂布系统的方框图;
图2为现有技术中基片上成型涂层(隆起)示意图;
图3为本发明挤压式间隙涂布系统的控制方法的流程图;
图4为本发明的基片上成型涂层示意图。
标号说明:
1、浆料桶;2、涂布阀;3、挤压头;4、回流阀;
5、接触辊;6、基片;7、涂层。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
本发明最关键的构思在于:在挤压涂布处理步骤中,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置打开涂布阀,而保持回流阀打开,使一部分浆料涂布,而剩余部分浆料回流,能够得到厚度均匀的成型涂层。
请参照图3,一种挤压式间隙涂布系统的控制方法,所述挤压式间隙涂布系统包括浆料筒、输送管道、涂布阀、挤压头、回流阀、回流管道、接触辊以及基片,该控制方法包括如下步骤:
S01、涂布前处理,在涂布前打开回流阀并且关闭涂布阀,使浆料在输送管道以及回流管道内流动;
S02、挤压涂布处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开涂布阀,挤压头内的浆料先进行涂布处理,而输送管道内的一部分浆料补充至挤压头内,输送管道内剩下的浆料通过回流管道收回;
S03、留白处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布终止位置,判断该涂布目标的涂布处理是否完成,若是则关闭涂布阀,若否则继续执行步骤S02。
从上述描述可知,本发明的有益效果在于:本方案采用在挤压涂布处理步骤中,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开回流阀,部分浆料进行回流,进入挤压头的浆料不多,不会有过量的浆料挤压到基片上,防止涂层出现的隆起问题,因此,采用本方案得到的成型涂层具有厚度均匀,良品率高的优点。
进一步的,所述步骤S03之后还包括步骤S04、二次涂布处理,根据挤压头与基片上下一涂布目标的涂布起始位置,打开回流阀,进行二次涂布处理。对于需要多次涂布的基片,重新确立下一涂布目标的起始位置,能够保成型涂层均匀。
请参照图3,本发明的实施例为:
一种挤压式间隙涂布系统的控制方法,具体包括如下步骤:
S01、涂布前处理,在涂布前打开回流阀并且关闭涂布阀,使浆料在输送管道以及回流管道内流动;
S02、挤压涂布处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开回流阀,挤压头内的浆料先进行涂布处理,而输送管道内的一部分浆料补充至挤压头内,输送管道内剩下的浆料通过回流管道收回;
S03、留白处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布终止位置,判断该涂布目标的涂布处理是否完成,若是则关闭涂布阀,若否则继续执行步骤S02;
S04、二次涂布处理,根据挤压头与基片上下一涂布目标的涂布起始位置,打开回流阀,进行二次涂布处理。
参阅图4,图4为本发明的基片上成型涂层示意图,从图4中可以看出,基片上形成有多个涂层,相邻涂层之间为留白位置,多个涂层厚度均匀,涂层的良品率较高,方便后期对电芯的处理。
综上所述,本发明提供的挤压式涂布系统的控制方法,通过控制回流阀、涂布阀的开关来达到形成均匀涂层的目的,具体为:采用在挤压涂布处理步骤中,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开回流阀,部分浆料进行回流,进入挤压头的浆料不多,不会有过量的浆料挤压到基片上,防止涂层出现的隆起问题。因此,本方案的成型涂层具有厚度均匀,良品率高的优点。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (2)

1.一种挤压式间隙涂布系统的控制方法,所述挤压式间隙涂布系统包括浆料桶、输送管道、涂布阀、挤压头、回流阀、回流管道、接触辊以及基片,其特征在于,该控制方法包括如下步骤:
S01、涂布前处理,在涂布前打开回流阀并且关闭涂布阀,使浆料在输送管道以及回流管道内流动;
S02、挤压涂布处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布起始位置,打开涂布阀,挤压头内的浆料先进行涂布处理,而输送管道内的一部分浆料补充至挤压头内,输送管道内剩下的浆料通过回流管道收回;
S03、留白处理,根据挤压头与基片上涂布目标的涂布终止位置,判断该涂布目标的涂布处理是否完成,若是则关闭涂布阀,若否则继续执行步骤S02。
2.根据权利要求1所述的挤压式间隙涂布系统的控制方法,其特征在于,所述步骤S03之后还包括步骤S04、二次涂布处理,根据挤压头与基片上下一涂布目标的涂布起始位置,打开涂布阀,进行二次涂布处理。
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