CN104254457B - 用于轨道车辆的接触设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于轨道车辆的集电弓的接触设备，其中所述接触设备具有至少一个碳滑块(17)，所述碳滑块设置为用于贴靠在相对于滑接线能移动的滑块支架(12)上的滑接线，其中碳滑块与第二滑块(18)一起设置在铰接地与滑块支架连接的滑块承载体(13)上，所述滑块承载体构成为双杆并且围绕横向于滑接线的纵向方向的枢转轴(14)能够相对于所述滑块支架枢转，使得设置在所述枢转轴的彼此相对置的侧上的碳滑块和第二滑块在集电弓的运行配置中同时并且彼此间隔地与所述滑接线接触。

Description

用于轨道车辆的接触设备
技术领域
本发明涉及一种用于轨道车辆的集电弓的接触设备，其中接触设备具有至少一个碳滑块，所述碳滑块设置为用于贴靠相对于滑接线可移动的滑块支架上的滑接线。此外本发明涉及一种设有这类接触设备的集电弓。
背景技术
如通常用于接触滑接线的碳滑块，其特征在于，所述碳滑块一方面由于碳滑块的良好的导电性或者由于用于碳滑块的碳材料的良好的导电性实现了安全地与滑接线接触，并且此外由于碳滑块的固体润滑剂特性在到滑接线的接触区域中提供良好的紧靠并且仅以轻微磨损的方式作用于滑接线，由此得到了到滑接线的尤其低磨损的接触。
然而已知的碳滑块的缺点是：所述碳滑块尤其是在电流高的情况下或者在车辆运行中或者在停车状态中、即尤其当将集电弓在充电站中用作为静止的导电体时，具有相对而言降低的导电性。因此部分地转向使用用于滑块的混合解决方案，其中特别是使用所谓的“Kasparowski滑块”或者在碳中具有铜嵌件的高导电性的滑块。在此存在下述危险：碳和铜不均匀地磨损进而在滑接线和滑块之间仅构成不充足的接触面并且由于到铜嵌件的接触会强烈地加热滑接线或者甚至会损伤滑接线。
发明内容
因此本发明基于如下目的：提出一种用于集电弓的接触设备或者一种具有接触设备的集电弓，所述接触设备实现在滑接线和高导电性的滑块之间的低磨损从而运行安全的接触。
该目的通过一种用于轨道车辆的集电弓的接触设备以及具有所述接触设备的集电弓来实现，其中所述接触设备具有至少一个碳滑块，所述碳滑块设置为用于贴靠在相对于滑接线能够移动的滑块支架上的所述滑接线，其特征在于，所述碳滑块与第二滑块一起设置在铰接地与所述滑块支架连接的滑块承载体上，所述滑块承载体构成为双杆并且围绕横向于所述滑接线的纵向方向的枢转轴能够相对于所述滑块支架枢转，使得设置在所述枢转轴的彼此相对置的侧上的所述碳滑块和所述第二滑块在所述集电弓的运行配置中同时并且彼此间隔地与所述滑接线接触。。
根据本发明，接触设备具有至少一个碳滑块，所述碳滑块设置为用于贴靠相对于滑接线可移动的滑块支架上的所述滑接线，其中碳滑块与第二滑块一起设置在铰接地与滑块支架连接的滑块承载体上，所述滑块承载体构成为双杆并且可围绕横向于滑接线的纵向方向的枢转轴相对于滑块支架枢转，使得设置在枢转轴的彼此相对置的侧上的碳滑块和第二滑块在集电弓的运行配置中同时并且彼此间隔地与滑接线接触。
根据本发明将第二滑块与碳滑块相关联，其中这两者同时与滑接线接触，实现了：同时以将碳滑块的正面的降低磨损的特性与第二滑块的良好的电传导的特性相组合的方式进行使用，其中所述第二滑块例如能够构成为铜滑块。借助于构成为双杆的滑块承载体相对于滑接线同时设置碳滑块和第二滑块在车辆运行中一方面经由碳滑块实现了足够的润滑并且另一方面经由第二滑块在特别优良电传导的第二滑块与滑接线之间在将降低磨损的固体润滑膜设置于其间的情况下实现运行安全的电接触，所述第二滑块尤其能够以铜构成。优选双杆构成为，使得碳滑块和第二滑块以相同的接触力贴靠滑接线。
上文中称作碳滑块的滑块是通常用于接触滑接线的滑块，所述滑块由具有优选高的石墨份额的碳材料构成并且此外仍能够具有其它的份额。相对于其中重要的是实现降低滑接线上的磨损效果的碳滑块，对此在“第二滑块”中是不重要的。“第二滑块”因此能够有利地优化以满足不同的功能，例如在不考虑可能的差的润滑效果的情况下能够尤其耐候性或者耐老化地实现。
尤其有利的是，第二滑块相对于碳滑块具有更高的导电性，所述更高的导电性优选经由金属份额或者可能相对更高的金属份额实现。
优选第二滑块构成为铜滑块，使得除了高的导电性还实现了高的耐老化性。
如果滑块支架设有第二碳滑块使得第二滑块沿着滑接线的纵向方向设置在这两个碳滑块之间，那么与行驶方向不相关地得到有利的、在上文中所描述的降低磨损的润滑剂效果，设有集电弓的轨道车辆沿着所述行驶方向运行。
为了还进一步改进特别是由铜构成的第二滑块的导电的接触，可能的是，在第二滑块和滑块承载体之间设置弹簧装置。
为了必要时能够影响滑接线上的磨损，第二滑块能够设有接触力调节装置。
优选接触力调节装置具有与行驶速度相关的操作装置，所述操作装置能够构成为空气动力学的提升装置，例如使得在达到特定的行驶速度的情况下通过扰流器产生下压力、即负的提升，所述下压力降低或者甚至抵消接触力，使得从该速度起在第二滑块和滑接线之间不再存在接触。
同样，机械的、即例如根据行驶方向或者摩擦作出反应的设备也能够有助于将滑接线上的磨损最小化，所述设备抵消或者降低用于将第二滑块贴靠滑接线的接触力。
也有利的是，与第二滑块一起设置在滑块承载体上的碳滑块和第二碳滑块设置在集电弓的上部的支架部件上，该上部的支架部件借助于弹簧装置相对于集电弓的下部的支架部件而得到支撑，其中下部的支架部件借助于枢转轴连接到集电弓的高度可调节的支架基底上。
当第二滑块和这两个碳滑块连接到在枢转轴中在支架基底上构成的中央的电流引导装置上时，尤其有利的安装是可行的。
根据本发明的集电弓具有接触设备，所述接触设备具有至少一个碳滑块，所述碳滑块设置为用于贴靠相对于滑接线可移动的滑块支架上的滑接线，其中碳滑块与第二滑块一起设置在铰接地与滑块支架连接的滑块承载体上，所述滑块承载体构成为双杆并且围绕横向于滑接线的纵向方向的枢转轴相对于滑块支架是可枢转的，使得设置在枢转轴的彼此相对置的侧上的碳滑块和第二滑块在集电弓的运行配置中同时并且彼此间隔地与滑接线接触。
附图说明
下面根据附图详细阐述集电弓的优选的实施方式。
具体实施方式
示例性地在附图中示出的、构成为受电弓(Pantograf)的集电弓具有接触设备10，所述接触设备在示例性示出的实施方式中设有滑块支架12，所述滑块支架借助于枢转轴23以铰链铰接的方式与支架基底11连接，在所述支架基底上借助于枢转轴14以铰链铰接的方式连接有滑块承载体13。
滑块承载体13构成为杠杆摇动台(Hebelwippe)，其具有两个滑块杆15和16，在所述滑块杆的端部上设置有碳滑块17或者铜滑块18。
此外在滑块支架12上存在第二碳滑块19，所述第二碳滑块经由刚性地设置在滑块支架12上的第二滑块承载体20与滑块支架12连接。
如从附图中所得知的那样，在当前情况下将铜滑块18的设置选择为，使得该铜滑块位于第一碳滑块17和第二碳滑块19之间。此外，铜滑块18和碳滑块17的设置对构成为杠杆摇动台的滑块承载体13产生影响，使得碳滑块17和铜滑块18与滑块支架12的枢转位置无关地始终借助于相同的接触力贴靠滑接线。此外从具有两个彼此加弹簧的支架部件21和22的滑块支架12的在附图中示出的设计方案中得出：第二碳滑块19与第一碳滑块17和铜滑块18一样也借助于相同的接触力贴靠滑接线。
为了电传导地将碳滑块17和19以及铜滑块18与集电弓的支架基底11连接，铜滑块18和碳滑块17和19经由绞合线与在枢转轴23中在支架基底11上构成的中央的电流引导装置连接。

Claims (11)

1.一种用于轨道车辆的集电弓的接触设备，其中所述接触设备具有至少一个碳滑块(17)，所述碳滑块设置为用于贴靠在相对于滑接线能够移动的滑块支架(12)上的所述滑接线，其特征在于，
所述碳滑块与第二滑块(18)一起设置在铰接地与所述滑块支架连接的滑块承载体(13)上，所述滑块承载体构成为双杆并且围绕横向于所述滑接线的纵向方向的枢转轴(14)能够相对于所述滑块支架枢转，使得设置在所述枢转轴的彼此相对置的侧上的所述碳滑块和所述第二滑块在所述集电弓的运行配置中同时并且彼此间隔地与所述滑接线接触。
2.根据权利要求1所述的接触设备，
其特征在于，
所述第二滑块(18)相对于所述碳滑块(17)具有更高的导电性。
3.根据权利要求1或2所述的接触设备，
其特征在于，
所述第二滑块(18)构成为铜滑块。
4.根据权利要求1或2所述的接触设备，
其特征在于
所述滑块支架(12)设有第二碳滑块(19)，使得所述第二滑块(18)沿着所述滑接线的纵向方向设置在两个所述碳滑块(17，19)之间。
5.根据权利要求1或2所述的接触设备，
其特征在于，
在所述第二滑块(18)和所述滑块承载体(13)之间设置有弹簧装置。
6.根据权利要求1或2所述的接触设备，
其特征在于，
所述第二滑块(18)设有接触力调节装置。
7.根据权利要求6所述的接触设备，
其特征在于，
所述接触力调节装置具有与行驶速度有关的操作装置。
8.根据权利要求7所述的接触设备，
其特征在于，
所述操作装置具有空气动力学的提升装置。
9.根据权利要求4所述的接触设备，
其特征在于，
与所述第二滑块(18)一起设置在所述滑块承载体(13)上的所述碳滑块(17)和所述第二碳滑块(19)设置在所述集电弓的上部的支架部件(22)上，该上部的支架部件借助于弹簧装置相对于所述集电弓(10)的下部的支架部件(21)而得到支撑，其中所述下部的支架部件(21)借助于枢转轴(23)连接到所述集电弓的能调节高度的支架基底(11)上。
10.根据权利要求9所述的接触设备，
其特征在于，
所述第二滑块(18)和两个所述碳滑块(17，19)连接到在所述枢转轴(23)中在所述支架基底(11)上构成的中央的电流引导装置上。
11.一种具有权利要求1至10中任一项所述的接触设备的集电弓。
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