CN103802160A - 一种分离元器件的切割框架 - Google Patents

一种分离元器件的切割框架 Download PDF

Info

Publication number
CN103802160A
CN103802160A CN201410071067.4A CN201410071067A CN103802160A CN 103802160 A CN103802160 A CN 103802160A CN 201410071067 A CN201410071067 A CN 201410071067A CN 103802160 A CN103802160 A CN 103802160A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cutting
film
cutting frame
base material
rectangle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410071067.4A
Other languages
English (en)
Inventor
刘剑
樊增勇
许兵
叶川
罗天秀
刘达
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LESHAN RADIO CO Ltd
Chengdu Advanced Power Semiconductor Co Ltd
Original Assignee
LESHAN RADIO CO Ltd
Chengdu Advanced Power Semiconductor Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LESHAN RADIO CO Ltd, Chengdu Advanced Power Semiconductor Co Ltd filed Critical LESHAN RADIO CO Ltd
Priority to CN201410071067.4A priority Critical patent/CN103802160A/zh
Publication of CN103802160A publication Critical patent/CN103802160A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

本发明公开了一种分离元器件的切割框架,它包括两组平行的矩形切割块(3),所述矩形切割块(3)放置在基底材料(2)中部,基底材料(2)外围与切割外边框(1)连接,基底材料(2)表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光,在光照前粘度很大,光照之后粘度会变低的UV膜。本发明减少基底材料表面涂覆的UV膜用量,提高UV膜的利用率,节约生产成本,降低操作员工劳动强度。

Description

一种分离元器件的切割框架
技术领域
本发明涉及一种分离元器件的切割装置,特别是一种分离元器件的切割框架。
背景技术
在分离元器件的切割过程中,基于切割设备的空间尺寸大小,采用圆形的切割框架一般只能放置4个待切割的矩形切割块,同时涂覆的UV膜面积利用率也十分低下,生产成本被带高。
专利申请号:CN200880022969.1公开了一种高切割效率的切割框架,该切割框架包括用于以预定倾角从矩形基底材料上切割一种或更多种具有较小尺寸的矩形单元件的多个切割器,所述的切割器安装或形成在所述切割框架中,使得所述切割器与所述矩形单元件相对应,其中,所述切割器基于所述矩形单元件的阵列结构而安装或形成在所述切割框架中,使得除最上排矩形单元件和最下排矩形单元件以外的大多数剩余矩形单元件被布置为在每个矩形单元件的四条边处邻近不同的矩形单元件,并且相邻的四个矩形单元件的至少一些组合在其中心形成岛式剩余部。该发明主要是针对如何组合切割提高切割效率,其切割的需要的UV膜用量和UV膜的利用率未在其考虑范围内。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种分离元器件的切割框架,减少基底材料表面涂覆的UV膜用量,提高UV膜的利用率,节约生产成本,降低操作员工劳动强度。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:一种分离元器件的切割框架,它包括两组平行的矩形切割块,所述矩形切割块放置在基底材料中部,基底材料外围与切割外边框连接,基底材料表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光,在光照前粘度很大,光照之后粘度会变低的UV膜。
具体的,两组并行放置的矩形切割块的四个面与切割外边框对应的四个边平行,每组矩形切割块包括四个小矩形切割块。
具体的,切割外边框包括多个用于放置框架和手持方便的缺口。
具体的,基底材料的四个转角均为圆角。
本发明的有益效果是:减少基底材料表面涂覆的UV膜的用量,提高UV膜的利用效率,同时有效降低接近一倍的生产成本,降低操作员工的劳动强度。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为圆形切割框架示意图;
图中,1-切割外边框,2-基底材料,3-矩形切割块。
具体实施方式
下面结合附图进一步详细描述本发明的技术方案,但本发明的保护范围不局限于以下所述。
如图1所示,一种分离元器件的切割框架,它包括两组平行的矩形切割块3,所述矩形切割块3放置在基底材料2中部,基底材料2外围与切割外边框1连接,基底材料2表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光,在光照前粘度很大,光照之后粘度会变低的UV膜。
两组并行放置的矩形切割块3的四个面与切割外边框1对应的四个边平行,每组矩形切割块3包括四个小矩形切割块。
如图2所示,当采用圆形切割框架,基底材料2上只能放置四个小矩形切割块,圆形切割框架贴膜时的矩形长为33cm,宽为28cm,其UV膜的利用面积比为:
料片面积/UV膜面积=250*70/(280*330)=18.94%,
而根据切割机器的空间大小,在相同大小限定下的矩形的贴膜长为30cm,宽为30cm,该矩形切割框架的UV膜利用率为:料片面积/UV膜面积=250*70*2/(300*300)=38.89%。
由此可见,矩形切割框架比圆形切割框架的UV膜利用率提高了105.33%。 

Claims (4)

1.一种分离元器件的切割框架,其特征在于:它包括两组平行的矩形切割块(3),所述矩形切割块(3)放置在基底材料(2)中部,基底材料(2)外围与切割外边框(1)连接,基底材料(2)表面涂覆有一层用于阻隔紫外光及短波长可见光,在光照前粘度很大,光照之后粘度会变低的UV膜。
2.根据权利要求1所述的一种分离元器件的切割框架,其特征在于:两组并行放置的矩形切割块(3)的四个面与切割外边框对应的四个边平行。
3.根据权利要求1所述的一种分离元器件的切割框架,其特征在于:所述的切割外边框(1)设有多个用于放置框架和手持方便的缺口。
4.根据权利要求1所述的一种分离元器件的切割框架,其特征在于:所述的基底材料(2)的四个转角均为圆角。
CN201410071067.4A 2014-02-28 2014-02-28 一种分离元器件的切割框架 Pending CN103802160A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410071067.4A CN103802160A (zh) 2014-02-28 2014-02-28 一种分离元器件的切割框架

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410071067.4A CN103802160A (zh) 2014-02-28 2014-02-28 一种分离元器件的切割框架

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103802160A true CN103802160A (zh) 2014-05-21

Family

ID=50699783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410071067.4A Pending CN103802160A (zh) 2014-02-28 2014-02-28 一种分离元器件的切割框架

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103802160A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172899A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Photocrystal Inc 光コア部品チップの製造法
CN101297393A (zh) * 2005-11-24 2008-10-29 株式会社瑞萨科技 半导体器件的制造方法
JP2009071083A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
CN101686738A (zh) * 2007-07-04 2010-03-31 Lg化学株式会社 高切割效率的切割框架
CN102533173A (zh) * 2010-12-30 2012-07-04 第一毛织株式会社 光学透明粘结剂、切割芯片接合膜和半导体器件
CN203697126U (zh) * 2014-02-28 2014-07-09 成都先进功率半导体股份有限公司 一种分离元器件的切割框架

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005172899A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Photocrystal Inc 光コア部品チップの製造法
CN101297393A (zh) * 2005-11-24 2008-10-29 株式会社瑞萨科技 半导体器件的制造方法
CN101686738A (zh) * 2007-07-04 2010-03-31 Lg化学株式会社 高切割效率的切割框架
JP2009071083A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
CN102533173A (zh) * 2010-12-30 2012-07-04 第一毛织株式会社 光学透明粘结剂、切割芯片接合膜和半导体器件
CN203697126U (zh) * 2014-02-28 2014-07-09 成都先进功率半导体股份有限公司 一种分离元器件的切割框架

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2725629A3 (en) Light emitting element
CN203697126U (zh) 一种分离元器件的切割框架
CN103400902A (zh) 一种ito薄膜太阳能电池片及其图案制备方法
CN103802160A (zh) 一种分离元器件的切割框架
CN202656523U (zh) 防气泡保护膜
CN203791964U (zh) 摄像头自动装配机
CN203187202U (zh) 一种间隙式裁切机
CN205735295U (zh) 一种偏光片的刀模
CN203831214U (zh) 一种塑料膜砂光装置
CN103213380B (zh) 一种网版处理方法
CN207689704U (zh) 一种导光板
CN203702785U (zh) 一种计算器贴脚垫机
CN204039314U (zh) 口字形泡绵胶带
CN203919164U (zh) 快速液压打孔治具
CN204189789U (zh) 一种高密度lqfp32集成电路封装引线框结构
CN202916545U (zh) 一种液晶显示模组装配设备
CN205112583U (zh) 彩色夹胶玻璃
CN204625837U (zh) 一种新型边皮料清洗用组件
CN203899862U (zh) 电池板快速涂胶装置
CN204792882U (zh) 一种强压防溢胶型led支架结构
CN204080121U (zh) 一种新型电解槽离子膜集成装置
CN204671884U (zh) 一种麻将机边框
CN205684459U (zh) 一种单冲之冲床操作台
CN204556874U (zh) 一种屏幕增亮保护膜
CN204547212U (zh) 一种光学复合增亮膜

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20140521

RJ01 Rejection of invention patent application after publication