CN104114270A - 用于多床下流式反应器的分配器装置 - Google Patents

用于多床下流式反应器的分配器装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种用于在多床下流式反应器例如诸如烃处理反应器譬如加氢裂化器中分配液体和气体的装置和方法。该装置或该方法分别包括使用分配器装置，所述分配器装置包括设有中心气体通道(30)的、基本上水平的收集盘(20)。沿向下的方向流过中心气体通道的气体通过旋流器(100)强制进行旋流运动。该旋流运动具有围绕竖直的旋流轴线(106)的旋流方向(107)，使得气体作为旋流(108)离开中心气体通道。在收集盘(20)上方的位置，挤流流体沿喷射方向被注射到气体中，在水平面观察，所述喷射方向至少部分地与旋流方向(107)相反。

Description

用于多床下流式反应器的分配器装置
技术领域
本发明涉及一种用于多床下流式反应器的分配器装置、包括这种分配器装置的多床下流式反应器、这种分配器装置和反应器分别在烃处理中的用途，以及一种用于在多床下流式反应器中分配液体和气体的分配方法。
背景技术
含有多个叠加的反应床的多床下流式反应器在化学品和石油炼制工业上可用来进行各种工艺，例如催化脱蜡、加氢处理和加氢裂化。在这些工艺中，液相一般与气相混合，流体流经保持在反应床中的颗粒催化剂。当流体并行通过反应床时，反应床上液体和气体的分配将趋于不均匀，从而对反映程度以及温度分布产生不利影响。为了实现液体和气体的均匀分配以及在进入下一个低反应床中的流体中的温度的均匀分布，通常在反应床之间安装流体分配器装置，其具有许多不同类型。
这种流体分配器装置从EP-A-716881中可以得知。该装置公开了一种用在多床下流式反应器的各反应床之间的流体分配器装置。该已知装置包括：
基本上水平的收集盘，其设置有：
-中心气体通道和
-在中心气体通道周围的液体通道；
旋流器，该旋流器：
-位于收集盘上方、中心气体通道周围，和
-设置有限定旋流方向的叶片，所述叶片布置成赋予流过中心气体通道的气体旋流运动，使得气体作为沿着所述旋流方向涡旋的旋流绕竖直旋流轴线离开中心气体通道；
位于收集盘上方的一个或多个喷射喷嘴，其布置成，在所述气体进入旋流器之前，沿喷射方向向气体喷射挤流流体。
在正常操作时，从上反应床流下的液体汇集在收集盘上，在收集盘上，液体聚集形成一层液体覆盖液体通道，这样阻止气体流过液体通道。流入反应器的下部分的气体流过位于收集盘上、中心气体通道上方和周围的旋流器，随后流过中心通道。在进入旋流器时，叶片赋予气体旋流运动，该气体只能向下移动穿过中心气体通道，进入收集盘下方的混合室。气体旋流运动的旋流方向由旋流器的叶片限定，并绕基本上竖直的旋流轴线。气体的旋流运动加速气-气相互作用，并因而加速气相的均衡。收集盘上收集的液体流过液体通道进入导管。导管具有将液体注射到来自中心气体通道的气体旋流中的注射喷嘴。注射到旋流中的液体沿着注射方向离开注射喷嘴。
为了实现液体和气体的均匀分配以及在进入下一个低反应床中的流体中的温度的均匀分布，流体分配器装置，例如像EP-A-716881中的流体分配器装置，通常设置有一个或多个喷射喷嘴，以在气体进入旋流器之前向气体喷射挤流流体。为此，EP-A-716881中的一个实施例具有布置在收集盘上方的挤流环。该挤流环的内侧设置有多个喷射喷嘴。在使用时，挤流流体被喷射到从上床流到旋流器的气体中。EP-A-716881没有记载喷射喷嘴的喷射方向。在附图中只能看到，这些喷射喷嘴布置在挤流环的内侧上，并面向挤流环的向内方向。但是，从实践中，大家都知道，为防止压降以及由此引起的能量损失，这些喷射喷嘴在水平面中取向，喷射方向相对于在喷射喷嘴与反应器中心之间延伸的径向成一角度，使得喷射方向与旋流器赋予旋流的旋流方向(部分地)在相同的方向上。
EP-A-716881的喷射方向——以及本发明的喷射方向——在数学上可以由箭头表示，被称为喷射向量。反过来，EP-A-716881的该喷射方向——以及本发明的喷射方向——可以由一组正交的三个向量分量表示：垂直于旋流轴线延伸的径向喷射向量、平行于旋流轴线延伸的轴向喷射向量、和相对于于旋流轴线切向延伸的切向喷射向量。考虑这种表示，如从实践所知——如前段所述的，EP-A-716881的喷射方向可以表示如下：当沿着水平方向喷射时，轴向喷射向量具有零长度(意思是没有长度)；从喷射喷嘴观察，径向喷射向量指向反应器的中心(其对应于旋流轴线)；和从喷射喷嘴观察，切向喷射向量指向与旋流方向相同的方向。
发明内容
本发明的目标是提供一种如权利要求1前序部分所述的改进的分配器装置。
依照本发明的第一个方面，该目标是通过提供一种用于在多床下流式反应器中分配液体和气体的分配器装置来实现；
其中，分配器装置包括：
基本上水平的收集盘，其设置有：
-中心气体通道，和
-在中心气体通道周围的液体通道；
旋流器，该旋流器：
-位于收集盘上方、中心气体通道周围，且
-设置有限定旋流方向的叶片，所述叶片布置成为流过中心气体通道的气体赋予旋流运动，使得气体作为沿着所述旋流方向涡旋的旋流围绕竖直旋流轴线离开中心气体通道；
位于收集盘上方的一个或多个喷射喷嘴，其布置用于在气体进入旋流器之前，沿喷射方向向气体中喷射挤流流体；
其中，喷射方向表示为三个喷射向量的正交集合：垂直于旋流轴线延伸的径向喷射向量、平行于旋流轴线延伸的轴向喷射向量、和相对于于旋流轴线切向延伸的切向喷射向量；并且
其中，喷射喷嘴的取向为使得所喷射的挤流流体的喷射方向的切向喷射向量取向为与旋流方向相反。当切向喷射向量指向一方向时，其用长度大于零的箭头表示(即切向喷射向量大于零)。
切向喷射向量指向与旋流方向相反是指，在水平面观察，喷射方向至少部分地逆流于旋流方向。由于喷射方向部分地与旋流方向相反，将存在压降和能量损失。所以，可以预期结果是设有本发明的分配器装置的反应器性能降低。但是，实验表明正好相反。
设置有依照EP-A-716881的第一分配器装置的第一反应器的性能-正如实践中已知的，具有在水平面上与径向成一定角度的喷射方向，使得径向喷射向量指向反应器的中心，切向喷射向量指向与旋流方向相同的方向-比得上设置有第二分配器装置的同一个第一反应器的性能，除了喷射喷嘴的方向不同之外，所述第二分配器装置与第一分配器装置相同。在两种情况下，挤流流体为温度低于其注射到的流体的温度的氢气。比较计算模型研究披露，在流体进入分配器装置后的床的(水平)高度，从水平面观察，应用本发明结果使穿过催化剂床的流体温度的标准偏差降低50％。在本申请中，该标准偏差也被称为“出口标准偏差”。该标准偏差的降低，减少了催化剂失活，使得反应器可以延长运行。考虑运行延长一天可以等于利润增加大约一百万欧元，该标准偏差的降低具有非常重要的意义。
关于喷射喷嘴，应当注意，在正常使用期间，依照本发明，从喷射喷嘴出来的流体流一般而言是气流，但是本发明不排除该流是液体和气体的混合物。在烃处理领域，挤流流体一般而言是气态氢，其选择性地包括轻碳(light carbons)作为添加剂。进一步，关于喷射喷嘴，应当注意，从该喷射喷嘴沿着所述喷射方向出来的流可以为射流形的，扇形的，锥形的等等。喷射方向是主方向。
依照本发明第一个方面的分配器设备的又一实施例，喷射喷嘴取向为使得喷射方向的径向喷射向量指向旋流轴线。当径向喷射向量在该实施例中指向一方向时，其由长度大于零的箭头表示(即径向喷射向量大于零)。径向喷射向量指向旋流轴线意思是，在水平面观察，喷射方向不完全地而是部分地逆流于旋流方向。这改善了旋流温度的均匀性，大概是因为所喷射的挤流流体能够很好地到达旋流的中心。
模拟计算表明，当所述注射喷嘴的喷射方向及其相关的径向注射向量限定的角度大于2.5°，例如至少为5°时，就已经实现所谓的“出口标准偏差”的降低，而且当该角度至少为1.5°，例如至少为10°时，该降低就变得相当大。模拟计算还表明，当该角度变得大于35°时，所述“出口标准偏差”的降低效果表现为消失了，而且当该角度变得大于30°时，所述“出口标准偏差”的相当大的降低表现为减少了。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，所述喷喷射嘴的喷射方向及其相关的径向喷射向量限定的角度在[5°，35°]的范围内，例如在[7.5°，30°]的范围内或[7.5°，25°]的范围内譬如在[15°，25°]的范围内。这里应当注意，整个本申请中，符号“[”和“]”是指相关值包含在该范围内，符号“，”是指“直至”。
关于喷射方向及其相关的径向喷射向量之间的角度，应当注意，这些角度用度表示，其中360°相当于一圈。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，分配器装置还包括限定在收集盘与分配盘之间的混合室。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，中心气体通道由堰围绕。该堰防止液体进入气体通道。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，分配器装置还包括位于中心气体通道上方的盖子，所述盖子覆盖整个中心气体通道。该盖子防止流体沿竖直向下的方向接近中心气体通道。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，分配器装置包括布置在收集盘下方的一根或多根导管，其中，导管具有：与收集盘的液体通道连通的用于接收液体的第一端；和设置有注射喷嘴的第二端，所述注射喷嘴布置成向旋流中沿着一注射方向注射由第一端接收的液体。像喷射喷嘴的喷射方向一样，注射喷嘴的注射方向也可以由下列三个注射向量的正交集合表示：垂直于旋流轴线延伸的径向注射向量、平行于旋流轴线延伸的轴向注射向量、和相对于于旋流轴线切向延伸的切向注射向量。
关于本申请中使用的术语“注射”和“喷射”，应当注意，这两个术语不意味着实际意思不同，这两个不同术语只是用于区分与旋流(术语“注射”)和挤流(术语“喷射”)相关的内容。进一步，关于注射喷嘴，应当注意，从该喷嘴沿着所述注射方向出来的流可以为射流形的，扇形的，锥形的等等。注射方向是主方向。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，分配器装置还包括布置在中心气体通道下方、分配盘上方的大体上水平的预分配盘，如果有，则预分配盘低于一根或多根导管的任意注射喷嘴，所述预分配盘在其周边设置有溢流堰，并且在其周边附近设置有多个开口。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，所述一根或多根导管包括分布在中心气体通道周围的至少八根导管。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，所述一根或多根导管的注射喷嘴布置成位于同一水平面内。
依照本发明的分配器装置的又一实施例，所述一个或多个喷射喷嘴包括布置在旋流轴线周围以位于同一水平面内的多个喷嘴。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，分配器装置还包括位于收集盘下方的大体上水平的分配盘，所述分配盘设置有用于液体和气体向下流动的多根下导管；每根下导管可选地包括直立的、端部开口的管道，所述管道在其侧面具有用于使液体进入管道的孔。
依照本发明第一个方面的分配器装置的又一实施例，喷射喷嘴布置成位于同一水平面内。依照一附加实施例，在竖直方向观察，该同一水平面可以位于与叶片同一高度上。
依照第二个方面，本发明还涉及一种多床下流式反应器，其包括：固体接触材料构成的、例如催化剂的竖直间隔开的床；和位于相邻床之间的分配器装置，其中，所述分配器装置是依照本发明第一个方面的分配器装置。
依照第三个方面，本发明涉及依照本发明第一个方面的分配器装置在烃处理、例如在加氢处理和/或加氢裂化工艺中的使用。
依照第四个方面，本发明涉及依照本发明第二个方面的下流式反应器在烃处理、例如在加氢处理和/或加氢裂化工艺中的使用。
依照第五个方面，本发明涉及一种用于在诸如烃处理反应器的多床下流式反应器、像加氢裂化器中分配液体和气体的方法；
其中使用了分配器装置，所述分配器装置包括设置有中心气体通道的基本上水平的收集盘；
其中沿向下的方向流过中心气体通道的气体被强制进入一旋流运动，所述旋流运动具有绕竖直旋流轴线的旋流方向，使得气体作为旋流离开中心气体通道；
其中液体被收集在收集盘上；
其中，在收集盘上方的位置，并且在气体进入旋流器之前，将一挤流流体，像气态挤流流体，沿着一喷射方向喷射到所述气体中，在水平面观察，所述喷射方向至少部分地与旋流方向相反。
依照第五个方面进一步的实施例，喷射方向表示为三个喷射向量的正交集合：垂直于旋流轴线延伸的径向喷射向量、平行于旋流轴线延伸的轴向喷射向量、和相对于于旋流轴线切向延伸的切向喷射向量；其中切向喷射向量指向与旋流方向相反。在该实施例中，径向喷射向量可以指向旋流轴线。
依照第五个方面的又一实施例，喷射方向及其相关的径向喷射向量限定的角度在[5°，35°]的范围内，例如在[7.5°，30°]的范围内，譬如在[7.5°，25°]的范围内或者在[15°，25°]的范围内。
附图说明
参照附图，下文将通过举例的方式进一步描述本发明，其中：
图1示意性显示了带有依照本发明的分配器装置的多床下流式反应器的一部分的垂直截面面；
图2示意性显示了由一组正交的三个向量分量限定的向量的三维表示；和
图3显示了依照图1的箭头III的在收集盘20上的视图。
在附图中，同样的零件用同样的参考标记表示。
具体实施方式
图1显示了在上床15和下床115之间的区域内的多床下流式反应器的那部分的截面图。上床15和下床115之间的这个区域设置有分配器装置2。反应器的总体构造是普通的，因而，为清楚起见，没有显示细节，例如分配盘的支撑件。
在该实施例中，反应器1的壁5和支撑格栅10支撑固体接触材料构成的、例如颗粒形式的催化剂的上反应床15，反应物流过该催化剂，并至少部分地转化为产物。支撑格栅10设置有通道(未显示)并且可以是普通类型的。催化剂可直接布置在支撑格栅10上，或催化剂可布置在一层支撑球(未显示)上，所述支撑球容许液体和气体向下流出上床5并流过支撑格栅10，该支撑球布置在支撑格栅10上。
分配器装置2包括支撑在架子25上的基本上水平的收集盘20，该收集盘20设置有由堰35围绕的中心气体通道30，并在堰35周围设置有液体通道40。基本上水平的分配盘45位于收集盘20下方。分配盘45设置有用于液体和气体向下流动的多个管状下导管50。盖子55位于收集盘20的中心气体通道30上方，覆盖整个中心气体通道，由此防止来自上床15的气体轴向接近中心气体通道30。混合室60限定在收集盘20与分配盘45之间。具有第一端70和第二端76的导管65布置在收集盘20下方。导管65的第一端70与收集盘20的液体通道40连通，以便接收由收集盘20收集的液体。每个第二端76设置有通向混合室60的注射喷嘴75。
分配器装置2还包括布置在导管65与分配盘45之间的基本上水平的预分配盘80，所述预分配盘80在其周边设置有溢流堰85，并且在其周边附近设置有多个开口90。
在正常操作过程中，从上反应床15流下的液体汇集在收集盘20上，在收集盘20上，液体聚集形成一层液体覆盖液体通道40，这样阻止气体流过液体通道40。流入反应器1的下部分的气体经由旋流器100，由盖子55封闭在它的顶部。旋流器设置有叶片元件95，并在叶片元件95之间设置有水平气体通道105。从上反应床15留下的气体自盖子55折向，首先径向向外流动，然后径向向内朝着旋流器100的水平气体通道105流动。在进入水平气体通道时，布置在水平气体通道105旁边的叶片元件95赋予气体旋流运动，该气体只能向下移动穿过中心气体通道30，进入下方的混合室60。所赋予的旋流运动结果导致，在收集盘20的下侧，使得气体作为沿着旋流方向107旋流的旋流108绕竖直旋流轴线106离开中心气体通道30。旋流方向107由叶片元件95限定，其可以在旋流方向107上，如图1所示，或者在相反方向上。气体的旋流运动加速气体对气体相互作用，并因而加速气相的均衡。
收集盘20上的液体流过液体通过40，然后进入并穿过导管65。为了清楚起见，图1只显示了两根导管65和相应的液体通道40。导管65的第二端76上的注射喷嘴75定位成，在正常操作过程中，从注射喷嘴75出来的液流在收集盘20下方的位置上注射到来自中心气体通道30的气体旋流108中。
来自导管65的液体聚集在预分配盘80上，在这里它向下流过开口90或有时候通过溅出溢流堰85而向下到达分配盘45。收集盘20和预分配盘80之间的垂直距离(X)与预分配盘80和分配盘45之间的垂直距离(Y)优选具有这种关系，即使得X/Y在1到3范围内。气体被预分配盘80折向，并流到分配盘45。
分配盘45起到两种作用。首先，它在流体进入下反应床115之前均匀地分配液体和气体，其次，它允许液体和气体相接触，以提供液-气相互作用。
分配盘45包括基本上水平的板110，所述板110带有很多管状下导管50，以在下反应床115上提供许多分配液体和气体的点。每根下导管50包括直立(基本上竖直)的端部开口的管道，所述管道贯穿板110上的开口延伸。每个管道在其侧面具有用于使液体进入管道的孔120(或多个孔)，所述孔120位于在正常操作过程中在板110上形成的液体池的顶表面下方。孔120的总数和尺寸应根据所希望的流速来选择。气体进入下导管50的顶部，并穿过下导管50向下到达下反应床115。在下导管50中，气体和液体之间进行均匀混合。
分配器装置还包括用于分配挤流流体的装置。这些装置包括设置有喷射喷嘴130的挤流环125。挤流环125位于支撑格栅10和收集盘20之间。
在正常操作过程中，挤流流体可以通过挤流环125的喷射喷嘴130排放到反应器中，在这里，它与从上反应床15流下来的液体和气体相接触。挤流流体可以是反应物(例如加氢处理或加氢裂化工艺中的氢气)、工艺产物或惰性物质。
在更具体地论述本发明的细节之前，我们首先论述图2，以便阐明用于限定本发明的一些常规数学背景。
物理单位，像力、运动、速度、方向等等，在3D(三维)环境中可以表示为向量，像图2中的方向向量D。这种3D向量可以分解成向量分量，一个向量分量对应3D环境的一维。因此向量D表示为三个向量分量。这三个向量分量的和是向量D。3D环境同样可以以几个方式创建。一种常用方式是通过一组正交的三个向量分量限定的3D环境。在这一组正交的三个向量分量中，每个向量分量垂直于其它两个向量分量延伸。图2中的方向向量D就是这样，该方向向量D可以分解成第一向量分量R、垂直于向量分量R的第二向量分量A、以及垂直于向量分量R和向量分量A的第三向量分量T。
为便于限定本发明，向量分量R、T和A与混合室60中气体的旋流运动有关。其结果是：
-径向向量分量R——在权利要求1中被称为径向喷射向量——从向量D的开始延伸到旋流轴线106，并垂直于旋流轴线106；
-轴向向量分量A——在权利要求1中被称为轴向喷射向量——平行于旋流轴线106、且垂直于径向向量分量R延伸；
-切向向量分量T——在权利要求1中被称为切向喷射向量——沿旋流的切向方向延伸，且垂直于径向向量分量R和轴向向量分量A。
进一步参照图2和权利要求1：圆圈200非常示意性地表示喷嘴的表面开口(该表面具有垂直于所述表面的法向向量，其与箭头D重合)，箭头D表示从喷嘴200出来的流体流的方向——在权利要求1中被称为喷射方向。在图2中，旋流方向107指示为绕旋流轴线106的圆形箭头。从图2中可以看到，切向喷射向量指向与旋流方向107相反。喷射方向D因而部分地与旋流方向相反，切向喷射向量——忽略旋流中的轴向移动和旋流中的离心作用——与旋流方向相反。在喷嘴200的位置观察，该切向喷射向量T可以说逆流于在喷嘴200的位置上的旋流。
现在，更详细地转到本发明，图3显示了收集盘20上依照图1的箭头III的视图。该视图显示了圆形挤流环125、喷射喷嘴130、带有确定旋流方向107的叶片95的旋流器100、从喷射喷嘴130出来的流的方向150(该方向被称为“喷射方向”150，对照图2中的箭头D)、喷射方向150的径向分量151(该径向分量被称为“径向喷射向量”151，对照图2中的箭头R)、喷射方向150的切向分量152(该切向分量被称为“切向喷射向量”152，对照图2中的箭头T)、和——在水平面观察——喷射方向150相对于径向喷射向量151的角度α。考虑图1和3的实施例中的喷射方向150实际上在水平面上，该角度α与径向喷射向量151和实际喷射方向150之间的角度相同(注意：所谓的轴向喷射向量——对照图2中的箭头A——在这种情况下是不存在的，因为由于喷射方向位于水平面中，其值为零(水平面是由径向和切向喷射向量150、151、R、T限定的平面)。
如前所述，申请人发现喷射喷嘴130的喷射方向150的指向至少部分地与旋流方向相反，其结果是：
-从水平面观察，旋流上的温度的均匀性得到改善；和
-在水平分配盘45的(水平)高度上，穿过反应器的流体的温度的标准偏差降低，在这里，流体进入分配器装置2之后的床115(该标准偏差应被称为“出口标准偏差”)。
在水平喷射方向150相对于径向喷射向量151的角度α＝-20°(即处于至少部分地与旋流方向相同的方向)和α＝20°(即至少部分地与旋流方向相反)的情况下，对真实有效的加氢裂化器反应器的模拟计算——具有液相断开——表明，当使用气体作为挤流时，所谓的“出口标准偏差”在α＝20°时比α＝-20°时小大约50％。而且对于α＝-10°和α＝10°，模拟计算表明，当使用气体作为挤流时，所谓的“出口标准偏差”在α＝10°时比α＝-10°时小大约50％。这导致在需要维修以便更换新的催化剂之前较长时间的使用反应器(延长大约1个月)。所谓的“出口标准偏差”对于α≥5°且α≤35°的情况降低了(因此，α＝[5°，35°])，例如α在[5°，25°]的范围内。该“出口标准偏差”在喷射方向至少部分地与旋流方向相反的情况下的这种降低可以解释为，由于进入旋流器100的挤流气体的相对注射，高温工艺气体和冷挤流气体之间的相互作用得到改善。
考虑旋流轴线106在实际实施例中与中心气体通道30的竖直中心轴线重合，在整个本申请中使用的旋流轴线106——在实际实施例中——可以被当作中心气体通道的竖直中心轴线。

Claims (15)

1.一种用于在多床下流式反应器中分配液体和气体的分配器装置，其中所述分配器装置包括：
基本上水平的收集盘(20)，所述收集盘设置有：
-中心气体通道(30)，和
-在中心气体通道周围的液体通道(40)；
旋流器(100)，所述旋流器：
-位于收集盘(20)上方、中心气体通道(30)周围，且
-设置有叶片(95)，所述叶片(95)限定旋流方向(107)并布置用于为流过中心气体通道(30)的气体赋予旋流运动，使得气体作为沿着所述旋流方向(107)涡旋的旋流(108)围绕竖直的旋流轴线(106)离开中心气体通道(30)；
位于收集盘上方的一个或多个喷射喷嘴(130)，其布置用于在气体进入旋流器(100)之前，沿喷射方向向所述气体中喷射挤流流体；
其中，喷射方向(D，150)表示为三个喷射向量的正交集合，所述三个喷射向量包括：垂直于旋流轴线(106)延伸的径向喷射向量(151，R)、平行于旋流轴线(106)延伸的轴向喷射向量(A)以及相对于旋流轴线(106)切向延伸的切向喷射向量(152，T)；
其特征在于，所述喷射喷嘴取向为使得所喷射的挤流流体的喷射方向的切向喷射向量(152，T)取向为与旋流方向(107)相反。
2.如权利要求1所述的分配器装置，其中，所述喷射喷嘴取向为使得挤流流体的喷射方向的径向喷射向量(151，R)取向为旋流轴线(107)。
3.如前述权利要求中的任意一项所述的分配器装置，其中，所述喷射喷嘴(130)的喷射方向(150，D)及其相关的径向喷射向量(151，R)限定的角度大于5°，例如至少7.5°。
4.如前述权利要求中的任意一项所述的分配器装置，其中，所述喷射喷嘴(130)的喷射方向(150，D)及其相关的径向喷射向量(151，R)限定的角度至少为10°。
5.如前述权利要求中的任意一项所述的分配器装置，其中，所述喷射喷嘴(130)的喷射方向(150，D)及其相关的径向喷射向量(151，R)限定的角度至多为35°。
6.如前述权利要求中的任意一项所述的分配器装置，其中，所述喷射喷嘴(130)的喷射方向(150，D)及其相关的径向喷射向量(151，R)限定的角度至多为30°。
7.如前述权利要求中的任意一项所述的分配器装置，其中，所述喷射喷嘴(130)的喷射方向(150，D)及其相关的径向喷射向量(151，R)限定的角度在[5°，35°]的范围内，例如在[7.5°，30°]的范围内或者在[7.5°，25°]的范围内，譬如在[15°，25°]的范围内。
8.如前述权利要求中的任意一项所述的分配器装置，其中，
-分配器装置还包括限定在收集盘(20)与分配盘(45)之间的混合室(60)；
和/或
-中心气体通道(30)被堰(35)围绕；
-分配器装置还包括位于中心气体通道上方的盖子(55)，所述盖子(55)覆盖整个中心气体通道；
和/或
-分配器装置还包括基本上水平的预分配盘(80)，其布置在中心气体通道(30)下方、分配盘(45)上方，并且只要存在，预分配盘就低于可选的一根或多根导管(65)的可选注射喷嘴(75)，所述预分配盘(80)在其周边设置有溢流堰(85)，并且在其周边附近设置有多个开口(90)；
和/或
-布置在收集盘(20)下方的一根或多根导管(65)，其中导管具有：
与收集盘(20)的液体通道(40)连通的、用于接收液体的第一端(70)；和
设置有注射喷嘴(75)的第二端(76)，所述注射喷嘴(75)布置成沿着注射方向向所述旋流(108)中注射由第一端(70)接收的液体；其中，可选地，
所述一根或多根导管(65)包括分布在中心气体通道(30)周围的至少八根导管(65)；和/或
所述一根或多根导管的注射喷嘴(75)布置成位于同一水平面内；和/或
-分配器装置还包括基本上水平的分配盘(45)，其位于收集盘(20)下方，该分配盘(45)设置有用于液体和气体向下流动的多根下导管(50)；每根下导管可选地包括直立的、端部开口的管道，所述管道在其侧面具有用于使液体进入管道的孔；和/或
-所述一个或多个喷射喷嘴包括布置在旋流轴线周围以位于同一水平面内的多个喷射喷嘴。
9.一种多床下流式反应器，其包括固体接触材料构成的、竖直间隔开的床和位于相邻床之间的分配器装置，其中，分配器装置如前述权利要求中的任意一项所述。
10.如权利要求1至8中的任意一项所述的分配器装置在烃处理例如在加氢处理和/或加氢裂化工艺中的用途。
11.如权利要求9所述的下流式反应器在烃处理例如在加氢处理和/或加氢裂化工艺中的用途。
12.一种用于在多床下流式反应器例如烃处理反应器譬如加氢裂化器中分配液体和气体的分配方法；
其中使用了分配器装置(2)，所述分配器装置(2)包括设置有中心气体通道(30)的、基本上水平的收集盘(20)；
其中沿向下的方向流过中心气体通道(30)的气体被强制形成旋流运动，所述旋流运动具有围绕竖直旋流轴线(106)的旋流方向(107)，使得气体作为旋流(108)离开中心气体通道；
其中，液体被收集在收集盘(20)上；
其中，在收集盘(20)上方的位置，并且在气体进入旋流器(100)之前，将挤流流体例如气态挤流流体沿着喷射方向(150，D)喷射到所述气体中，在水平面内观察，所述喷射方向(150，D)至少部分地与旋流方向(107)相反。
13.如权利要求12所述的分配方法，其中，喷射方向(150，D)表示为三个喷射向量的正交集合，所述三个喷射向量包括：垂直于旋流轴线(106)延伸的径向喷射向量(151，R)、平行于旋流轴线(106)延伸的轴向喷射向量(A)以及相对于旋流轴线(107)切向延伸的切向喷射向量(152，T)；并且其中所述喷射喷嘴取向为使得切向喷射向量(152，T)取向为与旋流方向(106)相反。
14.如权利要求13所述的分配方法，其中，径向喷射向量(151，R)取向为旋流轴线(106)。
15.如权利要求13至14中的任意一项所述的分配方法，其中，在水平面内观察，喷射方向(150，D)及其相关的径向喷射向量(151，R)限定的角度(α)在[5°，35°]的范围内，例如在[7.5°，30°]的范围内譬如在[7.5°，25°]的范围内或者在[15°，25°]的范围内。
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