CN104078397A - 一种槽式机台清洗装置 - Google Patents

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宋振伟
徐友峰
陈晋
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract

一种槽式机台清洗装置，包括：清洗槽，通过隔离板间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽；进液管，包括主进液管，以及与主进液管连通，并分别与第一清洗槽连接的第一分支进液管，与第二清洗槽连接的第二分支进液管；出液管，进一步包括主出液管，以及与主出液管连通，并分别与第一清洗槽连接的第一分支出液管，与第二清洗槽连接的第二分支出液管。本发明不仅可独立的对不同工艺、不同器件产品进行清洗，避免交叉污染，而且保证机台产能，改善清洗效果，提高器件良率。

Description

一种槽式机台清洗装置
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种槽式机台清洗装置。
背景技术
在半导体制造工艺技术领域，槽式清洗以其低成本、高可靠性、高产能及优越的蚀刻选择比的优点，在相当长的时间内均为集成电路制造的主流工艺。但是，现有的槽式清洗的设计可允许两批不同的产品在同一个槽里清洗，易于造成两批产品之间的交叉污染。
另一方面，随着集成电路的快速发展，在一个成熟的生产车间内，均具有不同的工艺平台，例如具有65nm、55nm、40nm、32～28nm等工艺平台；其产品的器件亦具有逻辑器件、存储器器件等等。所述不同工艺、不同器件的产品在湿法清洗时所用程式大体相同，放置在同一槽内清洗已是本领域常规做法。相应地，由于将不同产品放置在同一槽内清洗所导致的交叉污染便成为了槽式清洗中颗粒缺陷的最主要来源之一。
同时，若所述槽式清洗机台仅用于清洗同批次相同产品，则极大的限制了设备之产能，增加了生产成本。显然地，针对不同工艺、不同器件产品在同一槽内清洗所造成的交叉污染严重的制约了槽式清洗的能力。故，寻求一种可有效避免不同工艺、不同器件产品在进行同时清洗，且不相互污染的槽式机台清洗装置已成为本领域技术人员亟待解决的技术问题之一。
故针对现有技术存在的问题，本案设计人凭借从事此行业多年的经验，积极研究改良，于是有了本发明一种槽式机台清洗装置。
发明内容
本发明是针对现有技术中，传统的槽式清洗将两批不同的产品在同一个槽里清洗，易于造成两批产品之间的交叉污染；或者仅用于清洗同批次相同产品，极大的限制了设备之产能，增加了生产成本等缺陷提供一种槽式机台清洗装置。
为了解决上述问题，本发明提供一种槽式机台清洗装置，所述槽式机台清洗装置，一种槽式机台清洗装置，所述槽式机台清洗装置，包括：清洗槽，通过隔离板间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽；进液管，进一步包括主进液管，以及与所述主进液管连通，并分别与所述第一清洗槽连接的第一分支进液管，与所述第二清洗槽连接的第二分支进液管；出液管，进一步包括主出液管，以及与所述主出液管连通，并分别与所述第一清洗槽连接的第一分支出液管，与所述第二清洗槽连接的第二分支出液管。
可选地，所述第一分支进液管、第二分支进液管、第一分支出液管、第二分支出液管上分别设置开关阀。
可选地，所述清洗槽之第一清洗槽和第二清洗槽内各设置25个卡槽。
综上所述，本发明槽式机台清洗装置通过设置隔离板将所述清洗槽间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽，且所述进液管之第一分支进液管和所述第二分支进液管分别与所述第一清洗槽和第二清洗槽连接，所述出液管之第一分支出液管和所述第二分支出液管分别与所述第一清洗槽和第二清洗槽连接，不仅使得所述清洗槽之第一清洗槽和第二清洗槽均可独立的对不同工艺、不同器件产品进行清洗，不会造成交叉污染，而且保证了槽式机台的产能，改善了清洗效果，提高了器件良率。
附图说明
图1所示为本发明槽式机台清洗装置之结构示意图；
图2(a)所示为本发明槽式机台清洗装置之进液管布置示意图；
图2(b)所示为本发明槽式机台清洗装置之排液管布置示意图。
具体实施方式
为详细说明本发明创造的技术内容、构造特征、所达成目的及功效，下面将结合实施例并配合附图予以详细说明。
请参阅图1、图2(a)～2(b)，图1所示为本发明槽式机台清洗装置之结构示意图。图2(a)所示为本发明槽式机台清洗装置之进液管布置示意图。图2(b)所示为本发明槽式机台清洗装置之排液管布置示意图。所述槽式机台清洗装置1，包括：清洗槽11，所述清洗槽11通过隔离板111间隔形成独立的第一清洗槽112和第二清洗槽113；进液管12，所述进液管12进一步包括主进液管121，以及与所述主进液管121连通，并分别与所述第一清洗槽112连接的第一分支进液管122，与所述第二清洗槽113连接的第二分支进液管123；出液管13，所述出液管13进一步包括主出液管131，以及与所述主出液管131连通，并分别与所述第一清洗槽112连接的第一分支出液管132，与所述第二清洗槽113连接的第二分支出液管133。
作为本发明的具体实施方式，优选地，在所述第一分支进液管122、第二分支进液管123、第一分支出液管132、第二分支出液管133上分别设置开关阀10，以独立的对清洗液之流量进行控制。
为了更直观的揭露本发明之技术方案，凸显本发明之有益效果，非限制性的列举，所述清洗槽11之第一清洗槽112和第二清洗槽113内各设置25个卡槽110，用以卡设所述待清洗之硅片。作为本领域技术人员，容易理解地，所述清洗槽11之第一清洗槽112和第二清洗槽113均可独立的对不同工艺、不同器件产品进行清洗，且不会造成交叉污染。
明显地，本发明槽式机台清洗装置1通过设置隔离板111将所述清洗槽11间隔形成独立的第一清洗槽112和第二清洗槽113，且所述进液管12之第一分支进液管122和所述第二分支进液管123分别与所述第一清洗槽112和第二清洗槽113连接，所述出液管13之第一分支出液管132和所述第二分支出液管133分别与所述第一清洗槽112和第二清洗槽113连接，不仅使得所述清洗槽11之第一清洗槽112和第二清洗槽113均可独立的对不同工艺、不同器件产品进行清洗，不会造成交叉污染，而且保证了槽式机台的产能，改善了清洗效果，提高了器件良率。
综上所述，本发明槽式机台清洗装置通过设置隔离板将所述清洗槽间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽，且所述进液管之第一分支进液管和所述第二分支进液管分别与所述第一清洗槽和第二清洗槽连接，所述出液管之第一分支出液管和所述第二分支出液管分别与所述第一清洗槽和第二清洗槽连接，不仅使得所述清洗槽之第一清洗槽和第二清洗槽均可独立的对不同工艺、不同器件产品进行清洗，不会造成交叉污染，而且保证了槽式机台的产能，改善了清洗效果，提高了器件良率。
本领域技术人员均应了解，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以对本发明进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本发明涵盖这些修改和变型。

Claims (3)

1.一种槽式机台清洗装置，其特征在于，所述槽式机台清洗装置，包括：
清洗槽，通过隔离板间隔形成独立的第一清洗槽和第二清洗槽；
进液管，进一步包括主进液管，以及与所述主进液管连通，并分别与所述第一清洗槽连接的第一分支进液管，与所述第二清洗槽连接的第二分支进液管；
出液管，进一步包括主出液管，以及与所述主出液管连通，并分别与所述第一清洗槽连接的第一分支出液管，与所述第二清洗槽连接的第二分支出液管。
2.如权利要求1所述的槽式机台清洗装置，其特征在于，所述第一分支进液管、第二分支进液管、第一分支出液管、第二分支出液管上分别设置开关阀。
3.如权利要求1所述的槽式机台清洗装置，其特征在于，所述清洗槽之第一清洗槽和第二清洗槽内各设置25个卡槽。
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