CN103728683A - 显示基板及其制备方法 - Google Patents
显示基板及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103728683A CN103728683A CN201310729311.7A CN201310729311A CN103728683A CN 103728683 A CN103728683 A CN 103728683A CN 201310729311 A CN201310729311 A CN 201310729311A CN 103728683 A CN103728683 A CN 103728683A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- structural sheet
- base plate
- display base
- different
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 9
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 6
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/852—Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K50/856—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
- H10K59/876—Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本发明提供一种显示基板及其制备方法,属于显示领域,其可解决现有技术中的显示基板出光效率不高的问题。本发明的显示基板,包括分为至少两种不同颜色的显示单元,所述显示基板还包括与各显示单元相对的位于不同区域的多个布拉格反射单元,所述的布拉格反射单元包括折射率不同的交替堆叠的第一结构层和第二结构层,所述的第一结构层和第二结构层的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n分之一,其中,n为第一结构层或第二结构层的折射率。本发明的显示基板出光效率高、能适用于全彩显示。
Description
技术领域
本发明属于显示领域,具体涉及一种显示基板及其制备方法。
背景技术
布拉格反射结构(DBR)一般是采用高折射率材料层和低折射率材料层的相互交叉堆叠的结构形成,同时要求材料在可见光区无吸收。中国专利(CN101478025A)介绍的DBR结构用于提高半导体微腔发光二极管的出光效率。
普通有机电致发光(OLED)器件的出光效率约为20%,提高出光效率是OLED研究中重要的课题。
发明内容
本发明的目的是解决现有技术中的显示基板出光效率不高的问题,提供一种光效率高、全彩显示的显示基板及其制备方法。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板,包括分为至少两种不同颜色的显示单元,所述显示基板还包括与各显示单元相对的位于不同区域的多个布拉格反射单元,所述的布拉格反射单元包括折射率不同的交替堆叠的第一结构层和第二结构层,所述的第一结构层的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率;
所述的第二结构层的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率。
本发明的显示基板具有布拉格反射单元,该布拉格反射单元的第一结构层和第二结构层的厚度具有上述特点,能够提高入射光的出光效率,并实现全彩显示。
优选的是,所述的第一结构层的折射率小于第二结构层的折射率,所述的入射光从第二结构层入射进入所述布拉格反射单元。
优选的是,所述的第一结构层和第二结构层至少各两层。
优选的是,所述的第一结构层的材料是SiO2。
优选的是,所述的第二结构层的材料是SiNx或TiO2。
优选的是,所述的显示单元包括三原色的三种显示单元。
进一步优选的是,所述的三原色分别为红、绿、蓝。
优选的是,所述的显示单元包括发相应颜色光的有机电致发光器件,且布拉格反射单元相对于有机电致发光器件更靠近显示基板出光侧设置。
优选的是,所述的显示单元中包括相应颜色的彩色滤光膜,其中,布拉格反射单元相对于彩色滤光膜更靠近显示基板出光侧设置。
本发明的另一个目的是提供一种光效率高、全彩显示的显示基板的制备方法,包括以下步骤;
1)形成第一结构层
在衬底上沉积第一材料层,通过构图工艺形成包括第一结构层的图形,其中,不同区域的第一结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率;
2)形成第二结构层
在第一结构层上沉积第二材料层,通过构图工艺形成包括第二结构层的图形,其中,不同区域的第二结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率;
3)重复步骤1和步骤2。
优选的是,所述的通过构图工艺形成包括第一结构层的图形,还包括:
在不同区域的第一结构层上形成不同厚度的光刻胶;
对第一结构层进行等离子体刻蚀,使不同区域的第一结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率。
优选的是,所述的通过构图工艺形成包括第二结构层的图形,还包括:
在不同区域的第二结构层上形成不同厚度的光刻胶;
对第二结构层进行等离子体刻蚀,使不同区域的第二结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率。
本发明提供一种显示基板及其制备方法,该显示基板,包括分为至少两种不同颜色的显示单元,所述显示基板还包括与各显示单元相对的位于不同区域的多个布拉格反射单元,所述的布拉格反射单元包括折射率不同的交替堆叠的第一结构层和第二结构层,所述的第一结构层和第二结构层的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n分之一,其中,n为第一结构层或第二结构层的折射率。本发明的显示基板出光效率高、能适用于全彩显示。
附图说明
图1为本发明实施例中显示基板的截面示意图。
图2为本发明实施例中显示基板制作工艺中涂覆二氧化硅后的截面示意图。
图3为本发明实施例中显示基板制作工艺中曝光、显影后的截面示意图。
图4为本发明实施例中显示基板制作工艺中等离子刻蚀后的截面示意图。
图5为本发明实施例中显示基板制作工艺中完成第二结构层后的截面示意图。
其中:
1.第一结构层;2.第二结构层;3.衬底;4.入射光;5.光刻胶;6.显示单元;7.布拉格反射单元。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
如图1所示,本实施例提供一种显示基板及其制备方法,所述的显示基板包括分为至少两种不同颜色的显示单元6,所述显示基板还包括与各显示单元6相对的位于不同区域的多个布拉格反射单元7,所述的布拉格反射单元7包括折射率不同的交替堆叠的第一结构层1和第二结构层2,所述的第一结构层1的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层1的折射率;
所述的第二结构层2的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层2的折射率。制作时,布拉格反射单元7与显示单元6所在的基板进行对盒。
优选的,各布拉格反射单元7的第一结构层1的折射率小于第二结构层2的折射率,入射光4从第二结构层2入射进入布拉格反射单元。
优选的,第一结构层1和第二结构层2至少各两层,如图1所示,第一结构层1和第二结构层2各三层交替堆叠,也可以更多层的交替堆叠这样能使出射光的亮度更高。
优选的,第一结构层1的材料是SiO2。
优选的,第二结构层2的材料是SiNx或TiO2。
优选的,所述的显示单元6包括三原色的三种显示单元。所述的三原色分别为红、绿、蓝。
优选的,显示基板可以为液晶显示基板,显示单元6中包括相应颜色的彩色滤光膜,优选的,彩色滤光膜为全彩显示的三原色彩色滤光膜;优选的,分别为红(R)、绿(G)、蓝(B)彩色滤光膜。当然,也可以是其它种类的三原色。布拉格反射单元7相对于彩色滤光膜更靠近显示基板出光侧设置,即从R、G、B彩色滤光膜上出射的光,经过与各个R、G、B彩色滤光膜相对应的布拉格反射单元7射出,经过布拉格反射单元7的出射光具有方向集中、提高亮度和效率增益,减少光损失等优点。
优选的,显示基板也可以为有机电致发光显示基板,显示单元6也可以为包括发相应颜色光的有机电致发光器件,优选的,有机电致发光器件发出全彩显示的三原色;优选的,三原色为红(R)、绿(G)、蓝(B);当然,也可以是其它种类的三原色。布拉格反射单元7相对于有机电致发光器件更靠近显示基板出光侧设置,即从有机电致发光器件出射的光,经过与各个R、G、B有机电致发光器件相对应的布拉格反射单元射出,经过布拉格反射单元的出射光具有方向集中、提高亮度和效率增益,减少光损失等优点。
本发明实施例提供上述显示基板的制备方法,包括以下步骤:
1)形成第一结构层
在衬底上沉积第一材料层,通过构图工艺形成包括第一结构层的图形,其中,不同区域的第一结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率;
2)形成第二结构层
在第一结构层上沉积第二材料层,通过构图工艺形成包括第二结构层的图形,其中,不同区域的第二结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率;
3)重复步骤1和步骤2。
优选的是,所述的通过构图工艺形成包括第一结构层的图形,还包括:
在不同区域的第一结构层上形成不同厚度的光刻胶;
对第一结构层进行等离子体刻蚀,使不同区域的第一结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率。
优选的是,所述的通过构图工艺形成包括第二结构层的图形,还包括:
在不同区域的第二结构层上形成不同厚度的光刻胶;
对第二结构层进行等离子体刻蚀,使不同区域的第二结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率。
下面结合一个具体的应用场景,对上述的显示基板的制备方法进行说明。
上述显示基板的制备方法,包括如下步骤:
1)形成第一结构层
1.1 沉积低折射率材料层
如图2所示,本实施例中第一结构层1的低折射率材料为SiO2。在衬底3上沉积SiO2层,其厚度为红光波长的4nSiO2分之一,其中,nSiO2为SiO2层的折射率。沉积方法为现有技术范畴,例如,可以采用化学气相沉积法。
1.2 光刻胶的曝光、显影
如图3所示,在上述的二氧化硅上旋涂2.0um厚度的正性光刻胶5,使用预先制备的掩膜板对旋涂的光刻胶5曝光,控制每个与红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)区域相对应区域的曝光量,使在对上述各对应区域进行显影时,R对应的区域光刻胶5没有去除,G对应的区域光刻胶5部分去除,B对应的区域光刻胶5完全去除。控制RGB对应区域的曝光量,并进行显影,使RGB对应区域光刻胶的厚度不同。
1.3 光刻胶的刻蚀
如图4所示:采用等离子体蚀刻方法,对上述的R、G、B对应的区域进行刻蚀,控制上述区域的刻蚀速度,蚀刻结果同时满足如下三种情况。
R对应的光刻胶5完全剥离;
G对应区域的光刻胶5能够完全去除,并对SiO2层进行蚀刻,剩余SiO2的厚度为绿光波长的4nSiO2分之一,其中,nSiO2为SiO2层的折射率;
B对应区域的光刻胶5能够完全去除,并对SiO2层进行蚀刻,剩余SiO2的厚度为蓝光波长的4nSiO2分之一,其中,nSiO2为SiO2层的折射率。
2)形成第二结构层2
如图5所示,第二结构层2的制备步骤与第一结构层1的制备步骤相同,不同的是,该第二结构层2高折射率材料可以为SiNx或者TiO2。
3)形成布拉格反射结构
重复形成第一结构层1和第二结构层2,形成布拉格反射结构,如图1所示。优选的,第一结构层1和第二结构层2的间隔结构可以为多层,多层结构能提高出射光的亮度。
4)形成显示基板
将上述制得的布拉格反射结构与显示单元6所在的基板进行对盒,使不同三原色的显示单元6与相对应区域的布拉格反射单元7相对设置,形成显示基板。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (12)
1.一种显示基板,包括分为至少两种不同颜色的显示单元,其特征在于,所述显示基板还包括与各显示单元相对的位于不同区域的多个布拉格反射单元,所述的布拉格反射单元包括折射率不同的交替堆叠的第一结构层和第二结构层,所述的第一结构层的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率;
所述的第二结构层的厚度为来自对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率。
2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述的第一结构层的折射率小于第二结构层的折射率,所述的入射光从第二结构层入射进入所述布拉格反射单元。
3.如权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述的第一结构层和第二结构层至少各两层。
4.如权利要求1-3任一所述的显示基板,其特征在于,所述的第一结构层的材料是SiO2。
5.如权利要求1-3任一所述的显示基板,其特征在于,所述的第二结构层的材料是SiNx或TiO2。
6.如权利要求1-3任一所述的显示基板,其特征在于,所述的显示单元包括三原色的三种显示单元。
7.如权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述的三原色分别为红、绿、蓝。
8.如权利要求1-3任一所述的显示基板,其特征在于,所述的显示单元包括发相应颜色光的有机电致发光器件,且布拉格反射单元相对于有机电致发光器件更靠近显示基板出光侧设置。
9.如权利要求1-3任一所述的显示基板,其特征在于,所述的显示单元中包括相应颜色的彩色滤光膜,其中,布拉格反射单元相对于彩色滤光膜更靠近显示基板出光侧设置。
10.如权利要求1-9任一所述的显示基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)形成第一结构层
在衬底上沉积第一材料层,通过构图工艺形成包括第一结构层的图形,其中,不同区域的第一结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率;
2)形成第二结构层
在第一结构层上沉积第二材料层,通过构图工艺形成包括第二结构层的图形,其中,不同区域的第二结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率;
3)重复步骤1和步骤2。
11.如权利要求10所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述的通过构图工艺形成包括第一结构层的图形,还包括:
在不同区域的第一结构层上形成不同厚度的光刻胶;
对第一结构层进行等离子体刻蚀,使不同区域的第一结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n1分之一,其中,n1为第一结构层的折射率。
12.如权利要求10所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述的通过构图工艺形成包括第二结构层的图形,还包括:
在不同区域的第二结构层上形成不同厚度的光刻胶;
对第二结构层进行等离子体刻蚀,使不同区域的第二结构层的厚度是来自该区域对应的显示单元的入射光波长的4n2分之一,其中,n2为第二结构层的折射率。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310729311.7A CN103728683A (zh) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 显示基板及其制备方法 |
PCT/CN2014/078504 WO2015096380A1 (zh) | 2013-12-25 | 2014-05-27 | 显示基板及其制备方法 |
US14/415,628 US9543545B2 (en) | 2013-12-25 | 2014-05-27 | Display substrate with bragg reflection unit for each of the display units of at least three primary colors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310729311.7A CN103728683A (zh) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 显示基板及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103728683A true CN103728683A (zh) | 2014-04-16 |
Family
ID=50452834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310729311.7A Pending CN103728683A (zh) | 2013-12-25 | 2013-12-25 | 显示基板及其制备方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9543545B2 (zh) |
CN (1) | CN103728683A (zh) |
WO (1) | WO2015096380A1 (zh) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015096380A1 (zh) * | 2013-12-25 | 2015-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法 |
WO2016150810A1 (de) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | Osram Oled Gmbh | Verfahren zur herstellung eines lichtemittierenden bauelements und lichtemittierendes bauelement |
CN107561767A (zh) * | 2017-08-29 | 2018-01-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光器件、其制备方法以及显示面板 |
CN107808934A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-03-16 | 武汉天马微电子有限公司 | 有机发光显示面板和显示装置 |
CN109728199A (zh) * | 2019-01-03 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 反射电极及其制备方法、有机发光二极管和显示装置 |
CN110299472A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-10-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、显示面板及显示装置 |
CN110707233A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-01-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
WO2022261870A1 (zh) * | 2021-06-16 | 2022-12-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板和显示装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102478497B1 (ko) * | 2017-09-22 | 2022-12-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 헤드 마운트 표시 장치 |
US10340480B1 (en) | 2018-03-01 | 2019-07-02 | Avalon Holographics Inc. | OLED microcavity design and optimization method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060181204A1 (en) * | 2004-01-28 | 2006-08-17 | Furong Zhu | Flexible organic light emitting devices |
US20070091599A1 (en) * | 2005-10-26 | 2007-04-26 | Epistar Corporation | Flat light-emitting apparatus |
CN102124405A (zh) * | 2008-05-30 | 2011-07-13 | 欧帕鲁克斯有限公司 | 可调布拉格堆叠 |
US20130146878A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Jae-hwan Oh | Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9901334D0 (en) | 1998-12-08 | 1999-03-10 | Cambridge Display Tech Ltd | Display devices |
JP3779103B2 (ja) * | 1999-09-06 | 2006-05-24 | シャープ株式会社 | 反射型カラー液晶表示装置 |
JP4412441B2 (ja) | 2000-07-11 | 2010-02-10 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置 |
US7675078B2 (en) * | 2005-09-14 | 2010-03-09 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Pixel structure |
WO2008017490A2 (de) * | 2006-08-09 | 2008-02-14 | Opsolution Nanophotonics Gmbh | Optisches filter und verfahren zur herstellung desselben, sowie vorrichtung zur untersuchung elektromagnetischer strahlung |
JP2010080423A (ja) * | 2008-08-29 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | カラー表示装置及びその製造方法 |
KR101550922B1 (ko) * | 2009-03-10 | 2015-09-07 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자 |
US20120170127A1 (en) | 2009-06-18 | 2012-07-05 | Stephen Kitson | Reflective display device |
KR20120108565A (ko) * | 2011-03-24 | 2012-10-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반사판과 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
JP6303255B2 (ja) * | 2011-12-02 | 2018-04-04 | 株式会社リコー | 面発光レーザ素子及び原子発振器 |
CN103235356B (zh) | 2013-04-16 | 2016-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置 |
CN103728683A (zh) | 2013-12-25 | 2014-04-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法 |
-
2013
- 2013-12-25 CN CN201310729311.7A patent/CN103728683A/zh active Pending
-
2014
- 2014-05-27 WO PCT/CN2014/078504 patent/WO2015096380A1/zh active Application Filing
- 2014-05-27 US US14/415,628 patent/US9543545B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060181204A1 (en) * | 2004-01-28 | 2006-08-17 | Furong Zhu | Flexible organic light emitting devices |
US20070091599A1 (en) * | 2005-10-26 | 2007-04-26 | Epistar Corporation | Flat light-emitting apparatus |
CN102124405A (zh) * | 2008-05-30 | 2011-07-13 | 欧帕鲁克斯有限公司 | 可调布拉格堆叠 |
US20130146878A1 (en) * | 2011-12-12 | 2013-06-13 | Jae-hwan Oh | Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015096380A1 (zh) * | 2013-12-25 | 2015-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制备方法 |
US9543545B2 (en) | 2013-12-25 | 2017-01-10 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display substrate with bragg reflection unit for each of the display units of at least three primary colors |
WO2016150810A1 (de) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | Osram Oled Gmbh | Verfahren zur herstellung eines lichtemittierenden bauelements und lichtemittierendes bauelement |
DE112016001363B4 (de) * | 2015-03-23 | 2021-03-18 | Pictiva Displays International Limited | Verfahren zur Herstellung eines lichtemittierenden Bauelements und lichtemittierendes Bauelement |
CN107561767A (zh) * | 2017-08-29 | 2018-01-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光器件、其制备方法以及显示面板 |
CN107808934A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-03-16 | 武汉天马微电子有限公司 | 有机发光显示面板和显示装置 |
CN109728199A (zh) * | 2019-01-03 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 反射电极及其制备方法、有机发光二极管和显示装置 |
CN110299472A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-10-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、显示面板及显示装置 |
US11469402B2 (en) | 2019-06-28 | 2022-10-11 | Beijing Boe Technology Development Co., Ltd. | Array substrate, display panel and display device |
CN110707233A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-01-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
US11355735B2 (en) | 2019-09-16 | 2022-06-07 | Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Display panel and display device with an optical modulation layer |
WO2022261870A1 (zh) * | 2021-06-16 | 2022-12-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板和显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150188086A1 (en) | 2015-07-02 |
US9543545B2 (en) | 2017-01-10 |
WO2015096380A1 (zh) | 2015-07-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103728683A (zh) | 显示基板及其制备方法 | |
CN110911463B (zh) | Oled显示背板及其制作方法和oled显示装置 | |
CN106526962B (zh) | 光转换膜片、其制备方法及显示设备 | |
EP3270434B1 (en) | Top-emitting organic electroluminescent display panel, manufacturing method thereof and display device | |
WO2017084149A1 (zh) | 彩色滤光基板的制作方法 | |
US20210336096A1 (en) | Display panel and manufacturing method thereof | |
US9691828B2 (en) | Display apparatus having thin films including nanoparticles | |
CN105870358B (zh) | 一种散射层的制备方法、有机发光二极管 | |
US20130299792A1 (en) | Porous Glass Substrate For Displays And Method Of Manufacturing The Same | |
CN103915482A (zh) | 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置 | |
JP2007273397A (ja) | 有機el多色ディスプレイパネル | |
CN104422978A (zh) | 红外线滤除元件 | |
WO2020244291A1 (zh) | 彩膜基板、显示面板及显示面板的制备方法 | |
CN108681145A (zh) | 显示单元结构及形成显示单元结构的方法 | |
CN105489551B (zh) | 显示基板及其制造方法、显示装置 | |
TW201033653A (en) | Color conversion filter panel for color organic el display and color organic el display | |
WO2019205425A1 (zh) | Woled显示面板及其制作方法 | |
CN105676532B (zh) | 光转换膜片、背光模组及显示装置 | |
CN108153041A (zh) | 一种显示面板、背光模组及显示装置 | |
JP2016018734A (ja) | 表示装置及びその製造方法 | |
CN102768378A (zh) | 一种彩色滤光片及其制造方法 | |
US20200150327A1 (en) | Display panel and display device | |
TW202014769A (zh) | 顯示面板及其製造方法 | |
US20170256751A1 (en) | Display panel, method of manufacturing the same and display device | |
Oh et al. | Highly efficient full-color display based on blue LED backlight and electrochromic light-valve coupled with front-emitting phosphors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20140416 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |