CN103657465A - 一种矿用拌料设备 - Google Patents

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柏云飞
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Abstract

本发明一种矿用拌料设备,包括载体、操作部、马达、动力组、容体、上盖体、及斜置于容体内的拌料体,所述的操作部固定在载体上用于控制马达的运转,所述的马达固定在载体上控制动力组运转,所述的动力组的转轴与容体连接,所述的上盖体安装在容体上方,还包括与所述的操作部电连接的容体清洁组,所述的上盖体上设有若干接管,所述的容体清洁组与所述的接管相连。本发明一种矿用拌料设备,清洁简单方便而且省时省力。

Description

一种矿用拌料设备
技术领域
本发明涉及一种机械设备,尤其涉及一种矿用拌料设备。
背景技术
工矿企业需对一此试剂进行搅拌混合,如将试剂粉料与相应溶媒混合,现有的拌料机在拌料结束后需要进行人工清洗,,清洁费时,需要大量劳动力。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种省时省力的拌料设备。
为了解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:
一种矿用拌料设备,包括载体、操作部、马达、动力组、容体、上盖体、及斜置于容体内的拌料体,所述的操作部固定在载体上用于控制马达的运转,所述的马达固定在载体上控制动力组运转,所述的动力组的转轴与容体连接,所述的上盖体安装在容体上方,还包括与所述的操作部电连接的容体清洁组,所述的上盖体上设有若干接管,所述的容体清洁组与所述的接管相连。
所述的容体清洁组包括空压机、蓄水池、进水管及高压气管,所述的空压机与高压气管连接,所述的蓄水池与进水管连接,所述的高压气管与进水管与所述的接管相连。
与现有技术相比,本发明具有的有益效果为:
本发明增加容体清洁组,采用高压气体与水流冲刷容体内部,清洁简单方便且省时省力。
附图说明
图1为本发明一种矿用拌料设备的容体闭合状态的示意图;
图2为本发明一种矿用拌料设备的容体打开状态的示意图。
图中标记为:载体10、操作部20、容体30、上盖体40、接管41、拌料体50、进水管61、高压气管62。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
如图1至图2所示,一种矿用拌料设备,包括载体10、操作部20、马达(图中未示出)、动力组(图中未示出)、容体30、上盖体40、倾斜设置在容体30内的拌料体50及容体清洁组。
所述操作部20固定在载体10上用于控制马达的运转,马达固定在载体10上控制动力组运转,动力组的转轴与容体30连接,上盖体40安装在容体30上方,上盖体40上设有两接管41,容体清洁组安装在接管41上。
所述容体清洁组包括空压机、蓄水池、进水管61及高压气管62,空压机与高压气管62连接,蓄水池与进水管61连接,将进水管61及高压气管62均与接管41相连,使其喷出的压缩空气及水进入容体30内。
如图1至图2所示,拌料设备在使用过程中,首先打开开关,将容体30倾斜,往容体30内加粉料、稳定剂、乳化剂等;将容体30还原至竖直位置,闭合上盖体40,打开清洁组的进水管61,往容体30内注水,设定注水量;等水量到达时,拌料体50进行搅拌,设定搅拌时间;搅拌一定时间后,再次倾斜容体30,往容体30内加速冻油,再进行闭合二次搅拌,待搅拌结束后,即可将粉团运出。拌料设备在生产结束后还需要及时进行清洗,以便下一次生产,此时,只需打开高压气管62和进水管61,水流在压缩空气的作用下变成高速水雾状,对容体30进行冲刷,清洗效果好,且快捷方便,提高了劳动生产效率。
本技术领域中的普通技术人员应当认识到,以上的实施例仅是用来说明本发明,而并非用作为对本发明的限定,只要在本发明的实质精神范围内,对以上所述实施例的变化、变型都将落在本发明的权利要求范围内。

Claims (2)

1.一种矿用拌料设备,包括载体、操作部、马达、动力组、容体、上盖体、及斜置于容体内的拌料体,所述的操作部固定在载体上用于控制马达的运转,所述的马达固定在载体上控制动力组运转,所述的动力组的转轴与容体连接,所述的上盖体安装在容体上方,其特征在于,还包括与所述的操作部电连接的容体清洁组,所述的上盖体上设有若干接管,所述的容体清洁组与所述的接管相连。
2.如权利要求1所述的一种矿用拌料设备,其特征在于,所述的容体清洁组包括空压机、蓄水池、进水管及高压气管,所述的空压机与高压气管连接,所述的蓄水池与进水管连接,所述的高压气管与进水管与所述的接管相连。
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JP2001239237A (ja) * 2000-02-29 2001-09-04 Sanyo Electric Co Ltd 有機物処理装置
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Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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