CN103930590A - 用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件 - Google Patents

用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个将所述光学涂层液体合成物引入到其内的坩埚；其中所述支持件(30)进一步包括一个形成封套的框架(36，37)，所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内；所述框架(36，37)具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物，并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件(30)构成光学涂层液体合成物的一个匣。

Description

用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件
技术领域
本发明涉及用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件。
背景技术
众所周知的是镜片(并且具体地眼镜片)包括具有多个适应于佩戴者的几何特征的一个眼镜基片。
该眼镜基片需要添加多个涂层，例如，增加镜片的耐磨性的耐磨涂层、减少光反射的防反射涂层以及应用在防反射涂层上的防污涂层。
这样的涂层是由液体合成物制成的，这些液体合成物必须被沉积在眼镜基片上。
经常用于将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的方法是蒸发处理。这可以在真空下实施。
在蒸发处理过程中，一个包括由多孔构件形成的、吸收有预先确定体积的光学涂层液体合成物的坩埚(或药丸)的支持件被引入到一个蒸发处理机器内并且被一个蒸发装置加热直至液体蒸发并因此沉积在光学物品上。
在一个变体中，该坩埚并非形成为一种吸收有光学涂层液体合成物的多孔构件，而是形成为一个光学涂层液体合成物被注入其中的容器；并且该容器是被引入到该蒸发处理机器内并且被该蒸发装置加热直到该液体蒸发并因此沉积在该光学物品上。
两种类型的坩埚都需要蒸发处理机器的使用者抓握坩埚。因此，需要使用者戴上手套，因为光学涂层液体合成物通常包括有害溶剂。
光学涂层液体合成物的溶剂通常还是挥发性的。因此，使用者必须处于通风环境下。
本发明是针对一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件操控安全、简单、紧凑且经济。
发明内容
本发明相应地提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个坩埚和被引入到所述坩埚内的一种光学涂层液体合成物；其中所述支持件进一步包括一个形成了封套的框架，所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内；所述框架具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物，并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件构成光学涂层液体合成物的一个匣。
换言之，根据本发明的支持件是用于光学涂层液体合成物的封装单元，该单元由一个可轻易运输和存储的匣形成，易于搬运且比上述已知的坩埚更安全。
此匣可以轻易地插入任何处理过程而没有其所包括的光学涂层液体合成物变质的风险。
的确，在所述支持件中包括的光学涂层液体合成物沉积之前需要预处理步骤的已知过程中，坩埚通常是单独插入处理机器的处理室内的，该机器包括在等待光学涂层液体合成物的蒸发步骤时使坩埚隔离(为了保护它)的一个系统。
得益于本发明，因为消除了这种插入处理机器内的隔离系统并且相应地消除了这种隔离过程，所以可以简化处理过程和处理机器两者。
根据由于非常简单、方便且经济地实施根据本发明的支持件而优选的特征：
-该框架包括一个断开构件，该断开构件被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时部分地断开；
-该框架包括一个传导构件，该传导构件被配置成用于在蒸发处理之前和蒸发处理过程中将热量传递给至所述光学涂层液体合成物；
-所述断开构件具有一个第一厚度，并且所述传导构件具有一个第二厚度，并且所述第一厚度小于所述第二厚度；
-所述断开构件包括被配置成用于弱化所述断开构件的至少一个肋；
-该框架包括独特且联接在一起的一个断开构件和一个传导构件；
-所述断开构件和所述传导构件是金属的；
-所述传导构件具有的周界比所述断开构件的周界更长，从而使得所述传导构件以其周界压皱联接在所述断开构件的所述周界上；
-该支持件进一步包括一个挡板构件，该挡板构件安装在所述框架上并且包括至少一个开口；
-所述挡板构件包括一个其中制作有多个有规律地间隔开的圆形开口的部分；
-所述挡板构件包括面向所述框架并且安排在距离所述框架一个预先确定的距离处的一个部分；
-所述挡板构件具有的周界比所述框架的周界更长，从而使得所述挡板构件以其周界压皱联接在所述框架的所述周界上；
-所述挡板构件包括一个顶部部分、一个连接到所述顶板部分上的侧向部分、以及至少部分地制作在所述侧向部分中的至少一个凹陷；
-所述坩埚包括一个吸收有所述光学涂层液体合成物的多孔构件；和/或
-所述坩埚包括一个其中倾注有所述光学涂层液体合成物的容器。
本发明相应地提供了一种装置，该装置包括一个具有至少一个接收元件的封装构件，如上所述的至少一个支持件以及一个干燥过滤器被引入所述至少一个接收元件中。
该接收元件具有一个用于接收该支持件的凹陷。
该封装构件可以包括一个由铝制成的或由塑料制成的接收元件和一个由铝制成的用于盖住该接收元件的凹陷的盖板元件。因此，该封装装置形成一个泡罩。
该封装构件可以是一个带有盖板的盒子而不是泡罩，可以将一个干燥过滤器引入而盒装于其中。
附图说明
现在将通过下文以非限制性实例并且参照附图给出的一个优选实施例的详细说明来继续阐述本发明。在这些附图中：
-图1为用于通过蒸发处理来以光学涂层液体合成物对光学物品进行涂层的机器的示意图；
-图2和图3为该机器的部分示意图，示出了该机器的真空室，其中，该真空室的门分别是敞开的和关闭的，并且示出了一个安装在该门上的用于光学涂层液体合成物的支持件；
-图4为图2和图3中所示的支持件的透视图；
-图5和图6对应地是图4中所示的支持件的截面组装透视图和分解透视图；
-图7至图10示出了图4至图6中所示的支持件的组装步骤；并且
-图11至图16对应地是与图5至图10相似的多个视图，示出了该支持件的一个变体。
具体实施方式
图1示出了用于对在此由安装在眼镜架上的眼镜片形成的光学物品28进行重新涂层的一种重涂层处理机器1。
防污涂层34(见图5和图8)提供了与防反射涂层相比对例如有机杂质的污染的更强抵抗力并且更容易清洁的外涂层。因此，防污涂层保护防反射涂层，但随着推移可能变坏。镜片的佩戴者因此可以希望替换这种防污涂层。另外，佩戴者可能购买了不存在防污涂层的经典眼镜片，并且然后会想要获得这种涂层。
机器1包括一个真空室8、任选的一个等离子体发生器11、一个蒸发装置10、一个入口回路12、一个出口回路15、一个真空泵20以及一个控制单元2。
真空室8包括一个内部空间31，该内部空间被配置成用于接收这些安装在眼镜架上的眼镜片28。
真空室8进一步包括一个可移除的门9(见以下图2和图3的描述)。
等离子体发生器11直接连接到真空室8上。
蒸发装置10放置在真空室8中(即，安装在真空室8的门9上)(见下文)。
真空室8进一步包括一个第一入口端口14和一个第二入口端口90，两者都连接到入口回路12上。
该机器进一步包括一个安装在所述入口回路12上的气体入口阀13和一个同样安装在所述入口回路12上的、与入口阀13平行的入口阀33。
真空室8进一步包括一个连接到出口回路15上的出口端口16。
真空泵20经由真空泵20的进入端口21并且经由所述真空泵20的离开端口22而连接到出口回路15上，从而使得出口回路15经过真空泵20。
机器1进一步包括一个通过分支点18连接到出口回路15上的压力传感器17。
机器1进一步包括一个真空阀19，该真空阀在分支点18与真空泵20的进入端口21之间安装在出口回路15上。
机器1进一步包括在此由气体过滤器形成的一个过滤装置23。
所述过滤装置23经由进口端口24并且经由所述过滤装置23的排放端口25连接到出口回路15上。
排放端口25与大气连接。
所述过滤装置23因此是安装在出口回路15的末端处，在真空泵20之后。
控制单元2包括一个数据处理系统，该数据处理系统包括一个微处理器3，该微处理器具有具体地非易失性存储器4从而允许在其中加载和存储软件应用程序(换言之，计算机程序)，并且这允许了当在该微处理器3中执行该软件应用程序时可以实施对眼镜片28进行涂层的方法。
所述非易失性存储器例如为只读存储器。
该数据处理系统进一步包括一个例如易失性存储器5，从而允许在软件的执行和该方法的实施过程中存储数据。
所述易失性存储器5为例如一个随机存取存储器或电可擦除可编程只读存储器。
控制单元2进一步包括一个通信界面，该通信界面被配置成用于与该数据处理系统进行通信。
在此，所述通信界面是由图形化界面6和键盘7形成。
控制单元2被配置成用于控制气体入口阀13、蒸发装置10、等离子体发生器11、压力传感器17、真空阀19以及真空泵20并且与它们交换数据。
图2和图3详细示出了真空室8及其对应地处于敞开和关闭状态下的可移除门9。
真空室8包括一个位移构件26，该位移构件被配置成用于在门的敞开与关闭状态之间使得门9滑动。
机器1进一步包括安装在门9的内面上一个第一握持器29。
所述第一握持器29被配置成用于接收填充有预定体积的防污涂层液体合成物的支持单元30(也被称为匣)。
以下将关于图4至图10详细阐述这种支持单元30。
该第一握持器29形成蒸发装置10的一部分。
在此，蒸发装置10由安装在门9的内面上的加热模块32形成，该加热模块既连接到该第一握持器29又与一个电源(未示出)相连以便通过支持单元30并且通过该第一握持器29来对防污涂层合成物34(见图5和图8)进行加热。
机器1进一步包括同样安装在门9的内面上的一个第二握持器27。
所述第二握持器27被配置成用于接收安装在眼镜架上的这些眼镜片28。
门9的敞开状态使之有可能将包括一个至少部分地吸收有防污涂层合成物34(见图5和图8)的坩埚35支持单元30装载在该第一握持器29(见以下图4至图10的描述)上，并将眼镜片28与眼镜架一起装载在该第二握持器27上。
当支持单元30和眼镜片28被接收在其对应的握持器29、27上时，如图3中所示，可以将门9从其敞开状态移动至其封闭状态。
在门9的这一封闭状态下，眼镜片28与眼镜架以及包括防污涂层合成物34(见图5和图8)的支持单元30一起位于真空室8中。
机器1被方便地配置成提供给可以在眼镜片28的佩戴者来到眼镜商的商店时使用所述机器1的眼镜商。
眼镜片28通常包括一个其上有涂层的眼镜片基片，例如，首先是防反射涂层并且其次是初始防污涂层。
如果初始防污涂层的效果变坏，则眼镜商可以在眼镜片28上重新涂上一层新的防污涂层。
以下将描述使用机器1来给眼镜片28重新涂上防污涂层合成物34(见图5和图8)的方法，该防污涂层合成物包括在支持单元30内。
现在将关于图4至图6详细阐述支持单元30。
支持件30包括一个传导构件36(也被称为底座)、一个坩埚35、一个断开构件37(也被称为盖板)、以及一个挡板构件38(也被称为顶板)。
坩埚35包括一个多孔构件40，该多孔构件被配置成用于至少部分地吸收防污涂层合成物34。
当坩埚35吸收有这种溶液34时，坩埚35具有一个吸收有此溶液34的下部41(也被称为第一部分)和一个未吸收此溶液的上部42(也被称为第二部分)。
多孔构件40具有一种圆柱形状、一个预先确定的直径和一个预先确定的高度。
传导构件36具有一个相对平坦的底部部分43和一个连接到底部部分43上的管状侧向部分44。
传导构件36由金属或表现出高水平热传导性的材料制成，例如，像铜。
传导构件36具有一个内部空间45，该内部空间由底部部分43和管状侧向部分44界定。
传导构件36在管状侧向部分44与底部部分43相反的末端处进一步包括一个开口46。
底部部分43和管状侧向部分44各自具有均匀的厚度，但该底部部分和管状侧向部分可以具有不同的厚度。
管状侧向部分44具有预先确定的厚度。
管状侧向部分44具有一个限定了传导构件36的内直径的内侧周界47、和一个限定了传导构件36的外直径的外侧周界48。
传导构件36的内直径大于坩埚35的直径。
断开构件37包括一个盖板部分49和一个连接到盖板部分49上的圆柱形侧向部分50。
断开构件37由可以例如选自钼或铝的金属制成。
断开构件37具有一个内部空间51，该内部空间由盖板部分49和圆柱形侧向部分50界定。
断开构件37在圆柱形侧向部分50的与盖板部分49相反的末端处进一步包括一个开口52。
盖板部分49和圆柱形侧向部分50各自具有均匀的厚度，但它们可以具有不同的厚度。
圆柱形侧向部分50具有一个限定断开构件37的内直径的内侧周界53和一个限定断开构件37的外直径进行限定的外侧周界54。
断开构件37的内直径53比坩埚35的直径稍大，并且断开构件37的外直径54比传导构件36的内直径47略小。
盖板部分49具有在盖板部分49上对角地延伸的、并且相互垂直的两个纵向肋61，这些肋61被配置成用于弱化断开构件37的盖板部分49。
得益于这些肋61，盖板部分49被配置成用于断开。
挡板构件38包括一个顶板部分55和一个连接到顶板部分55上圆柱形侧向部分56。
顶板部分55和圆柱形侧向部分56各自具有与断开构件37的厚度相似或不同的均匀厚度。
挡板构件38由塑料材料制成。
挡板构件38具有一个内部空间57，该内部空间由顶板部分55和圆柱形侧向部分56界定。
挡板构件38在圆柱形侧向部分56的与顶板部分55相反的末端处进一步包括一个开口58。
挡板构件38在圆柱形侧向部分56中进一步包括多个凹陷59，在此为四个凹陷59。
这些凹陷59各自从顶板部分55与圆柱形侧向部分56之间的连接处延伸过圆柱形侧向部分56的大约一半高度而达到后者的约中间高度。
挡板构件38具有限定挡板构件38的一个第一内直径和一个第二内直径(由于这些凹陷59)的一个内侧周界62和限定挡板构件38的一个第一外直径和一个第二外直径(由于这些凹陷59)的一个外侧周界53。
该第一内直径大于该第二内直径，并且该第一外直径也大于该第二外直径。
挡板构件38的第一和第二内直径两者都大于断开构件38的外直径(并且因此大于坩埚35的直径)。
挡板构件38的第一内直径稍微大于传导构件36的外直径，而挡板构件38的第二内直径和第二外直径小于传导构件36的外直径，但它们大于传导构件36的内直径。
圆柱形侧向部分56内的这些凹陷59在挡板构件38的内部空间57内提供多个肩部64。
这些肩部64形成在挡板构件38的内侧周界上，位于该第一和第二内直径之间的连接处。
挡板构件38进一步包括设置在顶板部分55中的多个圆形开口60。
在此，顶板部分55上具有有规律地间隔开的八个开口60。
在此，传导构件36、断开构件37、以及挡板构件38全都通过冲压制成。
现在我们将关于图7至图10详细阐述支持单元30的组装过程。
将坩埚35(具体地，这种多孔构件40)部分地插入到断开构件37的内部空间51中。
因此，断开构件37的内侧周界53与多孔构件40形成接触。
此多孔构件40的高度比断开构件37的高度更大，从而使得多孔构件40也与盖板部分49的内表面形成接触。
因此，断开构件37的内部空间51被坩埚35填满，并且该坩埚从此内部空间51伸出。
下一步，将防污涂层液体合成物34倾注在多孔构件40上，并且使得该多孔构件部分地吸收有其溶液34。
图8示出了正在倾注的液体溶液34，并且图9示出了吸收后的多孔构件40(不再倾注涂层合成物34)。
坩埚35的下部41对应于多孔构件40的吸收后的部分，并且坩埚35的上部42对应于多孔构件40的没有吸收的部分。
下部41的高度大于上部42的高度，但下部41具有的高度小于断开构件37的圆柱形侧向部分50的高度。
将坩埚35连接到断开构件37上。
例如，断开构件37以其内侧周界53压接到多孔构件40的外围上。
接下来，将传导构件36安装在这第一个包括有断开构件37和吸收有液体合成物34的坩埚35的模块上。
将传导构件36安装在此第一模块上从而使得底部部分43与多孔构件40的上部42相接触。
换言之，传导构件36的底部部分43并不与断开构件37的盖板部分49(直接)接触。
传导构件36的管状侧向部分44的一部分是部分地覆盖断开构件37的圆柱形侧向部分50的。
因此，传导构件36的管状侧向部分44的内侧周界47与断开构件37的圆柱形侧向部分50的外侧周界54相接触。
传导构件36的内部空间45几乎被多孔构件40的上部42、多孔构件40的下部41的一部分以及断开构件37的圆柱形侧向部分50的一部分完全填满。
将传导构件36联接到断开构件37上。
传导构件36是以其内侧周界47压皱联接在断开构件37的圆柱形侧向部分50的外侧周界54上。
第一模块与传导构件36相关联而提供了一个第二模块。
传导构件36和断开构件37提供了支持单元30的框架，此框架形成一个用于坩埚35的封套。
然后将此第二模块部分地插入到挡板构件38的内部空间57内。
此第二模块被插入到此内部空间57内直至传导构件36的管状侧向部分44的自由端与挡板构件38的这些肩部64形成接触。
此第二模块被插入到此内部空间57从而使得断开构件37的盖板部分49面向挡板构件38的顶板部分55，但不与所述顶板部分55相接触。
因此，传导构件36的底部部分43是远离挡板构件38的顶板部分55的。
因而，断开构件37的盖板部分49是插在挡板构件38的顶板部分55与传导构件36的底部部分43之间的。
更概括地讲，断开构件37是插在传导构件36与挡板构件38之间的；并且坩埚35是插在传导构件36(坩埚35与其相接触)与断开构件37(坩埚35也与其相接触)之间的，并且因此坩埚35是插在传导构件36与挡板构件38之间的。
与挡板构件38的肩部64形成的这种顶靠防止了盖板部分49与顶板部分55形成接触，并且因此在顶板部分55与盖板部分49之间保持了一个预先确定的距离d。这意味着顶板部分55与盖板部分49之间的这个距离d必须足以让断开构件37恰当地打开，因此，此距离d优选地在约1mm至约2mm之间。
将挡板构件38联接到该第二模块上。
挡板构件38是以其内侧周界62压皱联接在传导构件36的外侧周界48上的。
该预先确定的距离d允许断开构件37断开。
换言之，具有多个肋61的盖板部分49可以断开，并且此盖板部分49的多个部分可以朝向挡板构件38的顶板部分55移动。
与挡板构件38相关联的第二模块形成了一个匣30(也被称为支持单元30)，该匣为一次性的、可轻易运输和存储的、容易搬运并且比上述已知的坩埚更安全的。
吸收有防污液体合成物34的坩埚35被包裹且气密地密封在传导构件36与断开构件37之间。
我们现在将对使用机器1来给眼镜片28重新涂上防污涂层合成物34的方法进行详细阐述。
首先，眼镜商取得眼镜片28(选择光学物品的步骤)并选择对于重新涂层适合的防污液体合成物34。
眼镜商打开真空室8的门9并将眼镜片28与支持单元30(或匣)对应地装载在该第二握持器27上和该第一握持器29上。
支持单元30被搁置在该第一握持器29上从而使得传导构件36的底部部分43与该第一支持件29相接触。
因此，支持单元30是如图5中所示地搁置在第一支持件29上的，传导构件36在下而挡板构件38在上。
支持单元30之前已经填充有预先确定体积的新的防污涂层合成物34。
因为当眼镜商抓握支持单元30时仅会触摸传导构件和挡板构件元件，所以眼镜商不需要戴手套来操控支持单元30。
眼镜商关闭真空室8的门9。
然后，眼镜商通过键盘7和图形化界面6来使得对眼镜片28进行重新涂层的处理程序开始运行。
然后，控制单元2接管了该重新涂层处理。
这些气体入口阀13和33被关闭。
真空泵20被启动并且真空阀19被打开以便将真空泵20连接(流连接)到真空室8上以用于通过出口回路15来排空真空室8的内部空间31。于是真空泵20能够从真空室8吸出气体。
真空阀19被打开一段预先确定的时间(例如，约20秒)直到真空室压力达到蒸发所需的压力，例如，约50mbar。
控制单元2被配置成通过用压力传感器17进行测量来控制真空室8内的压力。
然后真空阀19被关闭以便将真空泵20与真空室8断开连接(流连接)。于是真空泵20不能够从真空室8吸出气体。
然后以预先确定的电流使得蒸发装置11的加热模块32工作一段预先确定的时间以便使加热模块32达到预先确定的温度。
该预先确定的时间为约30到50秒，并且该预先确定的温度为约350℃。加热时间和温度取决于所使用的蒸发压力和前体。
加热模块32的热量被至少部分地通过传导构件36的底部部分43传递给支持单元30，该传导构件传导该热量并将其传递给吸收在该坩埚的多孔构件40内的防污涂层合成物34。
在此，传导构件36是由铂和青铜的混合物制成。
当加热模块32变暖时，热量被传递给传导构件36的底部部分43，该传导构件将热量传导给传导构件36的管状侧向部分44，并且该管状侧向部分将该热量传递给多孔构件40，并且因此防污液体合成物34被加热并且变暖。
防污液体合成物34变暖直到其在断开构件37和传导构件36的对应的内部空间51和45内蒸发。
支持单元30的热量和防污液体合成物34的蒸发使这些内部空间51和45内的内部压力P升高。
当内部压力P大于预先确定的阈值Pth时，断开构件37的盖板部分49在肋61处断开。
盖板部分49分成彼此分离的四个部分。盖板部分49的这些部分在由断开构件37的盖板部分49与挡板构件38的顶板部分55界定的挡板构件38的内部空间57内散布开。换言之，这些盖板部分49的部分可以延伸跨过该预先确定的距离d。
因此，防污液体合成物34的蒸气颗粒从断开构件37与传导构件36对应的内部空间51和45中逃逸，并且更概括地由于这些蒸气颗粒通过挡板构件38的顶板部分55中设置的圆形开口60而从支持单元30逃逸出。
当断开构件37由于内部压力P而断开，盖板部分49的这四个部分的碎片可以从断开构件37弹出，但顶板部分55和圆柱形侧向部分56的一部分通过形成一个屏障而防止了这些碎片离开由顶板部分55和盖板部分49界定的内部空间45的部分。
接下来，停止加热步骤，而蒸发处理继续持续一段预先确定的时间，例如，60到180秒。
在蒸发处理过程中，防污涂层组合物34因而在真空室8内蒸发，并且蒸气沉积在眼镜片28上。
接下来，打开真空阀19以便重新将真空泵20连接到真空室8上(一种流连接)以用于排空所述真空室8，并且具体地用于排空在真空蒸发处理过程中放出的气体，因为这种气体可能有毒。于是真空泵20能够从真空室8吸出气体。
然后关闭真空阀19，从而使得真空泵20从真空室8上断开连接(流中断)。于是真空泵20不能够从真空室8吸出气体。
实施一个通气步骤以使该室压力与大气压力相等。
气体入口阀33被打开一段预先确定的时间(例如，60秒)，以便对真空室8通气，并且然后关闭气体入口阀13。
眼镜商打开真空室8的门9。
防污涂层组合物34已经耗尽。
眼镜商取下支持单元30还以及重新涂上了新的防污涂层的眼镜片28。
因为挡板构件38盖住了由这些肋61产生的盖板部分49的多个部分的锋利边缘并且还盖住了断开构件37的盖板部分49的碎片，所以当眼镜商取下支持单元30时，没有进一步的风险。
支持单元30为一次性产品并且因此被废弃。
图10至图15展示了该支持单元的一个变体实施例并且该实施例与图4至图10的视图相似。
总体上，我们对相似的部分使用了相同的参考数字，但增加了100。
图11至图15中所示的支持单元130与图4至图10中所示的支持单元30几乎完全相同，并且这一支持单元130的组装方法也几乎完全相同，除了支持单元130的坩埚135与支持单元30的坩埚35不同以外。
支持单元130包括一个传导构件136、一个坩埚135、一个断开构件137、以及一个挡板构件138。
在此，坩埚135(图11、12、14以及图15)是由一个非多孔的环形构件170和由其内插有环形构件170的断开构件137形成的(见下文)。这种组装形成该第一模块，该第一模块形成一个其中注有防污涂层溶液134的容器。
环形构件170具有一个预先确定的直径和一个预先确定的高度以及一个内部空间171。
当坩埚135部分地填充有溶液134时，坩埚135具有：一个下部172(也被称为第一部分)，该部分包含溶液134；以及一个上部173(也被称为第二部分)，该部分不包含溶液134。
传导构件136与传导构件36完全相同。
因此，传导构件136是由金属制成并且具有一个底部部分143、一个连接到该底部部分143上的管状侧向部分144、一个由底部部分143和管状侧向部分144界定的内部空间145、以及一个位于管状侧向部分144的末端处的开口146。管状侧向部分144具有对应地限定了传导构件136的内直径和外直径的一个内侧周界147和一个外侧周界148；并且传导构件136的内直径大于环形构件170的直径。
断开构件137是由金属制成并且包括一个盖板部分149、一个连接到该盖板部分149上的圆柱形侧向部分150、一个由盖板部分149和圆柱形侧向部分150界定的内部空间151、以及一个位于圆柱形侧向部分150的末端处的开口152。圆柱形侧向部分150具有对应地限定了断开构件137的内直径和外直径的一个内侧周界153和一个外侧周界径154；并且断开构件137的内直径153稍微大于环形构件170的直径，并且断开构件137的外直径154比传导构件136的内直径147略小。盖板部分149具有在盖板部分149上对角地延伸的、并且相互垂直的两个纵向肋(未示出)，这些肋被配置成用于弱化断开构件137的盖板部分149。
挡板构件138是由塑料材料制成并且包括一个顶板部分155、一个连接到顶板部分155上的圆柱形侧向部分156、一个由盖板部分155和圆柱形侧向部分156界定的内部空间157、一个位于圆柱形侧向部分156的末端处的开口158、以及圆柱形侧向部分156内的多个凹陷159。挡板构件138具有对应地限定了挡板构件138的一个第一内直径和一个第二内直径(由于这些凹陷159)以及一个第一外直径和一个第二外直径(由于这些凹陷59)的一个内侧周界162和一个外侧周界153；该第一内直径大于该第二内直径，并且该第一外直径也大于该第二外直径，并且挡板构件138的第一和第二内直径两者都大于断开构件138的外直径(并且因此大于坩埚135的直径)；挡板构件138的第一内直径稍微大于传导构件136的外直径，而挡板构件138的第二内直径和第二外直径小于传导构件136的外直径，但它们大于传导构件136的内直径。圆柱形侧向部分156内的这些凹陷159在挡板构件138的内部空间157内提供了多个肩部164。挡板构件138进一步包括设置在顶板部分155中的多个圆形开口(未示出)。
除了防污液体合成物134不是被坩埚135吸收的而是直接注入环形内部空间171的下部172内、该防污液体合成物与环形构件170的内表面接触并且与断开构件137的盖板部分149的内表面接触以外，就关于图13至图16的支持单元130的组装过程而言是与关于图7至图10的支持单元30的组装没有区别的。因此，断开构件137的盖板部分149为坩埚135提供了一个底部。
传导构件136和断开构件137提供了支持单元130的框架，此框架形成一个用于坩埚135的封套。
现在，就使用机器来给眼镜片重新涂上防污涂层合成物134的方法而言，是与上述用于给眼镜片重新涂上防污涂层合成物34的方法没有区别的，因此将不再对该方法进行描述。
在一个没有展示的变体中，支持单元并不是插入到用防污涂层液体合成物对光学物品重进行新涂层的真空蒸发机器内的，而是插入到用于使一个第一层任意涂层沉积在光学物品上的真空蒸发机器内的。
例如，这种光学涂层液体合成物具有防反射特性、或防静电特性或防雾特性。
在没有展示的变体中：
-支持单元没有挡板构件元件；
-支持单元不是圆柱形总体形状的，而是矩形、六边形、八边形或其他形状的；
-断开构件在其盖板部分上包括多于两个或少于两个肋；并且这些肋具有不同的形状；
-挡板构件由一种耐高温并且可以被着色以标识不同类型涂层的塑料材料制成；或者挡板构件不是由塑料材料制成而是由金属制成；
-断开构件可以由具有不同热膨胀系数的多金属层材料制成。当断开构件变热时，盖板部分内的张力增加并且大大减少断开所需的压力；
-挡板构件包括多于八个或少于八个圆形开口和/或多于四个或少于四个凹陷；
-第一和第二握持器不是被安排在真空室的门上，而是直接安排在真空室内，并且蒸发装置具体地是加热模块因此而没有安排在门上而也是安排在真空室内的；和/或
-可以将根据本发明的支持单元引入到一个泡罩(也被称为封装构件)的接收元件的凹陷内，该泡罩还包括一个被引入到该接收元件的凹陷内的干燥过滤器以及一个用于盖住该凹陷的盖板元件；或者该封装构件可以是一个带有盖的盒子而不是泡罩，可以将干燥过滤器和支持单元引入而盒装于其中；或者可以在惰性气氛下关闭该封装构件。
应总体上更加注意的是，本发明不局限于所述和所展现的实例。

Claims (16)

1.用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件，该支持件包括：一个坩埚(35；135)和被引入到所述坩埚(35；135)内的一种光学涂层液体合成物(34；134)；其中所述支持件(30；130)进一步包括一个形成了封套的框架(36，37；136，137)，所述坩埚(35；135)和所述光学涂层液体合成物(34；134)被包裹在该封套内；所述框架(36，37；136，137)具有一个内部空间(45，51；145，151)并且被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)具有的内部压力(P)低于一个预先确定的压力阈值(Pth)时气密地密封所述坩埚(35；135)和所述光学涂层液体合成物(34；134)，并且被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)的所述内部压力(P)大于所述预先确定的压力阈值(Pth)时使所述光学涂层液体合成物(34；134)的蒸气泄出；借助于该框架，所述支持件(30；130)构成光学涂层液体合成物(34；134)的一个匣。
2.根据权利要求1所述的支持件，其中，该框架包括一个断开构件(37；137)，该断开构件被配置成在所述内部空间(45，51；145，151)的所述内部压力(P)大于所述预先确定的压力阈值(Pth)时部分地断开。
3.根据权利要求1和2中任一项所述的支持件，其中，该框架包括一个传导构件(36；136)，该传导构件被配置成用于在蒸发处理之前和蒸发处理过程中将热量传递给所述光学涂层液体合成物(34；134)。
4.根据权利要求2和3所述的支持件，其中，所述断开构件(37；137)具有一个第一厚度，并且所述传导构件(36；136)具有一个第二厚度，并且所述第一厚度小于所述第二厚度。
5.根据权利要求2和4中任一项所述的支持件，其中，所述断开构件(37)包括被配置成用于弱化所述断开构件(37)的至少一个肋(61)。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的支持件，其中，该框架包括独特且联接在一起的一个断开构件(37；137)和一个传导构件(36；136)。
7.根据权利要求6所述的支持件，其中，所述断开构件(37；137)和所述传导构件(36；136)是金属的。
8.根据权利要求6和7中任一项所述的支持件，其中，所述传导构件(36；136)具有的周界(47；147)比所述断开构件(37；137)的周界(54；154)更长，从而使得所述传导构件(36；136)以其周界(47；147)压皱连接在所述断开构件(37；137)的所述周界(54；154)上。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的支持件，其中，该支持件进一步包括一个挡板构件(38；138)，该挡板构件安装在所述框架(36，37；136，137)上并且包括至少一个开口(60；160)。
10.根据权利要求9所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)包括一个其中制作有多个有规律地间隔开的圆形开口(60；160)的部分(55；155)。
11.根据权利要求9和10中任一项所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)包括面向所述框架(36，37；136，137)并且被安排在距离所述框架(36，37；136，137)一个预先确定的距离(d)处的一个部分(55；155)。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)具有的周界(62；162)比所述框架(36，37；136，137)的周界更长，从而使得所述挡板构件(38；138)以其周界(62；162)压皱联接在所述框架(36，37；136，137)的所述周界上。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的支持件，其中，所述挡板构件(38；138)包括一个顶板部分(55；155)、一个连接到所述顶板部分(55；155)上的侧向部分(56；156)、以及至少部分地制作在所述侧向部分(56；156)中的至少一个凹陷(59；159)。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的支持件，其中，所述坩埚(35)包括一个吸收有所述光学涂层液体合成物(34)的多孔构件(40)。
15.根据权利要求1至13中任一项所述的支持件，其中，所述坩埚(135)包括一个其中倾注有吸收所述光学涂层液体合成物(134)的容器(137，170)。
16.包括一个封装构件的装置，该封装构件具有至少一个接收元件、根据权利要求1至15中任一项所述的至少一个支持件(30；130)以及一个干燥过滤器被引入所述至少一个接收元件中。
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