CN104014466A - 高吸水率抛光砖的防色差工艺 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种高吸水率抛光砖的防色差工艺，包含如下步骤：1)在抛光砖表面涂布防污液A，使抛光砖表面形成均一的玻璃膜；2)在玻璃膜表面涂布防污液B，使玻璃膜的气路完全封闭；所述防污液A为纳米级硅氧化合物和/或硅锂化合物形成的凝胶，防污液A的固含量为13％-18％；所述防污液B包括含氢硅油及一种与含氢硅油发生聚合的改性硅油，防污液B的用量不超过抛光砖砖面对防污液B的最大吸收量。利用本发明制得的抛光砖没有色差，防污效果好。

Description

高吸水率抛光砖的防色差工艺

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种高吸水率抛光砖的防色差工艺。

背景技术

抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮、半光亮的砖(有亚光、半光、全光等)，属通体砖的一种。相对通体砖而言，抛光砖表面坚硬、光洁、耐磨，在户内、户外得到广泛使用。

在抛光砖的制备过程中，当砖体被抛光后其表层布满毛细孔，这些毛细孔容易填充、吸附其他固体颗粒、液体、胶体等，从而造成污染。为提高抛光砖的抗污性能，砖体面层还需涂覆防污液。目前，常见的防污液主要有水乳型和溶剂型两种。其中，水乳型防污液主要利用物理填充原理，将含氢硅油乳化后填充的抛光砖面层的孔洞内。由于是单纯的物理填充，存在表面能高，渗透力差的缺点，一般不能单独使用。溶剂型防污液主要利用化学反应填充原理，溶剂挥发后，各溶质间反应产生的固化物填充在抛光砖面层的孔洞内。由于溶剂型防污液采用石脑油作为溶剂，不仅成本相对较高，而且大都易挥发、有毒(低毒)、易造成职业病，易燃易爆，生产使用环境要求进行防爆、防毒操作。现有安全法规已限制、禁止使用。

常见的防污液涂布方式主要有单一防污液涂布和复合防污液涂布。单一防污液涂布是指在砖体表面涂布一种防污液即可，通常采用溶剂型防污液。复合防污液涂布是指先在砖体表面填充形成玻璃体，然后在玻璃体上涂布防污液填充气路并降低表面能。然而，由于砖面层不同区域的吸水率存在差异，导致不同区域对防污液的吸收量不同，进而出现对光的吸收、反射、折射不同，在抛光砖还没有出厂时就出现色差，用户不接受有色差的产品。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的一个目的在于提供一种没有色差、防污效果好的抛光砖制造工艺。

为达到以上目的，本发明采用如下技术方案。

一种高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，它包含如下步骤：

1)在抛光砖表面涂布防污液A，使抛光砖表面形成均一的玻璃膜；

2)在玻璃膜表面涂布防污液B，使玻璃膜的气路完全封闭，并降低表面能；

所述防污液A为纳米级硅氧化合物和/或硅铝化合物形成的凝胶，防污液A的固含量为13％-18％；

所述防污液B包括两种有机硅油，防污液B的用量不超过抛光砖砖面对防污液B的最大吸收量。

作为上述方案的一种改进，两种有机硅油分别为含氢硅油和改性硅油。

作为上述方案的一种改进，所述改性硅油为烷基改性硅油，聚醚改性硅油，环氧改性硅油，氨基改性硅油，羟基改性硅油中的一种。

作为上述方案的一种改进，所述防污液B的用量为抛光砖砖面对防污液B最大吸收量的85％-98％。

作为上述方案的一种改进，防污液A和防污液B的涂布通过多组连续排布的加压磨盘来实现，实际涂布时，在不同的加压磨盘上分别滴入防污液A或防污液B。

作为上述方案的一种改进，所述加压磨盘的工作压力为0-3公斤力/平方厘米，每块抛光砖经过加压磨盘的数量为3-40组。

作为上述方案的一种改进，每组加压磨盘上滴加防污液A的量不超过3ml。

作为上述方案的一种改进，在倒数第二组加压磨盘上滴入0-0.5ml的防污液B，在最后一个加压磨盘上滴入2-6ml的防污液B，并用磨盘去除过量的防污液B。

作为上述方案的一种改进，每组加压磨盘由多个小磨盘构成，多个小磨盘安装在同一大转盘上；所述大转盘由大电机驱动，转速为60-200rpm；各小磨盘由相应的小电机驱动，转速为600-2800rpm。

作为上述方案的一种改进，各小磨盘的抛磨面由羊毛毡，或PA、PE、PU薄片构成。

本发明提供的高吸水率抛光砖的防色差工艺具有以下有益效果：

一、通过增加防污液A的浓度由现有技术的7-12％提高到13-18％，使A液反应速度加快，提高涂布效率，涂布防污液A后不产生色差。

二、由于防污液的添加量不超过抛光砖对防污液的最大吸收量，使得抛光砖面上吸液量大的地方也没有太多的防污液可吸附，这样，抛光砖砖面各区域的吸液量差异很少，减少了色差的出现。

三、由于防污液B的主要成分为含氢硅油和改性硅油，非水溶性，非溶剂型，使得防污液B的填充受抛光砖本身吸水率的影响小，有效避免不同区域对防污液吸收量不同所带来的色差。另外，在抛光砖加工过程中，刚涂布好防污液的抛光砖需要经过一段时间干燥后才能竖放保存，否则抛光砖在放置时，其上下侧出现防污液迁移，进而出现色差；但采用本发明提供的非水性，非溶剂型防污液完全没有这个顾虑，加工效率高。

四、采用多组加压磨盘，并将每组加压磨盘设为多个小磨盘，极大的提高了防污液涂布效率和涂布均匀性。

附图说明

图1所示为本发明提供的防色差工艺涂布线示意图；

图2为图1的局部剖视图。

附图标记说明：

1、加压磨盘，2、砖体，3、传送装置；

11、小磨盘，12、大转盘，13、大电机，14、小电机。

具体实施方式

为方便本领域普通技术人员更好地理解本发明的实质，下面对本发明的具体实施方式进行详细阐述。

实施例一

一种高吸水率抛光砖的防色差工艺，它包含如下步骤：1)在抛光砖表面涂布防污液A，摩擦后使抛光砖表面形成均一的玻璃膜；2)在玻璃膜表面涂布防污液B，使玻璃膜的气路完全封闭，并降低表面能。

其中，所述防污液A为纳米级硅氧化合物形成的凝胶，防污液A的固含量为18％。所述防污液B为含氢硅油和羟基改性硅油的混合物，防污液B的用量不超过抛光砖砖面对防污液B的最大吸收量。在其他实施方式中，所述羟基改性硅油用烷基改性硅油，聚醚改性硅油，环氧改性硅油替代，不限于本实施例。

如图1、图2所示，实际涂布时，防污液A和防污液B是通过多组连续排布的加压磨盘1来实现均匀涂布。具体实现方法为：将20组加压磨盘1组装成一条防污液涂布线，抛光后待涂布的砖体2在传送装置3的带动下依次通过上述20组加压磨盘1即可。本实施例中，前面18组加压磨盘用来涂布防污液A，每个加压磨盘上防污液A的添加量为3ml，后面两组加压磨盘用来涂布防污液B，其中，倒数第二组加压磨盘上防污液B的滴加量为0.5ml，最后一组加压磨盘上防污液B的滴加量为5ml。在这里，最后一组加压磨盘上防污液B的添加量以砖面对防污液B最大吸收量的95％为准，根据抛光砖类型的不同，略有差异，不限于本实施例。

为提高防污液A、防污液B涂布的均匀性，每组加压磨盘1由六个小磨盘11构成，六个小磨盘11安装在同一大转盘12上；所述大转盘由大电机13驱动，各小磨盘11由相应的小电机14驱动，各小磨盘11的抛磨面由羊毛毡构成。小磨盘的数量根据实际需要可做适当调整，比如改为三个、四个、五个、七个、甚至更多；小磨盘采用PU、PA、PE塑料制成，不限于本实施例。

为保证防污的涂布效率，优选加压磨盘的工作压力为3公斤力/平方厘米，加压磨盘的工作温度为35℃。在其他实施方式中，根据涂布线上加压磨盘数量的不同，工作温度可在35℃-40℃之间进行适当调整，工作压力在0-3公斤力/平方厘米之间进行调整，必须保证抛磨后的砖面温度不大于60℃，以免出现变色。

与现有技术相比，本实施例提供的防色差工艺主要做了以下几方面的改进：

1.将防污液A的固含量从现有技术的7-12％提高到18％，提高防污液A固含量的好处是加快防污液A的涂布效率，以保证涂布后防污液A形成的玻璃膜本身不出现色差。

2.采用两种有机硅油的混合物充当防污液B，非水乳型，也非溶剂型，克服了水乳型防污液、溶剂型防污液存在的固有缺陷。同时，采用带羊毛毡的加压磨盘抛磨，利用加压磨盘的剪切力使防污液B填充在玻璃体的气路内，受玻璃体本身吸水性的影响小，涂布均匀。

3.将防污液B的涂布量控制在抛光砖砖面对防污液B的最大吸收量以内，这样不会因防污液涂布过多所带来的吸附能力强的区域防污液多吸附能力弱的区域防污液少的问题，保证涂布的均匀性，进而有效控制色差出现。

实施例二

一种高吸水率抛光砖的防色差工艺，它包含如下步骤：1)在抛光砖表面涂布防污液A，摩擦后使抛光砖表面形成均一的玻璃膜；2)在玻璃膜表面涂布防污液B，使玻璃膜的气路完全封闭，并降低表面能。

其中，所述防污液A为纳米级硅锂化合物形成的凝胶，防污液A的固含量为13％。所述防污液B为含氢硅油和环氧改性硅油的混合物，防污液B的用量为抛光砖砖面对防污液B最大吸收量的85％。

具体涂布时：将40组加压磨盘组装成一条防污液涂布线，抛光后待涂布的砖体在传送装置的带动下依次通过上述40组加压磨盘即可。本实施例中，前面组加压磨盘用来涂布防污液A，每个加压磨盘上防污液A的添加量为1ml，后面两组加压磨盘用来涂布防污液B，其中，倒数第二组加压磨盘上防污液B的滴加量为0.5ml，最后一组加压磨盘上防污液B的滴加量为3ml。本实施例中，加压磨盘的工作参数为：工作压力，公斤力/平方厘米，工作温度25℃；最后一组加压磨盘上防污液B的添加量以砖面对防污液B最大吸收量的85％为准，根据抛光砖类型的不同，略有差异，不限于本实施例。

以上具体实施方式对本发明的实质进行了详细说明，但并不能以此来对本发明的保护范围进行限制。显而易见地，在本发明实质的启示下，本技术领域普通技术人员还可进行许多改进和修饰，需要注意的是，这些改进和修饰都落在本发明的权利要求保护范围之内。

Claims (10)

1.高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，它包含如下步骤：

1)在抛光砖表面涂布防污液A，使抛光砖表面形成均一的玻璃膜；

2)在玻璃膜表面涂布防污液B，使玻璃膜的气路完全封闭；

所述防污液A为纳米级硅氧化合物和/或硅铝化合物形成的凝胶，防污液A的固含量为13％-18％；

所述防污液B包括两种有机硅油，防污液B的用量不超过抛光砖砖面对防污液B的最大吸收量。

2.根据权利要求1所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，两种有机硅油分别为含氢硅油和改性硅油。

3.根据权利要求2所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，所述改性硅油为烷基改性硅油，聚醚改性硅油，环氧改性硅油，氨基改性硅油，羟基改性硅油中的一种。

4.根据权利要求1所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，所述防污液B的用量为抛光砖砖面对防污液B最大吸收量的85％-98％。

5.根据权利要求1所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，防污液A和防污液B的涂布通过多组连续排布的加压磨盘来实现，实际涂布时，在不同的加压磨盘上分别滴入防污液A或防污液B。

6.根据权利要求5所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，所述加压磨盘的工作压力为0-3公斤力/平方厘米，每块抛光砖经过加压磨盘的数量为3-40组。

7.根据权利要求5所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，每组加压磨盘上滴加防污液A的量不超过3ml。

8.根据权利要求5所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，在倒数第二组加压磨盘上滴入0-0.5ml的防污液B，经对色、分色工序后，在最后一组加压磨盘上滴入2-6ml的防污液B，并用磨盘去除过量的防污液B。

9.根据权利要求5所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，每组加压磨盘由多个小磨盘构成，多个小磨盘安装在同一大转盘上；所述大转盘由大电机驱动，转速为60-200rpm；各小磨盘由相应的小电机驱动，转速为600-2800rpm。

10.根据权利要求9所述的高吸水率抛光砖的防色差工艺，其特征在于，各小磨盘的抛磨面由羊毛毡，或PA、PE、PU薄片构成。