CN104241171B - 一种框架式超声清洗设备 - Google Patents

一种框架式超声清洗设备 Download PDF

Info

Publication number
CN104241171B
CN104241171B CN201410354785.2A CN201410354785A CN104241171B CN 104241171 B CN104241171 B CN 104241171B CN 201410354785 A CN201410354785 A CN 201410354785A CN 104241171 B CN104241171 B CN 104241171B
Authority
CN
China
Prior art keywords
service sink
basket
bracket
tooling
tooling basket
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201410354785.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104241171A (zh
Inventor
蔡彤�
张练佳
贲海蛟
梅余锋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jewim Pharmaceutical Shandong Co ltd
Original Assignee
RUGAO EADA ELECTRONICS CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RUGAO EADA ELECTRONICS CO Ltd filed Critical RUGAO EADA ELECTRONICS CO Ltd
Priority to CN201410354785.2A priority Critical patent/CN104241171B/zh
Publication of CN104241171A publication Critical patent/CN104241171A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104241171B publication Critical patent/CN104241171B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/045Cleaning involving contact with liquid using perforated containers, e.g. baskets, or racks immersed and agitated in a liquid bath
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

本发明涉及一种框架式超声清洗设备,包括清洗池、清洗池支架、工装篮、工装篮托架、提篮机构及推篮机构;所述清洗池有若干个,并列设置在所述清洗池支架上,且每个清洗池内均设置有工装篮托架,所述工装篮通过工装篮托架限位放置在所述清洗池内,并通过提篮机构及推篮机构将该工装篮推送到下一个清洗池进行下一个工序的清洗;所述清洗池为一开口的长方体,具有一进液口、一出液口及一溢流槽,所述进液口及出液口分别设置在清洗池前后两侧的底部,所述溢流槽设置在清洗池后侧的上部。本发明的优点在于:通过提篮机构提起工装篮,通过推篮机构将工装篮推送到下一工序,其结构简单,制作成本低,且无需人工搬运,能够方便工装篮进入下一道清洗工序。

Description

一种框架式超声清洗设备
技术领域
本发明涉及一种框架式超声清洗设备,具体说是一种对二极管进行清洗的框架式超声清洗设备。
背景技术
二极管又称晶体二极管,简称二极管,它是一种能够单向传导电流的电子器件。
二极管一般由芯片,两边的引线,还有封装的塑胶组成,主要部分就是芯片,该芯片在制造时需要经过超声波清洗,该超声波清洗包括有第一水洗、第二水洗、第三水洗、第一酒精超声波清洗及第二酒精超声波清洗。
目前超声波清洗机,包括电控柜、清洗槽、工装篮、位于清洗槽底部的超声波换能器,其清洗过程中,工装篮靠人工搬运方式,移动到下一道清洗工序,存在移动不方便等问题。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种能够方便工装篮移动的框架式超声清洗设备。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案为:一种框架式超声清洗设备,其创新点在于:包括清洗池、清洗池支架、工装篮、工装篮托架、提篮机构及推篮机构;所述清洗池有若干个,并列设置在所述清洗池支架上,且每个清洗池内均设置有工装篮托架,所述工装篮通过工装篮托架限位放置在所述清洗池内,并通过提篮机构及推篮机构将该工装篮推送到下一个清洗池进行下一个工序的清洗;
所述清洗池为一开口的长方体,具有一进液口、一出液口及一溢流槽,所述进液口及出液口分别设置在清洗池前后两侧的底部,所述溢流槽设置在清洗池后侧的上部;所述清洗池有两种,分别为普通清洗池及超声波清洗池,所述超声波清洗池的底部设置有超声波换能器;
所述工装篮托架呈L型,该工装篮托架与所述清洗池滑动配合;
所述提篮机构与所述工装篮托架连接,该提篮机构由导座A、滑套A及提篮杆,所述滑套A与所述导座A上下滑动配合并安装在所述清洗池支架的后侧,该滑套A与所述提篮杆固定连接,该提篮杆由驱动缸驱动其在导座A上上下滑动;
所述推篮机构由导座B、滑套B、推杆及连接杆,所述滑套B与所述导座B左右滑动配合并安装在所述清洗池支架的前侧的上表面;所述连接杆为一杆体A,该杆体A沿若干清洗池的排列方向延伸,且固定安装在所述滑套B上;所述推杆为一杆体B,杆体B若干个,分别对应设置在若干清洗池上方,且垂直固定在连接杆上;所述连接杆由驱动缸驱动其在导座B上左右滑动。
进一步地,工装篮托架呈L型,与所述清洗池滑动配合,在该工装篮托架的背面的底端安装有一对滚轮。
进一步地,所述推篮机构,在每两个清洗池相邻边沿的短轴方向的上表面均还设置有滑轨,该滑轨为一板体,有两个,分别对称设置在该两个清洗池相邻边沿的长轴方向的两端。
进一步地,所述滑轨为L型板。
进一步地,所述普通清洗池为水洗池,有三个,分别为第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池,所述超声波清洗池为酒精清洗池,有两个,分别为第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池,所述第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池、第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池由右至左依次并列安装在所述清洗池支架上。
本发明的优点在于:1将工装篮放入清洗池内,并由工装篮托架支撑,通过提篮机构使工装篮托架上行,同时带动工装篮上行,使工装篮提起到清洗池的池口的上方,然后通过推篮机构将工装篮向左推送到下一个清洗池进行下一道清洗;通过提篮机构使工装篮托架下行,同时带动工装篮下行,使工装篮置入清洗池内,然后推篮机构向右回复到原始位置,该提篮机构及推篮机构结构简单,制作成本低,且无需人工搬运,能够方便工装篮进入下一道清洗工序;在该工装篮托架的背面的底端安装有一对滚轮,可方便工装篮支架向上滑动;2在每两个清洗池相邻边沿的短轴方向的上表面均还设置有滑轨,使得工装篮在滑轨上滑动,更加方便工装篮滑动到下一个清洗池内;3滑轨为L型板,结构简单,且方便工装篮滑动;4. 所述普通清洗池为水洗池,有三个,分别为第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池,所述超声波清洗池为酒精清洗池,有两个,满足了对二极管的清洗。
附图说明
图1是本发明的一种框架式超声清洗设备的主视图。
图2是本发明的一种框架式超声清洗设备的后视图。
图3是本发明的一种框架式超声清洗设备的侧视图。
图4是本发明的一种框架式超声清洗设备的俯视图。
具体实施方式
实施例1
如图1、图2、图3和图4所示,本发明一种框架式超声清洗设备,包括清洗池4、清洗池支架1、工装篮2、工装篮托架3、提篮机构及推篮机构,清洗池4有五个,并列设置在清洗池支架1上,且每个清洗池4内均设置有工装篮托架3,工装篮2通过工装篮托架3限位放置在清洗池内,并通过提篮机构及推篮机构将该工装篮2推送到下一个清洗池进行下一个工序的清洗;
上述清洗池4有五个,分为两种,分别为普通清洗池及超声波清洗池,普通清洗池为水洗池,超声波清洗池为酒精清洗池;水洗池有三个,分别为第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池;酒精清洗池,有两个,分别为第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池;第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池、第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池由右至左依次并列安装在清洗池支架1上;清洗池1为一开口的长方体,具有一进液口5、一出液口6及一溢流槽7,所述进液口5及出液口6分别设置在清洗池4前后两侧的底部,溢流槽7设置在清洗池1后侧的上部,超声波清洗池的底部设置有超声波换能器;
上述工装篮托架3呈L型,该工装篮托架3与清洗池1滑动配合;
上述提篮机构与工装篮托架3连接,提篮机构由导座A8、滑套A9及提篮杆10,滑套A9与导座A8上下滑动配合并安装在清洗池支架1的后侧,滑套A9与提篮杆10固定连接,提篮杆10由驱动缸驱动11其在导座A8上上下滑动;
上述推篮机构由导座B12、滑套B13、推杆14及连接杆15,滑套B13与导座B12左右滑动配合并安装在所述清洗池支架1的前侧的上表面;连接杆15为一杆体A,杆体A沿五个清洗池1的排列方向延伸,且固定安装在滑套B13上;推杆14为一杆体B,杆体B有五个,分别对应设置在五个清洗池1的上方,且垂直固定在连接杆15上;连接杆15由驱动缸16驱动其在导座B12上左右滑动。
本实施例中,
工装篮托架3呈L型,在工装篮托架3的背面的底端安装有一对滚轮13,与清洗池4滑动配合,方便工装篮托架3上行;
在每两个清洗池4相邻边沿的短轴方向的上表面均还设置有滑轨17,该滑轨17为一板体,有两个,分别对称设置在该两个清洗池4相邻边沿的长轴方向的两端,当工装篮2由一个清洗池4内的工装篮托架3推送到另一清洗池4内的工装蓝托架3内时,滑轨17对工装蓝2在推送时有导向作用,防止工装篮2跑偏,并顺利滑到另一工装蓝托架3内。
使用时,将工装篮2放入第一水洗清洗池4内的工装篮托架3上,第一水洗完成后,驱动缸11驱动提篮机构,提篮杆10在导座A8、滑套A9的作用下顺利滑动上行,从而带动工装篮托架3上行,当工装篮托架上行到清洗池4口时,提篮杆10停止上行;此时驱动缸16驱动推篮机构,连接杆15在导座B12、滑套B13的作用下顺利向左滑动,从而带动推杆14推动工装篮托架3内的工装篮2在清洗池4上的滑轨17上顺利向左移动;当移动到第二水洗清洗池4内的工装篮架3上,驱动缸11驱动提篮杆10下行,带动工装篮托架3下行,从而将工装篮2放入到第二水洗清洗池4内进行下一步水洗;如此通过驱动缸16和驱动缸11反复的提篮并推篮,依次使工装篮内的二极管芯片依次进入第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池、第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池进行清洗。

Claims (3)

1.一种框架式超声清洗设备,其特征在于:包括清洗池、清洗池支架、工装篮、工装篮托架、提篮机构及推篮机构;所述清洗池有若干个,并列设置在所述清洗池支架上,且每个清洗池内均设置有工装篮托架,所述工装篮通过工装篮托架限位放置在所述清洗池内,并通过提篮机构及推篮机构将该工装篮推送到下一个清洗池进行下一个工序的清洗;所述清洗池为一开口的长方体,具有一进液口、一出液口及一溢流槽,所述进液口及出液口分别设置在清洗池前后两侧的底部,所述溢流槽设置在清洗池后侧的上部;所述清洗池有两种,分别为普通清洗池及超声波清洗池,所述超声波清洗池的底部设置有超声波换能器;所述工装篮托架呈L型,该工装篮托架与所述清洗池滑动配合;所述提篮机构与所述工装篮托架连接,该提篮机构由导座A、滑套A及提篮杆组成,所述滑套A与所述导座A上下滑动配合并安装在所述清洗池支架的后侧,该滑套A与所述提篮杆固定连接,该提篮杆由驱动缸驱动其在导座A上上下滑动;所述推篮机构由导座B、滑套B、推杆及连接杆组成,所述滑套B与所述导座B左右滑动配合并安装在所述清洗池支架的前侧的上表面;所述连接杆为一杆体A,该杆体A沿若干清洗池的排列方向延伸,且固定安装在所述滑套B上;所述推杆为一杆体B,杆体B若干个,分别对应设置在若干清洗池上方,且垂直固定在连接杆上;所述连接杆由驱动缸驱动其在导座B上左右滑动;所述推篮机构,在每两个清洗池相邻边沿的短轴方向的上表面均还设置有滑轨,该滑轨为一板体,有两个,分别对称设置在该两个清洗池相邻边沿的长轴方向的两端;工装篮托架呈L型,与所述清洗池滑动配合,在该工装篮托架的背面的底端安装有一对滚轮。
2.根据权利要求1所述的一种框架式超声清洗设备,其特征在于:所述滑轨为L型板。
3.根据权利要求1所述的一种框架式超声清洗设备,其特征在于: 所述普通清洗池为水洗池,有三个,分别为第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池,所述超声波清洗池为酒精清洗池,有两个,分别为第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池,所述第一水洗池、第二水洗池、第三水洗池、第一酒精超声波清洗池、第二酒精超声波清洗池由右至左依次并列安装在所述清洗池支架上。
CN201410354785.2A 2014-07-24 2014-07-24 一种框架式超声清洗设备 Active CN104241171B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410354785.2A CN104241171B (zh) 2014-07-24 2014-07-24 一种框架式超声清洗设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410354785.2A CN104241171B (zh) 2014-07-24 2014-07-24 一种框架式超声清洗设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104241171A CN104241171A (zh) 2014-12-24
CN104241171B true CN104241171B (zh) 2017-08-11

Family

ID=52229013

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410354785.2A Active CN104241171B (zh) 2014-07-24 2014-07-24 一种框架式超声清洗设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104241171B (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104525516A (zh) * 2014-12-26 2015-04-22 天津太阳机电设备有限公司 自动淋化机
CN104785471A (zh) * 2015-04-23 2015-07-22 滨州德润电子有限公司 二极管自动清洗装置及其清洗方法
CN104810311A (zh) * 2015-04-30 2015-07-29 安徽滨湖机电新材料有限公司 直插式整流二极管超声波清洗机机体
CN106076964B (zh) * 2016-08-12 2018-06-15 嘉兴百盛光电有限公司 一种多功能超声波清洗机的抛动装置
CN106076950B (zh) * 2016-08-12 2018-06-15 嘉兴百盛光电有限公司 一种多功能超声波清洗机的提拉篮
CN106111597B (zh) * 2016-08-12 2019-04-23 嘉兴百盛光电有限公司 一种多功能超声波清洗机
CN106166552B (zh) * 2016-08-12 2018-10-09 嘉兴百盛光电有限公司 一种多功能超声波清洗机的清洗室
CN109290278B (zh) * 2018-09-18 2021-04-16 深圳市洁泰超声洗净设备有限公司 一种针对光学屏幕自动超声波清洗烘干设备
CN111207919A (zh) * 2020-02-26 2020-05-29 深圳市和科达超声设备有限公司 一种清洗机清洗篮托架强度检测装置
CN111389808A (zh) * 2020-04-26 2020-07-10 上海思恩装备科技股份有限公司 一种全自动有机清洗设备
CN117066213B (zh) * 2023-09-18 2024-07-02 上海契斯特医疗器械有限公司 一种超声清洗设备及超声清洗方法和应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201470638U (zh) * 2009-09-02 2010-05-19 深圳市科达超声自动化设备有限公司 真空镀膜前清洗机
CN202871756U (zh) * 2012-05-30 2013-04-10 常州佳讯光电产业发展有限公司 一种二极管清洗设备
CN203356122U (zh) * 2013-07-18 2013-12-25 天津荣辉电子有限公司 钕铁硼制品表面清洗机
CN203610370U (zh) * 2013-12-19 2014-05-28 天津盛相电子有限公司 一种塑胶件超声波清洗机
CN204303762U (zh) * 2014-07-24 2015-04-29 如皋市易达电子有限责任公司 一种框架式超声清洗设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201470638U (zh) * 2009-09-02 2010-05-19 深圳市科达超声自动化设备有限公司 真空镀膜前清洗机
CN202871756U (zh) * 2012-05-30 2013-04-10 常州佳讯光电产业发展有限公司 一种二极管清洗设备
CN203356122U (zh) * 2013-07-18 2013-12-25 天津荣辉电子有限公司 钕铁硼制品表面清洗机
CN203610370U (zh) * 2013-12-19 2014-05-28 天津盛相电子有限公司 一种塑胶件超声波清洗机
CN204303762U (zh) * 2014-07-24 2015-04-29 如皋市易达电子有限责任公司 一种框架式超声清洗设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN104241171A (zh) 2014-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104241171B (zh) 一种框架式超声清洗设备
CN204146984U (zh) 一种超声波餐具洗净消毒一体机
CN205362096U (zh) 一种自动清洗设备
CN204303762U (zh) 一种框架式超声清洗设备
CN207462032U (zh) 一种自动输送式洗碗机
CN211324819U (zh) 用于餐厅的洗碗机
CN107898412A (zh) 水槽洗碗机及其清洗果蔬时的进水控制方法
CN112779409A (zh) 一种齿轮热冲压设备及齿轮热冲压方法
CN104140068B (zh) 一种组合式实验动物鼠饮水瓶自动灌瓶设备
CN205518806U (zh) 一种升降式超声波清洗机
CN215696180U (zh) 一种多晶硅生产用清洗机
CN212219077U (zh) 一种用于注塑模具生产加工的清洗装置
CN208960500U (zh) 一种晶片清洗装置
CN103240238A (zh) 一种汽车零部件的自动清洗方法及装置
CN104720721B (zh) 一种电动洗杯机
CN206009296U (zh) 一种海产品清洗桌
CN215543459U (zh) 自动化医用的输液瓶清洗输送机
CN209020859U (zh) 清洗装置与清洗设备
CN205289177U (zh) 一种带抓手功能的生物芯片清洗设备
CN206356315U (zh) 一种多槽超声波清洗装置
CN215879147U (zh) 一种水循环回用系统及应用该系统的容器清洁设备
CN211888176U (zh) 一种机电设备零部件清洗装置
CN205084715U (zh) 一种反应釜下料线用防堵塞装置
CN112827925A (zh) 一种机电设备零部件清洗装置
CN104434494B (zh) 自动砂浴清洗装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20191121

Address after: 313000 1-C, building 1, No. 656, Qixing Road, high tech Zone, Wuxing District, Huzhou City, Zhejiang Province

Patentee after: Huzhou xinbeilian Network Technology Co.,Ltd.

Address before: 226500, Jiangsu Province, Nantong City, Rugao moved by the town group shore village 7 groups

Patentee before: RUGAO EADA ELECTRONICS Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20191129

Address after: No. 99, Changli Road, Wuzhong District, Suzhou, Jiangsu 215100

Patentee after: SUZHOU CITY WUZHONG TECHNOLOGY INNOVATION PARK MANAGEMENT CO.,LTD.

Address before: 313000 1-C, building 1, No. 656, Qixing Road, high tech Zone, Wuxing District, Huzhou City, Zhejiang Province

Patentee before: Huzhou xinbeilian Network Technology Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20221114

Address after: 271000 west head of peitianmen street, high tech Industrial Development Zone, Tai'an City, Shandong Province

Patentee after: JEWIM PHARMACEUTICAL (SHANDONG) CO.,LTD.

Address before: 215100 99 Changli Road, Wuzhong District, Suzhou City, Jiangsu Province

Patentee before: SUZHOU CITY WUZHONG TECHNOLOGY INNOVATION PARK MANAGEMENT CO.,LTD.

TR01 Transfer of patent right