CN103771904A

CN103771904A - 一种憎污面釉及用其制作陶瓷产品的方法

Info

Publication number: CN103771904A
Application number: CN201310684030.4A
Authority: CN
Inventors: 林孝发; 林孝山; 刘中起; 高建立
Original assignee: Jomoo Group Co Ltd
Current assignee: Jomoo Kitchen and Bath Co Ltd; Jomoo Group Co Ltd
Priority date: 2013-12-13
Filing date: 2013-12-13
Publication date: 2014-05-07

Abstract

本发明公开了一种憎污面釉及用其制作陶瓷产品的方法，该憎污面釉包括如下重量份的组分：SiO₂ 55-65重量份、Al₂O₃ 6-16重量份、CaO 6-16重量份、MgO 1-5重量份、Na₂O 1-5重量份、K₂O 1-5重量份、ZnO 2-10重量份和B₂O₃ 1-6重量份。本发明的憎污面釉不含铅，釉面玻化程度高，表面光滑，平整度和致密度好，不易吸附微小颗粒、藏污垢及细菌，抗污能力强，清洗方便。

Description

一种憎污面釉及用其制作陶瓷产品的方法

技术领域

本发明属于陶瓷产品技术领域，具体涉及一种憎污面釉及用其制作陶瓷产品的方法。

背景技术

现有卫生洁具的釉料主要使用含有硅酸锆等乳浊剂及色剂，因此这种釉的玻璃相中含有乳浊相和结晶相的粒子，在电子显微镜下，这种这釉面是凹凸不平的；尤其是这种釉的高温黏度大，即高温流动性差，造成釉面缺陷多显得粗糙，使得这种卫生沽具表面容易吸附微小颗粒，便于细菌藏匿，致使防污能力差。

为了解决以上问题，陶瓷工作者做了许多工作:一是在已烧成的制品上，通过后期热处理，在釉面上形成一层有机保护膜，但此种方法不仅增加工艺难度和成本，而且所施加的有机保护膜稳定性较差且容易剥落；二是降低乳浊釉高温黏性，提高釉的高温流动性。使釉面玻化程度更高，提高釉面平整度。但此方法存在乳浊釉烧成范围窄，在窑炉温度波动时容易造成大批量烧成不良。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术缺陷，提供一种憎污面釉。

本发明的另一目的在于提供一种用上述憎污面釉制作陶瓷产品的方法。本发明的技术方案如下：

一种憎污面釉，包括如下重量份的组分：

在本发明的一个优选实施方案中，包括如下重量百分比的组分：

进一步优选的，包括如下重量百分比的组分：

进一步优选的，包括如下重量百分比的原料组分：

进一步优选的，上述高硼熔块中包括如下重量百分比的组分：

该高硼熔块的制作方法如下：将石英、长石和石灰石烘干后再配入硼砂、氧化锌和纯碱，充分混合后在池窑中熔化，熔化温度在1240～1280℃，经水淬后烘干，粉碎待用。

本发明的另一技术方案如下：

一种用上述憎污面釉的制作陶瓷产品的方法，包括如下步骤：

（1）称取各组分均匀混合并球磨，得面釉浆料；

（2）在预制好的陶瓷坯体的表面涂上经球磨的底釉浆料，晾干后，再涂上上述面釉浆料；

（3）将上述涂覆有面釉浆料和底釉浆料的陶瓷坯体干燥后，经1150-1230℃一次烧成，即得成品。

在本发明的一个优选实施方案中，所述步骤（1）具体为：称取各组分均匀混合并球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料。

在本发明的一个优选实施方案中，所述步骤（2）具体为：在预制好的陶瓷坯体的表面涂上经球磨至过325目筛的筛余为0.3-0.5%的厚度为0.4-0.9mm的底釉浆料，晾干后，再涂上上述面釉浆料，厚度为0.15-0.25mm。

在本发明的一个优选实施方案中，所述步骤（3）具体为：将上述涂覆有面釉浆料和底釉浆料的陶瓷坯体干燥至水分小于1.0%后，经1150-1230℃一次烧成，即得成品。

本发明的有益效果是：

1、本发明的憎污面釉不含铅，釉面玻化程度高，表面光滑，平整度和致密度好，不易吸附微小颗粒、藏污垢及细菌，抗污能力强，清洗方便；

2、用本发明的憎污面釉制作陶瓷产品的工艺过程简单，成品率高，降低了生产能耗和成本。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本发明的技术方案进行进一步的说明和描述。

下述实施例中的高硼熔块中包括如下重量百分比的组分：

实施例1

按如下重量百分比称取憎污面釉的各原料组分：石英6.4%、长石9.2%、氧化铝2.1%、方解石1.9%、白云石3.4%、氧化锌2.0%和高硼熔块75%，配方号001，经球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料。

实施例2

按如下重量百分比称取憎污面釉的各原料组分：石英6.2%、长石8.0%、方解石1.6%、白云石2.4%、氧化锌1.8%和高硼熔块80%，配方号002，经球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料。

实施例3

按如下重量百分比称取憎污面釉的各原料组分：石英5.2%、长石6.8%、方解石1.1%、白云石0.9%、氧化锌1.0%和高硼熔块85%，配方号003，经球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料。

实施例4

按如下重量百分比称取憎污面釉的各原料组分：石英3.5%、长石4.2%、方解石0.7%、白云石0.9%、氧化锌0.7%和高硼熔块90%，配方号004，经球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料。

实施例5

将上述实施例1至4的面釉浆料分别通过下述方法制作卫生洁具：

（1）称取各组分均匀混合并球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料；

（2）在预制好的陶瓷坯体的表面涂上经球磨至过325目筛的筛余为0.3-0.5%的厚度为0.4-0.9mm的底釉浆料，晾干后，再涂上上述面釉浆料，厚度为0.15-0.25mm，以保证釉面细腻均匀；

该底油浆料的配方如下：

（3）将上述涂覆有面釉浆料和底釉浆料的陶瓷坯体干燥至水分小于1.0%后，经1150-1230℃一次烧成，即得成品。

由下表1结果判定002号配方的釉面效果较理想，从而确定002号配方进行釉面厚度试验，经测定，该面釉包括如下重量百分比的组分：

表1.面釉配方试验效果

釉面厚度试验的结果如下表2所示，即釉厚在0.15mm-0.25mm情况下釉面缺陷较少，釉面防污能力较好：

表2.002号配方釉面厚度试验效果

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，故不能依此限定本发明实施的范围，即依本发明专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本发明涵盖的范围内。

Claims

1.一种憎污面釉，其特征在于：包括如下重量份的组分：

2.如权利要求1所述的一种憎污面釉，其特征在于：包括如下重量百分比的组分：

3.如权利要求2所述的一种憎污面釉，其特征在于：包括如下重量百分比的组分：

4.如权利要求3所述的一种憎污面釉，其特征在于：包括如下重量百分比的原料组分：

5.如权利要求4所述的一种憎污面釉，其特征在于：所述高硼熔块中包括如下重量百分比的组分：

6.一种用权利要求1至5中任一权利要求所述憎污面釉的制作陶瓷产品的方法，其特征在于：包括如下步骤：

（1）称取各组分均匀混合并球磨，得面釉浆料；

7.如权利要求6所述的制作陶瓷产品的方法，其特征在于：所述步骤（1）具体为：称取各组分均匀混合并球磨至过325目筛的筛余为0.05-0.1%，得面釉浆料。

8.如权利要求7所述的制作陶瓷产品的方法，其特征在于：所述步骤（2）具体为：在预制好的陶瓷坯体的表面涂上经球磨至过325目筛的筛余为0.3-0.5%的厚度为0.4-0.9mm的底釉浆料，晾干后，再涂上上述面釉浆料，厚度为0.15-0.25mm。

9.如权利要求8所述的制作陶瓷产品的方法，其特征在于：所述步骤（3）具体为：将上述涂覆有面釉浆料和底釉浆料的陶瓷坯体干燥至水分小于1.0%后，经1150-1230℃一次烧成，即得成品。