CN104020884A - 触控基板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

一种触控基板包括依次层叠的透明衬底、第一粘结层、第一透明导电层、第二粘结层及第二透明导电层。第一透明导电层和第二透明导电层包括基质和填充于基质中的纳米导电丝线，基质为固化的透明感光树脂。上述触控基板以纳米导电丝线交错连接形成的导电网格实现导电，相对于ITO导电层，其具有相对较低的电阻率。纳米导电丝线相对于ITO更便宜、更软，使上述触控基板具有较好的抗弯折性。导电网格被基质包覆，使上述导电网格能较好的避免划伤，不容易损坏。大大降低导电网格与空气接触的机会，使上述触控基板不容易被氧化。同时提供一种触控基板的制备方法。

Description

触控基板及其制备方法

技术领域

本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控基板及其制备方法。

背景技术

触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。

目前，氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)导电层是触摸屏模组中至关重要的组成部分。虽然触摸屏的制造技术一日千里的飞速发展着。但是以投射式电容屏为例，ITO导电层的基础制造流程近年来并未发生太大的改变。总是不可避免的需要ITO镀膜，ITO图形化。

但是ITO导电层的电阻率较大，在平板电脑(Tablet Personal Computer)、一体机(All in one，AIO)、笔记本(Notebook)等尺寸较大的设备上限制了其使用性。

发明内容

基于此，有必要针对ITO导电层电阻率较大的问题，提供一种可以降低电阻率的触控基板及其制备方法。

一种触控基板，包括：

透明衬底；

第一粘结层，设置于所述透明衬底的表面；

第一透明导电层，设置于所述第一粘结层背向所述透明衬底的表面，所述第一透明导电层包括基质及填充于所述基质中的纳米导电丝线，所述基质为固化的透明感光树脂，所述纳米导电丝线交错形成导电网格，所述第一透明导电层经过图案化后形成多个间隔排列的第一轴向触控电极；

第二粘结层，设置于所述第一透明导电层背向所述第一粘结层的表面或者设置于所述透明衬底背向于所述第一粘结层的表面；

第二透明导电层，设置于所述第二粘结层背向所述透明衬底的表面，所述第二透明导电层包括基质及填充于所述基质中的纳米导电丝线，所述基质为固化的透明感光树脂，所述纳米导电丝线交错形成导电网格，所述第二透明导电层经过图案化后形成多个间隔排列并垂直于所述第一轴向触控电极的第二轴向触控电极。

在其中一个实施例中，所述透明衬底的厚度范围为0.02mm～0.5mm。

在其中一个实施例中，所述透明衬底的厚度范围为0.05mm～0.2mm。

在其中一个实施例中，所述第一粘结层的材质与所述第一透明导电层中基质的材质相同，第二粘结层的材质与所述第二透明导电层中基质的材质相同。

在其中一个实施例中，所述第一粘结层及第二粘结层的厚度范围为0.5μm～50μm。

在其中一个实施例中，所述第一透明导电层及第二透明导电层的厚度范围为10nm～1000nm。

在其中一个实施例中，所述纳米导电丝线为金纳米丝线、银纳米丝线、铜纳米丝线、铝纳米丝线或碳纳米丝线。

在其中一个实施例中，所述纳米导电丝线的直径范围为10nm～1000nm，长度范围为20nm～50μm，所述第一透明导电层及第二透明导电层的方阻为0.1Ω/□～500Ω/□。

在其中一个实施例中，所述第一透明导电层及第二透明导电层的方阻为50Ω/□～200Ω/□。

在其中一个实施例中，所述第一透明导电层及第二透明导电层中的部分所述纳米导电丝线露出对应的基质背向述透明衬底的表面。

一种触控基板的制备方法，包括以下步骤：

提供透明衬底；

提供第一干膜，所述第一干膜的两相对表面设置有保护膜，所述第一干膜通过流体状的透明感光树脂形成，所述第一干膜的透明感光树脂为半固态，所述第一干膜嵌入纳米导电丝线的区域形成第一导电层，所述第一干膜未嵌入纳米导电丝线的区域形成第一粘结层；

去除所述第一粘结层表面的保护膜，将所述第一干膜贴合于所述透明衬底表面，并使所述第一粘结层直接贴附于所述透明衬底上，所述纳米导电丝线远离所述透明衬底；

对所述第一干膜进行图案化处理：对所述第一干膜曝光及显影，形成多个间隔排列的第一轴向触控电极；

固化所述第一干膜；

提供第二干膜，所述第二干膜的两相对表面设置有保护膜，所述第二干膜通过流体状的透明感光树脂形成，所述第二干膜的透明感光树脂为半固态，所述第二干膜嵌入纳米导电丝线的区域形成第二导电层，所述第二干膜未嵌入纳米导电丝线的区域形成第二粘结层；

去除所述第二粘结层表面的保护膜，将所述第二干膜贴合于所述第一导电层背向所述第一粘结层的表面，所述纳米导电丝线远离所述透明衬底；

对所述第二干膜进行图案化处理：对所述第二干膜曝光及显影，形成多个间隔排列并垂直于所述第一轴向触控电极的第二轴向触控电极，；

固化所述第二干膜。

在其中一个实施例中，对所述第一干膜和第二干膜进行曝光的过程中，曝光波长为300nm～400nm，曝光能量为10mJ/cm²～500mJ/cm²；

对经过曝光后的第一干膜和第二干膜进行显影的过程中，采用采用质量分数为0.1％～10％的弱碱盐溶液进行显影。

在其中一个实施例中，所述半固态的透明感光树脂包括成膜树脂、感光剂、溶剂、稳定剂、流平剂和消泡剂；各组分的重量含量为：60～80份成膜树脂、1～10份感光剂、5～20份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂，各组分的份数之和为100；

所述成膜树脂为聚甲基丙烯酸甲酯、线性酚醛树脂、环氧树脂、巴豆酸、丙烯酸酯、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种；

所述感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯、芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种；

所述溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种；

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种；

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种；

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅的至少一种。

在其中一个实施例中，所述透明感光树脂为正性感光树脂基质，对所述第一干膜或第二干膜进行曝光前还包括去除另一保护膜的步骤，曝光过程中采用的掩膜板根据第一轴向触控电极或第二轴向触控电极的形状进行选择。

在其中一个实施例中，所述透明感光树脂为自由基光引发体系负性感光树脂，并采用两次曝光方式对所述第一干膜和/或第二干膜进行曝光：采用根据所述第一轴向触控电极或第二轴向触控电极的形状选择的掩膜板进行第一次曝光，去除另一保护膜，直接对所述第一干膜或第二干膜进行第二次曝光。

在其中一个实施例中，固化所述第一干膜和第二干膜的过程中，采用热固化或UV固化：

采用热固化方式固化时，热固化温度为80℃～150℃，固烤时间为10min～60min；

采用UV固化方式固化时，UV固化能量为200mJ/cm²～2000mJ/cm²。

上述触控基板及其制备方法至少包括以下优点：

上述触控基板以纳米导电丝线交错连接形成的导电网格实现导电，相对于ITO导电层，其具有相对较低的电阻率。而且纳米导电丝线相对于ITO更便宜、更软，从而使得上述触控基板具有较好的抗弯折性。导电网格被透明感光树脂包覆，从而使得上述导电网格能较好的避免划伤，不容易损坏。同时大大降低了导电网格与空气接触的机会，使得上述触控基板不容易被氧化。因此，上述触控基板具有较好导电性能。

上述触控基板的制备方法中，纳米导电丝线交错连接形成的导电网格以基质为载体，在制备上述触控基板时，直接通过曝光显影即可得到，可以简化工艺。

附图说明

图1为一实施方式中触控基板的结构示意图；

图2为图1中第一粘结层与第一透明导电层的结构示意图；

图3为图1中第二粘结层与第二透明导电层的结构示意图；

图4为一实施方式中触控基板的制备方法的流程示意图；

图5为一实施方式中第一干膜未去除保护膜的结构示意图；

图6为一实施方式中第一干膜处于第一次曝光的状态图；

图7为图6中第一干膜处于第二次曝光的状态图；

图8为图7所示第一干膜显影后的结构示意图；

图9为另一实施方式中第一干膜未去除保护膜的结构示意图；

图10为另一实施方式中第一干膜显影后的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，为一实施方式中触控基板10的结构示意图。该触控基板10包括依次层叠的透明衬底100、第一粘结层200、第一透明导电层300、第二粘结层400及第二透明导电层500。以透明衬底100的表面为基准面建立二维坐标系，第一轴向为沿Y轴方向，第二轴向为沿X轴方向。

透明衬底100的材质可以为玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly methylMethacrylate，PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)、环烯烃共聚物(COC)或环烯烃聚合物(COP)。透明衬底100的厚度范围可以为0.02mm～0.5mm。进一步，在本实施方式中，在综合考虑透明衬底100的加工难易程度及触控基板的整体厚度后，透明衬底100的厚度优选为0.05mm～0.2mm。

第一粘结层200设置于透明衬底100的表面，第一透明导电层300设置于第一粘结层200背向透明衬底100的表面。即，第一粘结层200设置于第一透明导电层300与透明衬底100之间，以增加第一透明导电层300与透明衬底100之间的粘结性能。第一粘结层200的厚度范围可以为0.5μm～50μm。

请一并参阅图2，第一透明导电层300的厚度范围可以为10nm～1000nm。第一透明导电层300包括基质300a及填充于基质300a中的纳米导电丝线300b。基质300a为固化的透明感光树脂，纳米导电丝线300b交错连接形成导电网格。基质300a为流体状的或半固态的透明感光树脂经过固化处理而得到。

具体到本实施方式中，纳米导电丝线300b的直径为10nm～1000nm，长度为20nm～50μm。由于纳米导电丝线300b的直径小于人眼的可视宽度，从而保证第一透明导电层300的视觉透明性。纳米导电丝线300b可以为金纳米丝线、银纳米丝线、铜纳米丝线、铝纳米丝线、碳纳米丝线等易于制备且具有较好导电性能的导电丝线。具体到本实施方式中，纳米导电丝线300b采用银纳米丝线。

具体到本实施方式中，第一透明导电层300的方阻为0.1Ω/□～500Ω/□，相较于ITO导电层具有更好的导电性，更适合用于制作如平板电脑(TabletPersonal Computer)、一体机(All in one，AIO)、笔记本(Note Book)等尺寸较大的触控产品。

第一透明导电层300的导电性与纳米导电丝线300b的直径及纳米导电丝线300b分布密度相关，直径越大，分布密度越大，则导电性越好，即方阻越低。然而，纳米导电丝线300b的直径越大、分布密度越大，第一透明导电层300的透过率越低。因此，为了保证透过率和导电性的平衡，第一透明导电层300的方阻优选为50Ω/□～200Ω/□。

具体到本实施方式中，部分纳米导电丝线300b露出基质300a背向透明衬底100的表面，以使得第一透明导电层300背向透明衬底100的表面整面导电。虽然部分纳米导电丝线300b暴露在基质300a外，但是纳米导电丝线300b交错连接形成的导电网格的主体部分还是被基质300a包覆，因此，上述触控基板10相对于传统的触控基板具有更好的抗氧化及抗划伤能力。

第一透明导电层300被图案化而形成多个间隔排列的第一轴向触控电极。

第一粘结层200的厚度范围可以为0.5μm～50μm。在本实施方式中，第一粘结层200的材质与基质300a的材质相同，且第一粘结层200与第一透明导电层300的基质300a一体成型。

请一并参阅图1及图3，第二粘结层400设置于第一透明导电层300背向第一粘结层200的表面。此时，第二粘结层400可以为电介质层，以使第一透明导电层300与第二导电层500之间相互绝缘。具体地，第二粘结层400的材质可以与第一粘结层200的材质相同，这里不再赘述。当然，在其它的实施方式中，第二粘结层还可以设置在透明衬底背向于第一粘结层的表面。第二粘结层400的厚度范围可以为0.5μm～50μm。

第二透明导电层500设置于第二粘结层400背向于透明衬底100的表面。第二透明导电层500的厚度范围可以为10nm～1000nm。第二透明导电层500包括基质及填充于基质中的纳米导电丝线，基质为固化的透明感光树脂，纳米导电丝线交错形成导电网格。第二透明导电层500的材质与第一透明导电层300的材质相同，这里不再赘述。

第二透明导电层500被图案化而形成多个间隔排列并垂直于第一轴向触控电极的第二轴向触控电极。

当手指触摸触控基板10时，第一轴向触控电极及第二轴向触控电极由于电容变化而形成触控信号，通过第一轴向触控电极形成的触控信号确定触摸点在第一坐标轴的坐标值；通过第二轴向触控电极的触控信号确定触摸点在第二坐标轴上的坐标值，从而确定触摸点的二维坐标值。

上述触控基板10至少包括以下优点：

上述触控基板10以纳米导电丝线交错连接形成的导电网格实现导电，相对于ITO导电层，其具有相对较低的电阻率。而且纳米导电丝线相对于ITO更便宜、更软，从而使得上述触控基板10具有较好的抗弯折性。导电网格被基质包覆，从而使得上述导电网格能较好的避免划伤，不容易损坏。同时大大降低了导电网格与空气接触的机会，使得上述触控基板不容易被氧化。因此，上述触控基板10具有较好导电性能。

请参阅图4，一实施方式中的触控基板的制备方法，具体包括以下步骤：

步骤S110，提供透明衬底。透明衬底的材质可以为玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly methyl Methacrylate，PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)、环烯烃共聚物(COC)或环烯烃聚合物(COP)。透明衬底的厚度范围可以为0.02mm～0.5mm。进一步，在本实施方式中，在综合考虑透明衬底的加工难易程度及触控基板的整体厚度后，透明衬底的厚度优选为0.05mm～0.2mm。

步骤S120，提供第一干膜。第一干膜的两相对表面设置有保护膜。第一干膜是将流体状的透明感光树脂通过预固化及压制而形成。第一干膜自一侧表面的一定厚度范围内嵌入纳米导电丝线而形成第一导电层。该第一干膜未嵌入纳米导电丝线的区域形成第一粘结层。构成第一干膜的感光树脂为半固态，具有一定粘性，并且第一干膜的两相对表面分别设置有保护膜。

半固态的透明感光树脂包括成膜树脂、感光剂、溶剂、稳定剂、流平剂和消泡剂；各组分的重量含量为：60～80份成膜树脂、1～10份感光剂、5～20份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂，各组分的份数之和为100。成膜树脂为聚甲基丙烯酸甲酯、线性酚醛树脂、环氧树脂、巴豆酸、丙烯酸酯、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种。感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯、芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种。溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种。稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种。流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅的至少一种。

具体到本实施方式中，纳米导电丝线的直径为10nm～1000nm，长度为20nm～50μm。由于纳米导电丝线的直径小于人眼的可视宽度，从而保证视觉透明性。纳米导电丝线可以为金纳米丝线、银纳米丝线、铜纳米丝线、铝纳米丝线、碳纳米丝线等易于制备且具有较好导电性能的导电丝线。具体到本实施方式中，纳米导电丝线采用银纳米丝线。

步骤S130，去除第一干膜的第一粘结层表面的保护膜，将第一干膜采用热压的方式贴合到透明衬底表面，使第一粘结层直接贴附于透明衬底上，纳米导电丝线远离透明衬底。

步骤S140，对第一干膜进行图案化处理：对第一干膜曝光，并将经过曝光后的第一干膜进行显影，形成多个间隔排列的第一轴向触控电极。

请参阅图5至图8，如图5所示，在其中一实施方式中，该第一干膜包括第一粘结层720及第一导电层730。第一干膜的两相对表面分别设置有保护膜740。形成该第一干膜的透明感光树脂为自由基光引发体系负性感光树脂，即，光照处发生化学聚合反应而不溶于显影液，但该感光树脂在空气中发生聚合反应时，会产生氧阻效应，因此并采用两次曝光方式对干膜进行曝光。在第一次曝光时，第一干膜的另一表面上还设置有保护膜740，先不去除该保护膜740，使得第一干膜表面隔绝空气，此时因为第一粘结层720已经贴附在透明衬底710上，所以也与氧气隔绝。采用根据第一轴向触控电极的形状选择的掩膜板800对第一干膜进行第一次曝光。去除设置于第一干膜表面的保护膜740。直接对第一干膜进行第二次曝光，此时，对于第一次曝光未被光照的区域，表面由于跟空气接触，由于氧阻效应使得第一干膜暴露在空气中的表面反应不完全而可以被显影液溶蚀，而表面以下的部分，由于不跟空气接触，可以发生化学聚合反应而不被显影液溶蚀。第二次曝光的能量越大，其表面以下发生化学聚合反应的区域越厚。因此，可以通过调节曝光能量，使透明导电感光树脂层730中除第一轴向触控电极以外的部分除去，同时减小图案部与背景部的高度差，避免图案不容易被辨识。

请参阅图9及图10，如图9所示，在另一实施方式中，该第一干膜包括第一粘结层920及第一导电层930。第一干膜的两相对表面分别设置有保护膜940。形成该第一干膜的透明感光树脂为正性感光树脂基质。即，光照处溶于显影液。第一干膜的一侧混有纳米导电丝线，使得干膜混有纳米导电丝线的一侧导电而形成第一导电层930，第一干膜未混有纳米导电丝线的一侧形成第一粘结层920，第一粘结层920设置于透明衬底910与第一导电层930之间。在对第一干膜进行曝光之前，还包括去除设置于第一干膜另一表面的保护膜的步骤。然后采用根据第一轴向触控电极的形状进行选择的掩膜板进行曝光。因为光照处溶于显影液，所以要保留第一轴向触控电极的图形时，应采用与第一轴向触控电极形状互补的掩膜板进行曝光。在本实施方式中，可以通过调整曝光能量调节反应深度，从而减小保留的图案部与溶于显影液的背景部的高度差，避免图案不容易被辨识。

对第一干膜进行曝光的过程中，曝光波长为300nm～400nm，曝光能量为10mJ/cm²～500mJ/cm²。对经过曝光后的第一干膜进行显影的过程中，采用采用质量分数为0.1％～10％的弱碱盐溶液进行显影。

步骤S150，固化第一干膜。具体到本实施方式中，可以采用热固化或者UV固化的方式：采用热固化方式固化时，热固化的温度为80℃～150℃，固烤时间为10min～60min。采用UV固化方式固化时，UV固化能量为200mJ/cm²～2000mJ/cm²。

步骤S160，提供第二干膜，第二干膜的两相对表面设置有保护膜。第二干膜与第一干膜的材质相同，这里不再赘述。

步骤S170，去除第二干膜的第二粘结层表面的保护膜，将第二干膜采用热压的方式贴合于第一透明导电层背向第一粘结层的表面，纳米导电丝线远离所述透明衬底。

步骤S180，对第二干膜进行图案化处理：对第二干膜曝光，并将经过曝光后的第二干膜进行显影，形成多个间隔排列并垂直于第一轴向触控电极的第二轴向触控电极。具体地，当第二干膜的透明感光树脂基质为自由基光引发体系负性感光树脂时，可以采用两次曝光方式对第二干膜进行曝光，曝光的具体步骤跟曝光第一干膜时的步骤相同，这里不再赘述。当然，在其它的实施方式中，当第二干膜的透明感光树脂基质为正性感光树脂基质时，也可以采用一次曝光的方式对第二干膜进行曝光。

步骤S190，固化第二干膜。具体到本实施方式中，可以采用热固化或者UV固化的方式：采用热固化方式固化时，热固化的温度为80℃～150℃，固烤时间为10min～60min。采用UV固化方式固化时，UV固化能量为200mJ/cm²～2000mJ/cm²。

上述触控基板的制备方法至少包括以下优点：

纳米导电丝线交错连接形成的导电网格以基质作为载体，基质为固化的透明感光树脂，直接通过曝光显影即可得到第一透明导电层及第二透明导电层，即可形成触控基板。简化了制备工艺。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (16)

1.一种触控基板，其特征在于，包括：

透明衬底；

第一粘结层，设置于所述透明衬底的表面；

第一透明导电层，设置于所述第一粘结层背向所述透明衬底的表面，所述第一透明导电层包括基质及填充于所述基质中的纳米导电丝线，所述基质为固化的透明感光树脂，所述纳米导电丝线交错形成导电网格，所述第一透明导电层经过图案化后形成多个间隔排列的第一轴向触控电极；

第二粘结层，设置于所述第一透明导电层背向所述第一粘结层的表面或者设置于所述透明衬底背向于所述第一粘结层的表面；

第二透明导电层，设置于所述第二粘结层背向所述透明衬底的表面，所述第二透明导电层包括基质及填充于所述基质中的纳米导电丝线，所述基质为固化的透明感光树脂，所述纳米导电丝线交错形成导电网格，所述第二透明导电层经过图案化后形成多个间隔排列并垂直于所述第一轴向触控电极的第二轴向触控电极。

2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述透明衬底的厚度范围为0.02mm～0.5mm。

3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述透明衬底的厚度范围为0.05mm～0.2mm。

4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一粘结层的材质与所述第一透明导电层中基质的材质相同，第二粘结层的材质与所述第二透明导电层中基质的材质相同。

5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一粘结层及第二粘结层的厚度范围为0.5μm～50μm。

6.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一透明导电层及第二透明导电层的厚度范围为10nm～1000nm。

7.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述纳米导电丝线为金纳米丝线、银纳米丝线、铜纳米丝线、铝纳米丝线或碳纳米丝线。

8.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述纳米导电丝线的直径范围为10nm～1000nm，长度范围为20nm～50μm，所述第一透明导电层及第二透明导电层的方阻为0.1Ω/□～500Ω/□。

9.根据权利要求8所述的触控基板，其特征在于，所述第一透明导电层及第二透明导电层的方阻为50Ω/□～200Ω/□。

10.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一透明导电层及第二透明导电层中的部分所述纳米导电丝线露出对应的基质背向述透明衬底的表面。

11.一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供透明衬底；

提供第一干膜，所述第一干膜的两相对表面设置有保护膜，所述第一干膜通过流体状的透明感光树脂形成，所述第一干膜的透明感光树脂为半固态，所述第一干膜嵌入纳米导电丝线的区域形成第一导电层，所述第一干膜未嵌入纳米导电丝线的区域形成第一粘结层；

去除所述第一粘结层表面的保护膜，将所述第一干膜贴合于所述透明衬底表面，并使所述第一粘结层直接贴附于所述透明衬底上，所述纳米导电丝线远离所述透明衬底；

对所述第一干膜进行图案化处理：对所述第一干膜曝光及显影，形成多个间隔排列的第一轴向触控电极；

固化所述第一干膜；

提供第二干膜，所述第二干膜的两相对表面设置有保护膜，所述第二干膜通过流体状的透明感光树脂形成，所述第二干膜的透明感光树脂为半固态，所述第二干膜嵌入纳米导电丝线的区域形成第二导电层，所述第二干膜未嵌入纳米导电丝线的区域形成第二粘结层；

去除所述第二粘结层表面的保护膜，将所述第二干膜贴合于所述第一导电层背向所述第一粘结层的表面，所述纳米导电丝线远离所述透明衬底；

对所述第二干膜进行图案化处理：对所述第二干膜曝光及显影，形成多个间隔排列并垂直于所述第一轴向触控电极的第二轴向触控电极，；

固化所述第二干膜。

12.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，对所述第一干膜和第二干膜进行曝光的过程中，曝光波长为300nm～400nm，曝光能量为10mJ/cm²～500mJ/cm²；

对经过曝光后的第一干膜和第二干膜进行显影的过程中，采用采用质量分数为0.1％～10％的弱碱盐溶液进行显影。

13.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述半固态的透明感光树脂包括成膜树脂、感光剂、溶剂、稳定剂、流平剂和消泡剂；各组分的重量含量为：60～80份成膜树脂、1～10份感光剂、5～20份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂，各组分的份数之和为100；

所述成膜树脂为聚甲基丙烯酸甲酯、线性酚醛树脂、环氧树脂、巴豆酸、丙烯酸酯、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种；

所述感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯、芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种；

所述溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯、甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种；

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种；

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种；

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅的至少一种。

14.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述透明感光树脂为正性感光树脂基质，对所述第一干膜或第二干膜进行曝光前还包括去除另一保护膜的步骤，曝光过程中采用的掩膜板根据第一轴向触控电极或第二轴向触控电极的形状进行选择。

15.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述透明感光树脂为自由基光引发体系负性感光树脂，并采用两次曝光方式对所述第一干膜和/或第二干膜进行曝光：采用根据所述第一轴向触控电极或第二轴向触控电极的形状选择的掩膜板进行第一次曝光，去除另一保护膜，直接对所述第一干膜或第二干膜进行第二次曝光。

16.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，固化所述第一干膜和第二干膜的过程中，采用热固化或UV固化：

采用热固化方式固化时，热固化温度为80℃～150℃，固烤时间为10min～60min；

采用UV固化方式固化时，UV固化能量为200mJ/cm²～2000mJ/cm²。