CN103668090A - 一种真空溅射镀膜靶材 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空溅射镀膜靶材，包括溅镀面，所述溅镀面包括第一水平面（2）和与第一水平面（2）依次连接的第一斜坡面（3）、增高溅镀面（4）、第二斜坡面（5）及第二水平面（6）；第一斜坡面（3）与第一水平面（2）组成第一斜坡角，所述第二斜坡面（5）与第二水平面（6）构成第二斜坡角。本发明通过改变靶材的溅镀面形状及厚度，来调整靶材与基材之间的磁场，使电压平稳，从而使靶材的预溅镀时间缩短，提高了靶材的使用率，薄膜质量提高。
Description
技术领域
本发明涉及一种真空溅射镀膜靶材，属于靶材技术领域。
背景技术
真空溅射镀膜靶材通过在真空磁控环境中，利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击靶材表面，使靶材表面的原子离开靶材并沉积在基材表面。
现有靶材的形态如图1所示，即溅镀面1为平面，对应的机台为恒定电流控制，靶材预溅镀1.5小时后导入生产。在溅镀过程中，发现机台的电压随着时间的进行而升高，导致膜层变厚、回溅物沉积较多，测试电压升高，陷入恶性循环，且缩短了靶材的使用寿命，降低了靶材的使用率。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明目的是提供一种电压稳定、预溅镀时间短、使用率高的真空溅射镀膜靶材。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：
本发明包括溅镀面，其特征在于，所述溅镀面包括第一水平面和与第一水平面依次连接的第一斜坡面、增高溅镀面、第二斜坡面及第二水平面；第一斜坡面与第一水平面组成第一斜坡角，所述第二斜坡面与第二水平面构成第二斜坡角。
上述第一斜坡角的角度为120゜～140゜，所述第二斜坡角的角度为130゜～150゜。
上述增高溅镀面距离第一水平面或第二水平面的垂直高度为5.0～12.0mm。
上述第一斜坡面、增高溅镀面和第二斜坡面表面的粗糙度小于0.8μm。
靶材总厚度为32±5.0mm。
本发明通过改变靶材的溅镀面形状及厚度，来调整靶材与基材之间的磁场，使电压平稳，从而使靶材的预溅镀时间缩短，提高了靶材的使用率，薄膜质量提高。
附图说明
图1为现有技术的真空溅射镀膜靶材侧视图；
图2为本发明的真空溅射镀膜靶材侧视图。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
参见图2，本发明的真空溅射镀膜靶材，包括溅镀面，溅镀面包括第一水平面2和与第一水平面2依次连接的第一斜坡面3、增高溅镀面4、第二斜坡面5及第二水平面6。
用精度较高的铣床加工靶材斜坡面，第一斜坡面3与第一水平面2组成第一斜坡角，第二斜坡面5与第二水平面6构成第二斜坡角。
根据靶材的溅射轨道、机台的特性及成本，设定第一斜坡角180゜-∠A（40゜～60゜）及第二斜坡角180゜-∠B（30゜～50゜）的大小。
第一斜坡角的角度为120゜～140゜，第二斜坡角的角度为130゜～150゜。相对位置根据相应机台的溅射轨迹，通过3D扫描残靶较精确的计算到靶材的溅射区域。
增高溅镀面4距离第一水平面2或第二水平面6的垂直高度为5.0～12.0mm。靶材的斜坡高度根据对应电镀设备磁场中的最优位置。
图2中，X、Y值为靶材宽度的5%～50%。
斜坡面加工采用球形铣刀，研磨抛光斜坡及溅镀面，确保第一斜坡面3、增高溅镀面4和第二斜坡面5表面的粗糙度小于0.8μm。
靶材总厚度为32±5.0mm。
本发明能使真空环境下的磁场稳定，靶材预溅镀0.5小时后，溅镀电压表面稳定，提升溅镀质量。
本发明靶材导入溅镀时，靶材表面的沉积物较少，靶材异常放电现象也未发生，电压也已稳定，现有技术的组合靶材重量为203.0KG，本发明组后后重量为212.0KG，靶材的厚度增加6.0mm，重量仅增加9.0KG，但使用率从30%增加到45%。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (5)
1.一种真空溅射镀膜靶材，包括溅镀面，其特征在于，所述溅镀面包括第一水平面（2）和与第一水平面（2）依次连接的第一斜坡面（3）、增高溅镀面（4）、第二斜坡面（5）及第二水平面（6）；
所述第一斜坡面（3）与第一水平面（2）组成第一斜坡角，所述第二斜坡面（5）与第二水平面（6）构成第二斜坡角。
2.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜靶材，其特征在于，
所述第一斜坡角的角度为120゜～140゜，所述第二斜坡角的角度为130゜～150゜。
3.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜靶材，其特征在于，
所述增高溅镀面（4）距离第一水平面（2）或第二水平面（6）的垂直高度为5.0～12.0mm。
4.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜靶材，其特征在于，
所述第一斜坡面（3）、增高溅镀面（4）和第二斜坡面（5）表面的粗糙度小于0.8μm。
5.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜靶材，其特征在于，靶材总厚度为32±5.0mm。
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