CN104195509B - 基于ito加热片的金属膜电极的制作方法 - Google Patents

基于ito加热片的金属膜电极的制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，首先将ITO基板依次用丙酮溶液、无水乙醇和去离子水各超声处理10分钟；用氧等离子清洗机清洗7分钟，使得ITO基板表面清洗干净；把ITO基板移至手套箱中；将ITO基板的一面和掩膜板完全贴合；把ITO基板和掩膜板移至真空蒸镀系统的真空腔室内的基片架上；将真空腔室中的氮气气体抽出，用功率为600W的电子束溅射金属，金属受热开始蒸发，同时用膜厚仪的晶振片检测溅射速率，当速率能稳定达到20Å/S时，打开挡板；此时，金属分子开始蒸镀到ITO基板上。本发明电极上电阻分布均匀，压降均匀，使得ITO面板生热均匀，没有使用胶体等有机物，避免了电极的老化现象。

Description

基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法
技术领域
本发明主要涉及金属膜电极制作领域，尤其涉及一种基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法。
背景技术
针对LCD( Liquid Crystal Display )在低温不能工作的情况,通过采用ITO（Indium Tin Oxides）玻璃面板用作加热片，以此作为LCD工作时的加热元件，使得LCD屏在低温时通过ITO面板的生热到达工作时的温度要求。目前ITO面板的电极主要通过涂覆导电银浆的方式制作，但通过这种方式涂覆的导电银浆不均匀，造成电流分布不均匀，局部生热现象严重。且长时间工作，会导致导电银浆的老化、脱落，影响LCD器件的工作。
发明内容
本发明目的就是为了弥补已有技术的缺陷，提供一种基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，用真空蒸镀的方式蒸镀一层金属电极膜，形成均匀的电极，使得流过整个ITO面板的电流均匀，产生的热量均匀。
本发明是通过以下技术方案实现的：
基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）首先将ITO基板依次用丙酮溶液、无水乙醇和去离子水各超声处理8-12分钟；其中丙酮溶液的浓度为99%-99.5%，主要是清洗ITO玻璃基板上的有机物，无水乙醇主要是清洗残留的丙酮溶液，去离子水是清洗残留的无水乙醇和ITO基板表面的颗粒物；
（2）然后用氧等离子清洗机清洗5-10分钟，使得ITO基板表面清洗干净；
（3）再把ITO基板移至手套箱中，在手套箱中将ITO基板和掩膜板固定；手套箱参数为：氧含量<0.1ppm，水含量<0.01ppm；
（4）在手套箱中将ITO基板的一面和掩膜板完全贴合，掩膜板的作用是制备电极部分，在蒸镀时，金属只蒸镀到ITO基板的电极部分；
（5）把ITO基板和掩膜板移至真空蒸镀系统的真空腔室内的基片架上，真空蒸镀系统包括有真空腔室，真空腔室的一侧开孔并密封连接冷凝泵，冷凝泵通过冷凝管连接机械泵，真空腔室内下端设有蒸发源、上端一侧设有膜厚仪，真空腔室中还设有旋转杆一，旋转杆一的顶部固定有挡板，挡板的一侧固定在旋转杆一上，挡板的上方设有基片架；基片架固定在其上方的旋转杆二上，蒸发源与电源连接；
（6）将真空腔室中的氮气气体抽出，当腔室内的真空度达到<10-7Torr时开始蒸镀，用功率为600W的电子束溅射金属，金属受热开始蒸发，同时用膜厚仪的晶振片检测溅射速率，当速率能稳定达到2020Å/S时，通过旋转杆一的转动打开挡板；此时，金属分子开始蒸镀到ITO基板上；工作时ITO基板是通过基片架连接的旋转杆二不停的旋转，转速为20转/分钟。
本发明的原理是：
挡板连接的旋转杆一是控制挡板的开合，目的当蒸镀速率稳定时打开挡板，使金属稳定的蒸镀到基板上。而与基片架连接的旋转杆二是控制基片架的旋转，使基片架在整个蒸镀过程中保持以一定速率旋转，使得蒸镀的材料均匀。
本发明通过高温蒸镀的方式在ITO基板上均匀的蒸镀一层金属电极膜，使得电阻分布均匀，在加载电流时，压降均匀，电流可以均匀的流过整个ITO面板，使得ITO面板生热均匀。
本发明的优点是：
本发明电极上电阻分布均匀，压降均匀，使得ITO面板生热均匀，没有使用胶体等有机物，避免了电极的老化现象。
附图说明
图1为本发明的真空蒸镀系统的结构示意图。
图2为ITO金属膜电极基片示意图。
具体实施方式
如图1、2所示，基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，包括以下步骤：
（1）首先将ITO基板依次用丙酮溶液、无水乙醇和去离子水各超声处理10分钟；其中丙酮溶液的浓度为99.5%，主要是清洗ITO玻璃基板上的有机物，无水乙醇主要是清洗残留的丙酮溶液，去离子水是清洗残留的无水乙醇和ITO基板表面的颗粒物；
（2）然后用氧等离子清洗机清洗7分钟，使得ITO基板表面清洗干净；
（3）再把ITO基板移至手套箱中，在手套箱中将ITO基板和掩膜板固定；手套箱参数为：氧含量<0.1ppm，水含量<0.01ppm；
（4）将ITO基板的一面和掩膜板完全贴合，掩膜板的作用是制备电极部分，在蒸镀时，金属只蒸镀到ITO基板的电极部分，即图2的阴影部分；
（5）如图1，把ITO基板1和掩膜板移至真空蒸镀系统的真空腔室2内的基片架3上，真空蒸镀系统包括有真空腔室2，真空腔室2的一侧开孔并密封连接冷凝泵4，冷凝泵4通过冷凝管5连接机械泵6，真空腔室2内下端设有蒸发源7、上端一侧设有膜厚仪8，真空腔室2中还设有旋转杆9，旋转杆9的顶部固定有挡板10，挡板10的一侧固定在旋转杆9上，挡板10的上方设有基片架3；基片架3固定在其上方的旋转杆11上，蒸发源7与电源12连接；
（6）将真空腔室2中的氮气气体抽出，当腔室内的真空度达到<10-7Torr时开始蒸镀，用功率为600W的电子束溅射金属，金属受热开始蒸发，同时用膜厚仪的晶振片检测溅射速率，当速率能稳定达到2020Å/S时，通过旋转杆9的转动打开挡板10；此时，金属分子开始蒸镀到ITO基板1上；工作时ITO基板1是通过基片架3连接的旋转杆11不停的旋转，转速为20转/分钟。
在金属电极材料选择方面，选用金属铝作为实验材料。由于电阻值和铝膜的厚度密切相关，将金属电极膜均匀的分成四等份，用台阶仪测量金属膜电极各个等份的膜厚和电阻值。数据如下:
可以看出，金属膜电极在均匀性上能得到很好的保证，阻值也较为均匀。

Claims (1)

1.基于ITO加热片的金属膜电极的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）首先将ITO基板依次用丙酮溶液、无水乙醇和去离子水各超声处理8-12分钟；其中丙酮溶液的浓度为99%-99.5%；
（2）然后用氧等离子清洗机清洗5-10分钟，使得ITO基板表面清洗干净；
（3）再把ITO基板移至手套箱中，在手套箱中将ITO基板和掩膜板固定；手套箱参数为：氧含量<0.1ppm，水含量<0.01ppm；
（4）在手套箱中将ITO基板的一面和掩膜板完全贴合，掩膜板的作用是制备电极部分，在蒸镀时，金属只蒸镀到ITO基板的电极部分；
（5）把ITO基板和掩膜板移至真空蒸镀系统的真空腔室内的基片架上，真空蒸镀系统包括有真空腔室，真空腔室的一侧开孔并密封连接冷凝泵，冷凝泵通过冷凝管连接机械泵，真空腔室内下端设有蒸发源、上端一侧设有膜厚仪，真空腔室中还设有旋转杆一，旋转杆一的顶部固定有挡板，挡板的一侧固定在旋转杆一上，挡板的上方设有基片架；基片架固定在其上方的旋转杆二上，蒸发源与电源连接；
（6）将真空腔室中的氮气气体抽出，当腔室内的真空度达到<10-7Torr时开始蒸镀，用功率为600W的电子束溅射金属，金属受热开始蒸发，同时用膜厚仪的晶振片检测溅射速率，当速率能稳定达到20Å/S时，通过旋转杆一的转动打开挡板；此时，金属分子开始蒸镀到ITO基板上；工作时ITO基板是通过基片架连接的旋转杆二不停地旋转，转速为20转/分钟。
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