CN103741282A - 一种捻线器的转子机构 - Google Patents

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钱建忠
韩国华
戈惠娟
陆军
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Abstract

本发明涉及一种捻线器的转子机构,包括:底座和活动设置在底座上的中心过线管,中心过线管上设置有过线盘,所述过线盘上位于中心过线管的一侧设置有支座,所述的过线盘上位于支座的一侧开设有过线孔,所述支座上活动设置有一个过线轮,所述过线轮分为两股,所述过线孔和中心过线管分别对应过线轮一股和过线轮二股。本发明的有益效果是:本发明结构更加简单,内丝和外丝分别穿过中心过线管和过线孔后汇合,在过线轮上并绕几圈,由于这个过线轮分为两股,并绕的内外丝相互之间不干扰(这也正是可以并绕多圈的原因),这样就使得内、外丝的张力均匀化得到可靠的保障,从而保证了捻线的工艺要求。

Description

一种捻线器的转子机构
技术领域
本发明涉及一种捻线器的转子机构。
背景技术
目前,许多捻线器还采用了发明名称为:捻线头转子的滚轮机构、申请号为03130742.6的发明专利中的转子机构,该转子机构包括:两个滚轮对,每个滚轮对有两个旋转固定地相互连接的、并且围绕一旋转轴线可转动地支承的滚轮,滚轮对安装在一带有外壳的滚轮筒中,并且,在滚轮筒的外壳上设置有将滚轮筒固定在捻线头转子上的装置。这种转子结构比较复杂,尤其是滚轮的加工精度要求较高,加工比较困难;而且,对滚轮的安装精度要求甚高,因为滚轮的安装精度直接影响到两根丝线的张力均匀化,影响到捻线的工艺要求。事实上,安装时不可能做到完全精确,这就使得丝线的张力均匀化得不到可靠的保障。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种结构简单、可以保证丝线张力均匀化的捻线器的转子机构。
为解决上述问题,本发明采用的技术方案是:一种捻线器的转子机构,包括:底座和活动设置在底座上的中心过线管,中心过线管上设置有过线盘,所述过线盘上位于中心过线管的一侧设置有支座,所述的过线盘上位于支座的一侧开设有过线孔,所述支座上活动设置有一个过线轮,所述过线轮分为两股,所述过线孔和中心过线管分别对应过线轮一股和过线轮二股。
优选的,所述过线轮位于中心过线管的正上方。
本发明的有益效果是:本发明结构更加简单,内丝和外丝分别穿过中心过线管和过线孔后汇合,在过线轮上并绕几圈,由于这个过线轮分为两股,并绕的内外丝相互之间不干扰(这也正是可以并绕多圈的原因),这样就使得内、外丝的张力均匀化得到可靠的保障,从而保证了捻线的工艺要求。
附图说明
图1是本发明所述一种捻线器的转子机构的结构示意图;
图2是图1的俯视方向的结构示意图;
图中:1、底座,2、轴承,3、中心过线管,4、过线盘,5、支座,6、过线轮,7、瓷圈,11、轴用挡圈,12、孔用挡圈,13、间隔套,14、固定螺钉,15、芯轴,41、过线孔,61、过线轮一股,62、过线轮二股。
具体实施方式
下面结合附图通过具体实施例对本发明作进一步描述。
如图1所示,一种捻线器的转子机构,包括:底座1和通过一对轴承2活动设置在底座1上的中心过线管3,其具体设置方式为:中心过线管3穿设在一对轴承2中,该对轴承2通过间隔套13隔开,中心过线管3在该对轴承2两侧分别开设有环形槽,环形槽中分别套设有轴用挡圈11,所述的底座1中开设有安装孔,安装孔上下端的内壁上分别开设有与相应轴承2相对应的环形槽,环形槽中设置有孔用挡圈12;所述的中心过线管3的上端设置有过线盘4,过线盘4上位于中心过线管3的一侧设置有支座5,所述的过线盘4上位于支座5的一侧开设有由下向上向内倾斜的过线孔41——参见图2所示,支座5上通过带帽的芯轴15活动设置有一个过线轮6,所述过线轮6位于中心过线管3的正上方,所述过线轮6分为两股,所述过线孔41和中心过线管3分别对应过线轮一股61和过线轮二股62。本实施例中,所述的中心过线管3的两端、过线孔41中分别设置有防止丝线磨损的瓷圈7。
使用时,通过固定螺钉14将底座1固定住;然后,将外丝从过线盘4上的过线孔41由下而上穿出,内丝从中心过线管3中由下而上穿出,内、外丝在中心过线管3上方汇合,在过线轮6上来回并绕几圈之后,引入捻线机。

Claims (2)

1.一种捻线器的转子机构,包括:底座和活动设置在底座上的中心过线管,中心过线管上设置有过线盘,所述过线盘上位于中心过线管的一侧设置有支座,所述的过线盘上位于支座的一侧开设有过线孔,其特征在于:所述支座上活动设置有一个过线轮,所述过线轮分为两股,所述过线孔和中心过线管分别对应过线轮一股和过线轮二股。
2.如权利要求1所述的捻线器的转子机构,其特征在于:所述过线轮位于中心过线管的正上方。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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