CN103721969A - 一种光学基片镀膜前的清洗方法 - Google Patents
一种光学基片镀膜前的清洗方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103721969A CN103721969A CN201210387481.7A CN201210387481A CN103721969A CN 103721969 A CN103721969 A CN 103721969A CN 201210387481 A CN201210387481 A CN 201210387481A CN 103721969 A CN103721969 A CN 103721969A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- optical
- cleaning
- optical base
- ethanol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
本发明涉及一种光学基片镀膜前的清洗方法。该操作方法采用正庚烷代替乙醚和乙醇按一定比例配成混合清洗液,滴在光学清洗无尘布上对光学石英玻璃进行擦拭清洗。在高亮度光学检测灯的照射下,观察基片的去污情况,从而达到基片清洁的目的。用此方法清洗镀膜前的光学基片可以提高光学薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值,提高光学薄膜的使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及光学清洗领域,具体为石英玻璃基底镀膜前的清洗方法。
背景技术
激光薄膜沉积是制备激光系统中光学元件的重要环节,其质量和性能是影响和保证整个系统性能的重要因素。随着大能量、大功率激光系统的发展,光学元件清洁表面的获得与保持变得越来越重要。激光惯性约束骤变装置如美国诺瓦(Nova)装置、美国国家点火装置(NIF)、中国神光系列装置等,其中都包含有大量的激光器件和光学元件。这些高功率激光系统对激光薄膜提出了更高的要求,特别是损伤阈值的提高。探索如何在薄膜制备中引入新的工艺手段和技术,如何制备出高性能、高功率的激光薄膜是目前迫切需要研究的课题。
要想获得具有良好特性的光学薄膜,不但与自身的沉积工艺相关,而且也与基片本身的质量(如有无汽泡,针眼)和抛光水平(表面粗糙度,面型等)及基片镀膜前的最终处理技术密切相关。从目前的使用情况来看,国内提供的激光薄膜的损伤阈值与国际水平仍有较大差距,而造成这个差距的原因之一就是对基底镀膜前表面的清洁技术研究不够深入。目前对光学基片清洗主要使用乙醇和乙醚的混合液,使用这种混合液清洗容易在基片表面形成雾膜,影响基片镀膜后的光学性能和膜层与基片的附着力。
发明内容
本发明涉及一种光学基片镀膜前的清洗方法。
该操作方法采用正庚烷和乙醇按比例配成的混合液,滴在光学清洗无尘布上对光学石英玻璃进行擦拭清洗。在高亮度光学检测灯照射下,观察基片的去污情况,从而达到基片清洁的目的。用此方法清洗镀膜前的光学石英基片对提高薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值有着重要的意义。
对发明新颖性和创造性说明:
传统的乙醚乙醇清洗液,擦拭基片时极易形成雾膜(这种雾膜有时用肉眼很难分辨,镀膜后明显,尤其对石英基底),直接影响基片镀膜后的质量,且乙醚的气味刺鼻,对人体呼吸道粘膜和神经方面影响较大。正庚烷也为挥发性有机溶剂,但气味较乙醚小很多,对人体刺激性较轻微。而单独用正庚烷擦拭时,基底容易吸附擦拭布上或空气中的灰尘,导致镀膜后的基底有针孔现象,影响薄膜的光学特性,加入少量的乙醇可中和这种类似的“静电吸附现象”。因此,用这种混合清洗液加上专业的擦拭手法来清洗光学石英基片,可获得洁净的基底表面,有效提高薄膜的附着力和增强薄膜的抗激光损伤阈值。
发明的效果:
利用本发明方法对石英基底进行清洗,提高了薄膜的光学性能,增加了薄膜与基片的附着力,对增强薄膜的抗激光损伤阈值有着重要的意义。
具体实施方式
1、实验片分为样品1和样品2两个样品,同样都采用光学石英玻璃JGS3,口径100mm,利用zygo轮廓仪测量样品1的表面粗糙度为0.567nm,样品2为0.565nm。
2、样品1采用本发明方法正庚烷和乙醇按4:1体积比例配成的混合有机溶剂,在高亮度光学检测灯(BRAUN NOVAMAT E130)的照射下,用光学无尘布对其擦试清洗,五分钟后得到基片洁净要求(每三平方厘米麻点颗粒小于1颗,肉眼看上去基本无油污,灰尘等);样品2采用传统的乙醚和乙醇按1:1体积比例配成的混合有机溶剂利用同样方法对其进行擦试清洗,八分钟后得到同样标准洁净要求(相比用正庚烷和乙醇溶剂来说,乙醚和乙醇擦试时效率慢,去污力弱,虽然八分钟后在检测灯下观察与样品1外观标准一致,但用此种溶剂擦试基片最后在基片表面留下的雾膜是镀膜前观测不到的,只有镀完膜后才看得出来)
3、利用VECO离子束溅射镀膜机对以上两样片镀Ta2O5/SiO2为材料633nm;1315nm高反膜,膜系为0.481(HL)∧7(HL)∧18H,装夹时两样品位置于行星夹具上相对称,从而保证两样片均匀性一致。
实验结果:
1、外观:在高亮度光学检测灯(BRAUNNOVAMAT E130)下观察,样品1表面均匀光滑,无灰尘颗粒;样品2有轻微雾膜,导致外观膜层不通透,边缘大约1平方厘米起皮。
2、反射率:利用光腔衰荡法测试样品1镀膜后反射率可达99.99%,而样品2反射率只有99.91%。
3、表面粗糙度:利用zygo轮廓仪测量样品1的表面粗糙度为0.367nm,而样品2为0.483nm。
4、薄膜的附着力:对薄膜的附着力的检测采用了剥落实验(用scotch3M胶带覆在薄膜上,然后观察剥离后薄膜是残留在基片上还是从基片上被剥落,由此可以推断附着力的大小)。实验结果表明,样品1经过100次还未剥落。而样品2经过70次就已经剥落了。
5、薄膜的抗激光损伤阈值:对膜层进行了飞秒激光损伤阈值测试,测量的脉宽为300fs,样品1测试结果为0.35J/cm2,而样品2为0.25J/cm2。
结果表明,用本发明方法清洗镀膜前光学石英基片,镀膜后基片外观良好,反射率增加,附着力增加,抗激光损伤阈值也得到了明显提高。
Claims (5)
1.一种光学基片镀膜前的清洗方法,其特征在于:
采用正庚烷和乙醇的混合液作为光学基片清洗液,于光学基片镀膜前对光学基片进行擦拭清洗。
2.按照权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:该光学基片清洗液主要由正庚烷和乙醇组成;清洗液中正庚烷体积含量为70%~90%,乙醇的体积含量为10%~30%。
3.按照权利要求1或2所述的清洗方法,其特征在于:该光学基片清洗液主要由正庚烷和乙醇组成;清洗液中正庚烷最佳体积含量为75-85%,乙醇最佳体积含量为15-25%。
4.按照权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:
于光学基片的镀膜前,采用正庚烷和乙醇配成的混合清洗液,滴在光学清洗无尘布上对光学基片进行擦拭清洗。
5.按照权利要求1所述的清洗方法,其特征在于:光学基片为光学石英玻璃基片或单晶硅基片。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210387481.7A CN103721969A (zh) | 2012-10-12 | 2012-10-12 | 一种光学基片镀膜前的清洗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210387481.7A CN103721969A (zh) | 2012-10-12 | 2012-10-12 | 一种光学基片镀膜前的清洗方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103721969A true CN103721969A (zh) | 2014-04-16 |
Family
ID=50446400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210387481.7A Pending CN103721969A (zh) | 2012-10-12 | 2012-10-12 | 一种光学基片镀膜前的清洗方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103721969A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105583186A (zh) * | 2015-12-21 | 2016-05-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种极紫外光学基底的清洁处理方法 |
CN110512180A (zh) * | 2019-09-11 | 2019-11-29 | 中国矿业大学 | 一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法 |
CN112851145A (zh) * | 2019-11-28 | 2021-05-28 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种基于化学活化的石英玻璃低温直接键合方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030215628A1 (en) * | 2002-05-14 | 2003-11-20 | 3M Innovative Properties Company | Long lasting outdoor tape |
CN1618942A (zh) * | 2003-11-21 | 2005-05-25 | 广州南沙经济技术开发区高奇环保技术有限公司 | 一种用于手机表面护理的带电清洗消毒剂 |
US20060086620A1 (en) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Chase Lee A | Textured decorative plating on plastic components |
CN1900248A (zh) * | 2005-07-22 | 2007-01-24 | 东京应化工业株式会社 | 树脂组合物清除清洗剂 |
CN101084469A (zh) * | 2004-12-20 | 2007-12-05 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 表面图案化和使用受控沉淀式生长的通孔制造 |
CN101101967A (zh) * | 2006-07-05 | 2008-01-09 | 中国科学院化学研究所 | 低成本高性能有机场效应晶体管及制备方法 |
-
2012
- 2012-10-12 CN CN201210387481.7A patent/CN103721969A/zh active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030215628A1 (en) * | 2002-05-14 | 2003-11-20 | 3M Innovative Properties Company | Long lasting outdoor tape |
CN1618942A (zh) * | 2003-11-21 | 2005-05-25 | 广州南沙经济技术开发区高奇环保技术有限公司 | 一种用于手机表面护理的带电清洗消毒剂 |
US20060086620A1 (en) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Chase Lee A | Textured decorative plating on plastic components |
CN101084469A (zh) * | 2004-12-20 | 2007-12-05 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 表面图案化和使用受控沉淀式生长的通孔制造 |
US20090298296A1 (en) * | 2004-12-20 | 2009-12-03 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Surface patterning and via manufacturing employing controlled precipitative growth |
CN1900248A (zh) * | 2005-07-22 | 2007-01-24 | 东京应化工业株式会社 | 树脂组合物清除清洗剂 |
CN101101967A (zh) * | 2006-07-05 | 2008-01-09 | 中国科学院化学研究所 | 低成本高性能有机场效应晶体管及制备方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105583186A (zh) * | 2015-12-21 | 2016-05-18 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种极紫外光学基底的清洁处理方法 |
CN110512180A (zh) * | 2019-09-11 | 2019-11-29 | 中国矿业大学 | 一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法 |
CN112851145A (zh) * | 2019-11-28 | 2021-05-28 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种基于化学活化的石英玻璃低温直接键合方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102649625B (zh) | 一种镀膜用玻璃衬底的清洗方法 | |
Otto et al. | Black silicon photovoltaics | |
TWI425078B (zh) | 用於矽表面及矽層之含粒子蝕刻糊料 | |
CN103721969A (zh) | 一种光学基片镀膜前的清洗方法 | |
FR2963705A1 (fr) | Support a couche diffusante pour dispositif a diode electroluminescente organique, dispositif electroluminescent organique comportant un tel support | |
CN103042008B (zh) | 一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法 | |
CN103885099B (zh) | 一种基于多次迭代刻蚀的透射光学元件损伤阈值提升方法 | |
CN106811328A (zh) | 一种酸性光学玻璃清洗剂及其使用方法 | |
CN104155854A (zh) | 一种低温光刻胶重工剥离液及其应用 | |
JP6424232B2 (ja) | 非水性流体を用いたエレクトロクロミックフィルムからの粒子除去 | |
CN103995441A (zh) | 光阻剥离方法及光阻剥离装置 | |
Huang et al. | Key technique for texturing a uniform pyramid structure with a layer of silicon nitride on monocrystalline silicon wafer | |
CN107675850A (zh) | 一种可降解甲醛的大理石瓷砖及其制备方法 | |
CN106653948A (zh) | 一种太阳能电池及其电池背抛光工艺 | |
CN103952670A (zh) | 一种基于人工缺陷的激光薄膜定量化研究方法 | |
CN102832350B (zh) | 通过ps微球层提高出光率的oled器件及其制造方法 | |
CN105938793B (zh) | 一种针对背镀晶片的清洗工艺 | |
US20100267192A1 (en) | Process to remove metal contamination on a glass substrate | |
CN101838484A (zh) | 一种溶胀型防污闪涂层清除剂及其制备方法 | |
CN104568812A (zh) | 一种复合绝缘子服役寿命的评价方法 | |
CN110922063A (zh) | 一种提升投影仪专用镜片的工艺方法 | |
CN108405456A (zh) | 一种玻璃导光板网点清洗方法 | |
CN102086431B (zh) | 用于太阳能电池基板的洗净液组成物 | |
CN105906218A (zh) | 防眩光玻璃的制备方法 | |
EP2863442A1 (en) | Module-level processing of silicon photovoltaic cells |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140416 |