CN103752574A - 一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,它包含了制造工艺人员将光学清洗剂按比例调配并倒入到清洗机内、液晶显示屏基板放置到专用铝盘、将装有液晶显示屏基板的专用铝盘放入到装有光学清洗剂的清洗机台内、设定清洗机台参数并启动电源清洗、将清洗完毕的液晶显示屏基板取出放入氮气柜中进行保存待用几个步骤,该工艺使得企业更低投入;能够让液晶显示屏基板表面得到一致性的清洁度,对表面脏污与氧化层进行有效处理;可以最大限度降低产品的不良率,从而最大程度地控制产品因返修而产生额外成本;最大程度的降低人工成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种制造工艺流程,尤其涉及一种液晶显示屏基板清洗工艺。
背景技术
目前大多数制造厂的清洗液晶显示屏基板的工艺流程,液晶显示屏基板从真空袋中取出,制造厂都是用酒精或橡皮擦直接对液晶显示屏基板表面脏污及氧化层进行处理,虽然以上方法很有效,但是无形当中液晶显示屏基板表面涂层会被破坏且基板表面清洁度不一致,当用橡皮擦清洁时,也会污染操作环境,对产品造成二次污染而且无法对液晶显示屏基板表面对行清洗,造成液晶显示屏基板报废,相对来说,企业的生产成品率低、成本高,而且产品的可靠性与寿命将得不到保障。
发明内容
本发明的目的是在于提供一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,该工艺所要解决的技术问题是克服现有技术的不足。
为了实现上述技术目的,本发明采取的技术方案是:一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,它包含了制造工艺人员将光学清洗剂按比例调配并倒入到清洗机内、液晶显示屏基板放置到专用铝盘、将装有液晶显示屏基板的专用铝盘放入到装有光学清洗剂的清洗机台内、设定清洗机台参数并启动电源清洗、将清洗完毕的液晶显示屏基板取出放入氮气柜中进行保存待用几个步骤。
在本发明中所述,制造工艺人员将按比例调配光学清洗剂并倒入到清洗机内。
在本发明中所述,制造工艺人员把液晶显示屏基板以手动的方式按照规定的方位放置到专用铝盘内。
在本发明中所述,制造工艺人员以手持或推车牵引等方式将装有液晶显示屏基板的专用铝盘传送至清洗机台处。
在本发明中所述,制造工艺人员为不同的液晶显示屏基板设置等清洗机台参数。
在本发明中所述,清洗液晶显示屏基板的液体为按比例调配好的光学清洗剂。
在本发明中所述,清洗机台可以为半自动或全自动机台。
本发明的优点和积极效果是:1. 该工艺所述的清洗机可以为最简单的清洗机,无需超声波,企业更低投入;2.能够让液晶显示屏基板表面得到一致性的清洁度,对表面脏污与氧化层进行有效处理;3.可以最大限度降低产品的不良率,从而最大程度地控制产品因返修而产生额外成本;4.最大程度的降低人工成本。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进下理解,构成本申请的一部分,并不构成对本发明的限定。
图1为一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺流程图。
其中:1、2、3、4、5、6、7为清洗工艺流程步骤。
具体实施方案
下面结合附图对本发明进一步的说明,附件图中的组成工艺步骤并不一定符合比例,而是以强调的方式描述出本发明的流程。
参见图1,为本发明制造工艺的步骤流程图。首先在步骤1中,制造工艺人员按比例调配光学清洗剂并倒入到清洗机内。在步骤2中,把液晶显示屏基板装入到专用铝盘,把专用铝盘固定在铝盘架上,层与层之间相隔一定的距离。在步骤3中,把铝盘架用手持或推车的牵引方式传送清洗机台旁。在步骤4中,制造工艺人员为清洗液晶显示屏基板选择清洗机台后,制造工艺人员会设定其清洗工艺参数,以手动方式将装有液晶显示屏基板的铝盘架送入到已选定的清洗机台内,清洗工艺参数包含进行液晶显示屏基板的数量、工艺参数或站点等。在步骤5中,在设定完所有清洗参数后,启动清洗机台,并定期检测清洗效果。在步骤6中,制造工艺人员手动将清洗完成后的液晶显示屏基板从铝架取出。在步骤7中,送到氮气柜保存待用,以防止液晶显示屏基板表面再次污染及氧化。
本发明中,以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和效果进行了详细的说明,所应理解是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围内。
Claims (7)
1.一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,它包含了制造工艺人员将光学清洗剂按比例调配并倒入到清洗机内、液晶显示屏基板放置到专用铝盘、将装有液晶显示屏基板的专用铝盘放入到装有光学清洗剂的清洗机台内、设定清洗机台参数并启动电源清洗、将清洗完毕的液晶显示屏基板取出放入氮气柜中进行保存待用几个步骤。
2.根据权利要求1所述的一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,所述制造工艺人员将按比例调配光学清洗剂并倒入到清洗机内。
3.根据权利要求1所述的一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,所述制造工艺人员把液晶显示屏基板以手动的方式按照规定的方位放置到专用铝盘内。
4.根据权利要求1所述的一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,所述制造工艺人员以手持或推车牵引等方式将装有液晶显示屏基板的专用铝盘传送至清洗机台处。
5.根据权利要求1所述的一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,所述制造工艺人员为不同的液晶显示屏基板设置等清洗机台参数。
6.根据权利要求1所述的一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,所述清洗液晶显示屏基板的液体为按比例调配好的光学清洗剂。
7.根据权利要求1所述的一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺,其特征是,所述清洗机台可以为半自动或全自动机台。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201410049844.5A CN103752574A (zh) | 2014-02-13 | 2014-02-13 | 一种利用光学清洗剂清洗液晶显示屏基板工艺 |
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CN (1) | CN103752574A (zh) |
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2014
- 2014-02-13 CN CN201410049844.5A patent/CN103752574A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
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Application publication date: 20140430 |