CN103744223A - 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示装置、彩膜基板及其制作方法。该彩膜基板的制作方法，包括：在第一基板上沿纵向沉积若干层彩色光阻层；切割所述彩色光阻层，得到若干个预设厚度的彩色子光阻层；将所述彩色子光阻层设于有机薄膜上，将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与间隔设有黑矩阵图形的第二基板进行贴合固化；去除上述的有机薄膜，进而形成彩膜基板。本发明提供的显示装置、彩膜基板及其制作方法，通过将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与设有黑矩阵图形的基板进行贴合固化，可形成无间距的彩色光阻层，最大程度降低对黑矩阵的宽度要求，并且有效消除由于角段差而引发的漏光问题。

Description

一种显示装置、彩膜基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示装置、彩膜基板及其制作方法。 
背景技术
近年来，随着科技的发展，液晶显示器技术也随之不断完善。TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器）以其图像显示品质好、能耗低、环保等优势占据着显示器领域的重要位置。 
随着显示技术的快速发展，用户对显示屏幕的色泽和亮度要求越来越高，而影响色泽和亮度的其中的一个因素为液晶显示装置中的彩膜基板的结构性能。 
如图1所示，为传统彩膜基板结构示意图，其包括透明基板1’，在透明基板1’上先间隔形成黑矩阵2’的图形，然后，在黑矩阵2’预留的空间中形成彩色光阻层，该彩色光阻层至少包括红色光阻层31’、蓝色光阻层32’和绿色光阻层33’。不同颜色的光阻层被黑矩阵分隔开来，并且彩色光阻层的边缘搭接在黑矩阵2’上。 
由于彩色光阻层的两侧均搭接在黑矩阵2’上，致使彩色光阻层的上表面出现不平坦的现象（即在彩色光阻层的上表面形成中间低、两侧高呈“牛角”形状的角段差，具体如附图1中圆圈A处所示）。而这种彩色光阻层上出现的角段差现象会严重影响彩膜基板中膜面的平整度，从而引起产线中不良的发生，影响产品品质。 
另外，为了提高屏幕的分辨率以及提高色泽度，通常要求彩膜基板中的黑矩阵的宽度越小越好，而上述结构的彩膜基板其黑矩阵的宽度无法进一步变窄，成为彩膜基板提高色泽度的技术障碍。 
发明内容
（一）要解决的技术问题 
本发明的目的是提供一种显示装置、彩膜基板及其制作方法，以克服现有技术中的彩膜基板黑矩阵宽度较宽且存在侧漏光等缺陷。 
（二）技术方案 
为了实现上述目的，本发明一方面提供一种彩膜基板的制作方法，其具体包括： 
在第一基板上沿纵向沉积彩色光阻层； 
切割所述彩色光阻层，得到若干个预设厚度的彩色子光阻层； 
将所述彩色子光阻层设于有机薄膜上，将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与间隔设有黑矩阵图形的第二基板进行贴合固化； 
去除上述的有机薄膜，进而形成彩膜基板。 
优选地，所述彩色光阻层至少包括红色光阻层、绿色光阻层和蓝色光阻层。 
优选地，通过激光切割工艺对彩色树脂层进行切割。 
优选地，所述彩色子光阻层的厚度为1～4um。 
优选地，所述彩色子光阻层通过胶水涂敷在有机薄膜上。 
优选地，所述有机薄膜为聚乙烯薄膜。 
优选地，所述有机薄膜上的彩色子光阻层转印到与间隔设有黑矩阵图形的第二基板上，并与第一基板进行贴合固化。 
优选地，所述贴合固化过程中包括对彩色子光阻层和第二基板进行加热加压处理。 
优选地，在去除有机薄膜之后还包括：在彩色子光阻层形成隔垫物的步骤。 
另一方面，本发明还提供一种彩膜基板，第一基板，所述第一基板上横向紧贴设置的彩色光阻层，所述彩色光阻层至少包括红色光阻层、蓝色光阻层和绿色光阻层； 
第二基板，所述第二基板上设有黑矩阵图形，将所述第一基板和基板贴合设置； 
所述黑矩阵位于不同颜色光阻层的相邻交接位置处再一方面，本发明还提供一种显示装置，包括上述的彩膜基板。 
（三）有益效果 
本发明提供一种显示装置、彩膜基板及其制作方法，通过将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与设有黑矩阵图形的基板进行贴合固化，可形成无间距的彩色光阻层，最大程度降低对黑矩阵的宽度要求，并且有效消除由于角段差而引发的漏光问题。 
附图说明
图1为现有技术彩膜基板结构示意图； 
图2为本发明实施例一彩膜基板制作方法流程图； 
图3为本发明实施例一彩膜基板制作方法中沉积彩色光阻层示意图； 
图4为本发明实施例一彩膜基板制作过程中转印工艺示意图； 
图5为本发明实施例二彩膜基板结构示意图。 
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。 
实施例一 
如图2～3所示，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，其包括如下步骤： 
步骤S1、在第一基板1上沿纵向沉积若干层彩色光阻层； 
具体的，该步骤中，彩色光阻层至少包括红色光阻层R、绿色光阻层G和蓝色光阻层B。该红色光阻层R、绿色光阻层G和蓝色光阻层B沿纵向（沿箭头方向）分别沉积在第一基板1（例如玻璃）上，该彩色光阻层各颜色的沉积顺序不做限定。 
在实际制作中，该光阻层采用树脂材料即可。 
另外，可根据所需像素大小制作各膜层的厚度，例如所需亚像素大小为50umx150um，则沉积树脂材料的厚度为50um，沉积顺序为R树脂层50um，再沉积G树脂层50um，然后再沉积B树脂层50um，沉积层数为根据分辨率来确定，例如，该显示面板的分辨率为800x600，则需要沉积800层。沉积后，可对树脂层进行热固化处理，使其具有良好的硬度。 
步骤S2、切割所述彩色光阻层，得到若干个预设厚度的彩色子光阻层； 
具体的，通过激光切割工艺切割出所需厚度的彩色子光阻层，该彩色子光阻层中的红色子光阻层2、绿色子光阻层3和蓝色子光阻层4无间距的排列在一起。 
其中，彩色子光阻层的厚度优选为1～4um。该彩色子光阻层的具体厚度可根据实际产品的颜色需求来定，若需要50%色域的颜色时，切割2um厚度即可，若需要72%色域的颜色时，则切割3um厚度即可。需要色域越浓厚，则厚度越厚。 
步骤S3、将所述彩色子光阻层设于有机薄膜5上，将设置在有机薄膜5上的彩色子光阻层与间隔设有黑矩阵图形7的第二基板7进行贴合固化。 
其中，有机薄膜5优选为聚乙烯薄膜，当然，除了该薄膜外，还可以选用其他的有机薄膜。 
参考图4，该彩色子光阻层可通过胶水涂敷在聚乙烯薄膜上，经贴合机6(Lamination)将彩色子阻层贴合转印到设有黑矩阵图形的第二基板上，在贴合过程中，通过加热加压方式使彩色子光阻层稳定固化在第二基板上。该第二基板8也同样也选用玻璃基板。 
本步骤中，通过将彩色子光阻层粘在聚乙烯薄膜上，可实现将彩色子光阻层通过转印工艺转印到另外一块具有黑矩阵图形的基板上，完成两者的贴合，该方法简单，便于实现。通过该方法，使得彩色子 光阻层中的不同颜色的光阻层无间距排列，最大程度降低黑矩阵的宽度，并有效减小现有技术中黑矩阵和彩色光阻层边缘形成的角段差，降低取向漏光所带来的不良反应，且可提高表面平坦度。 
步骤S4、去除上述的有机薄膜5。 
该有机薄膜5的设置是为了将彩色子光阻层可通过贴合机转印到另外一块基板上，当转印成功后，后续结构则不需要该有机薄膜，因此，需要将其去除。 
步骤S5、在完成步骤S4的基础上形成隔垫物的步骤，进而形成彩膜基板。 
本步骤中现有技术中制作隔垫物的工艺完成隔垫物的制作即可，从而完成整个彩膜基板的制作。 
本发明提供的彩膜基板及其制作方法，通过将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与设有黑矩阵图形的基板进行贴合固化，可形成无间距的彩色光阻层，最大程度降低对黑矩阵的宽度要求，并且有效消除由于角段差而引发的漏光问题。 
实施例二 
如图5所示，本发明还提供一种彩膜基板，包括：第一基板1，所述第一基板上横向紧贴设置的彩色光阻层，所述彩色光阻层至少包括红色光阻层2、蓝色光阻层3和绿色光阻层4； 
第二基板8，所述第二基板上设有黑矩阵图形7，将所述第一基板1和第二基板8贴合设置，该黑矩阵7位于不同颜色的彩色光阻层的相邻交接位置处。 
采用上述结构的彩膜基板，不同颜色的光阻层之间无间距设置，所述彩色光阻层上设有黑矩阵，由于该黑矩阵位于彩色光阻层上方，一方面可以起到遮光作用，另一方面，该黑矩阵的宽度得以减小；由于消除了原有的角段差，可避免侧向漏光的问题。 
再一方面，本发明还提供一种显示装置，包括上述的彩膜基板。 
该显示装置例如可以为液晶面板、电子纸、OLED面板、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。 
上述描述是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本发明限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显然的。选择和描述实施例是为了更好说明本发明的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本发明从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。 

Claims (11)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在第一基板上沿纵向沉积若干层彩色光阻层；
切割所述彩色光阻层，得到若干个预设厚度的彩色子光阻层；
将所述彩色子光阻层设于有机薄膜上，将设置在有机薄膜上的彩色子光阻层与间隔设有黑矩阵图形的第二基板进行贴合固化；
去除上述的有机薄膜，进而形成彩膜基板。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，
所述彩色光阻层至少包括红色光阻层、绿色光阻层和蓝色光阻层。
3.如权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，通过激光切割工艺对彩色树脂层进行切割。
4.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩色子光阻层的厚度为1～4um。
5.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩色子光阻层通过胶水涂敷在有机薄膜上。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述有机薄膜为聚乙烯薄膜。
7.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述有机薄膜上的彩色子光阻层转印到与间隔设有黑矩阵图形的第二基板上，并与第一基板进行贴合固化。
8.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述贴合固化过程中包括对彩色子光阻层和第二基板进行加热加压处理。
9.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在去除有机薄膜之后还包括：在彩色子光阻层形成隔垫物的步骤。
10.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
第一基板，所述第一基板上横向紧贴设置的彩色光阻层，所述彩色光阻层至少包括红色光阻层、蓝色光阻层和绿色光阻层；
第二基板，所述第二基板上设有黑矩阵图形，将所述第一基板和基板贴合设置；
所述黑矩阵位于不同颜色光阻层的相邻交接位置处。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10所述的彩膜基板。
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