CN103877035A - 一种大观霉素片剂及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种大观霉素片剂及其制备方法，其是采用含有以下的以重量百分比计的组分：大观霉素10%-50%，药用辅料50%-90%，药用辅料有崩解剂、填充剂、润湿粘合剂、润滑剂中的一种或多种。本发明还公开了该大观霉素的制备方法，将大观霉素，药用辅料分别粉碎，过筛，将大观霉素与填充剂混合，加入部分崩解剂，再加入润湿粘合剂制成软材，制成湿颗粒，干燥，整理，加入剩余崩解剂，再加入润滑剂混匀，压片，即制得大观霉素片剂。
Description
技术领域
本发明涉及一种大观霉素片剂及其制备方法，属于药物制剂领域。
背景技术
大观霉素是抗生素类药，四环素类药物,可以治疗衣原体支原体感染.其性状为淡黄色或黄色结晶性粉末，臭，味苦。在水中或甲醇中易溶，在乙醇或丙酮中微溶，在氯仿中不溶。主要用于治疗敏感菌引起的呼吸道、泌尿道及胆道感染。抗菌谱与四环素、土霉素基本相同，体内、外抗菌力均较四环素为强。微生物对本品与四环素、土霉素等有密切的交叉耐药性。口服吸收良好。主要用于敏感的革兰阳性菌和革兰阴性杆菌所致的上呼吸道感染、扁条体炎、胆道感染、淋巴结炎、蜂窝组炎、老年慢性支气管炎等，也用于治疗斑疹伤寒、羌虫病、支原体肺炎等。尚可用于治疗霍乱，也可用于预防恶性疟疾和钩端螺旋体感染。主要用于敏感的革兰阳性球菌和革兰阴性杆菌所致的上呼吸道感染、扁桃体炎、胆道感染、淋巴结炎、蜂窝组织炎、老年慢性支气管炎等，也用于斑疹伤寒、恙虫病、支原体肺炎等。抗菌谱与四环素、土霉素基本相同，体内、外抗菌力均较四环素为强。微生物对本品与四环素、土霉素等有密切的交叉耐药性。口服吸收良好。
大观霉素为难溶性药物，不同工艺处方生产的产品在人体内溶出程度有明显的不同，不同工艺生产的大观霉素制剂后，其生物利用度显著不同，从而影响药物本身应有的疗效。
普通的片剂制备方法采用淀粉、糊精、羟丙基纤维素等作为辅料，生产工艺为：粉碎，混合，制粒，压片，此法制得的大观霉素片难以被吸收利用。
发明内容
本发明的目的在于克服大观霉素现有剂型的不足，研制一种崩解速度快、服用方便、生物利用度高，口服后容易被人体充分吸收的大观霉素片剂。
为实现上述目的，本发明提供了一种大观霉素片剂，含有以下的以重量百分比计的组分：大观霉素10%-50%，药用辅料50%-90%，药用辅料有崩解剂、填充剂、润湿粘合剂、润滑剂中的一种或多种。
所述的崩解剂为羟甲基纤维素钠、羧甲基纤维素钙、微晶纤维素、羧甲基淀粉钠中的一种或几种。
填充剂为乳糖、蔗糖、山梨醇、预胶化淀粉中的一种或多种。
润润湿粘合剂为水、乙醇、聚乙烯吡咯烷酮、甲基纤维素、海藻酸钠中的一种或多种。
润滑剂为硬脂酸镁、滑石粉、二氧化硅、硬脂酸中的一种或多种。
大观霉素的制备方法，将大观霉素，药用辅料分别粉碎，过筛，将大观霉素与填充剂混合，加入部分崩解剂，再加入润湿粘合剂制成软材，制成湿颗粒，干燥，整理，加入剩余崩解剂，再加入润滑剂混匀，压片，即制得大观霉素片剂。
本发明制备的大观霉素片崩解速度快，服用方便，副反应少，生物利用度高。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明做进一步的说明,但是实施例不用于限定本发明所保护的范围.
处方：
成分 重量百分比含量
大观霉素 20%
乳糖 15%
预胶化淀粉 20%
微晶纤维素 35%
羟甲基纤维素钠 7%
聚乙烯吡咯烷酮水溶液 2%
硬脂酸镁 1%
制备方法：将上述物料分别粉碎过100目筛，将大观霉素、乳糖、预胶化淀粉、微晶纤维素、羟甲基纤维素钠充分混合均匀，加入聚乙烯吡咯烷酮水溶液制成软材，20目筛制粒后烘干，20目筛整粒，加入硬脂酸镁混合，压片即制得大观霉素片剂。
Claims (3)
1.一种大观霉素片剂及其制备方法，其特征在于所述的大观霉素片剂含有以下以重量百分比计的组分：大观霉素10%-50%，药用辅料50%-90%，药用辅料有崩解剂、填充剂、润湿粘合剂、润滑剂中的一种或多种。
2.如权利要求1所述的大观霉素片剂，其特征在于所述的所述的崩解剂为羟甲基纤维素钠、羧甲基纤维素钙、微晶纤维素、羧甲基淀粉钠中的一种或几种；填充剂为乳糖、蔗糖、山梨醇、预胶化淀粉中的一种或多种；润润湿粘合剂为水、乙醇、聚乙烯吡咯烷酮、甲基纤维素、海藻酸钠中的一种或多种；润滑剂为硬脂酸镁、滑石粉、二氧化硅、硬脂酸中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的大观霉素片剂，其特征在于制备方法如下：将大观霉素，药用辅料分别粉碎，过筛，将大观霉素与填充剂混合，加入部分崩解剂，再加入润湿粘合剂制成软材，制成湿颗粒，干燥，整理，加入剩余崩解剂，再加入润滑剂混匀，压片，即制得大观霉素片剂。
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2012
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| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140625 |