CN103612014A - 一种手机电池盖的镭雕工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及镭雕技术领域，具体涉及一种手机电池盖的镭雕工艺。一种手机电池盖的镭雕工艺，包括以下步骤：步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为20℃~30℃，环境的湿度设置为40%~70%；步骤二、利用金属片调整焦距，其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距；步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率；步骤五、镭雕产品。该手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，从而能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。

Description

一种手机电池盖的镭雕工艺
技术领域
本发明涉及镭雕技术领域，具体涉及一种手机电池盖的镭雕工艺。
背景技术
随着手机的发展和普及，人们对手机外观的要求越来越高。为了提高市场竞争力和吸引更多消费者，手机电池盖的外观也相当重要。目前，手机电池盖表面的字母、数字或图案多采用镭雕工艺进行处理，镭雕又叫激光雕刻，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。
现有技术中，对手机电池盖表面进行镭雕处理后，手机电池盖表面会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，从而严重影响了产品的外观质量，提高了废品率，从而提高了生产成本。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种手机电池盖的镭雕工艺，该手机电池盖的镭雕工艺，能够避免手机电池盖表面出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，提高了产品的外观质量，降低了废品率，从而降低了生产成本。
为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为20℃~30℃，所述环境的湿度设置为40%~70%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于所述镭雕机的工作台面，然后将所述镭雕机的激光发射器发出的激光照射在所述金属片的表面，然后调整所述激光发射器与所述金属片的表面之间的距离以使所述激光发射器发出的激光照射在所述金属片的表面发出最亮光，然后将所述金属片移出所述工作台面；
其中，所述金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的所述差距除以2得出中间值，然后将所述激光发射器向下调降所述中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将所述镭雕机的镭雕速度设置为7800mm/s~8200mm/s，镭雕功率设置为35W~45W；
步骤五、镭雕产品：将所述待镭雕的产品放置于所述工作台面，然后进行镭雕所述产品。
上述技术方案中，所述步骤一中，所述环境的温度设置为25℃。
上述技术方案中，所述环境的湿度设置为50%。
上述技术方案中，所述步骤二中，所述金属片为铝片或铁片或铜片或银片或不锈钢片。
上述技术方案中，所述步骤四中，所述镭雕速度设置为8000mm/s。
上述技术方案中，所述步骤四中，所述镭雕功率设置为40W。
本发明的有益效果是：
（1）本发明提供的一种手机电池盖的镭雕工艺，由于先利用金属片调整焦距，再根据产品的镭雕面微调焦距，从而避免了手机电池盖表面出现表面异色的问题，即避免了所镭雕的产品表面颜色产生差异。
（2）本发明提供的一种手机电池盖的镭雕工艺，由于镭雕机的镭雕速度设置为7800mm/s~8200mm/s，镭雕功率设置为35W~45W，从而使得所镭雕的产品表面不会出现表面烧焦和油漆未雕透的问题。
（3）本发明提供的一种手机电池盖的镭雕工艺，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
（4）本发明提供的一种手机电池盖的镭雕工艺，该镭雕工艺具有工艺简单、操作便捷的优点。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为25℃，环境的湿度设置为50%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为铝片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为8000mm/s，镭雕功率设置为40W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例1的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例2。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为22℃，环境的湿度设置为60%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为铁片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为7800mm/s，镭雕功率设置为35W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例2的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例3。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为30℃，环境的湿度设置为70%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为铜片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为8200mm/s，镭雕功率设置为45W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例3的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例4。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为20℃，环境的湿度设置为40%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为银片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为7900mm/s，镭雕功率设置为38W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例4的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例5。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为27℃，环境的湿度设置为65%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为不锈钢片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为8100mm/s，镭雕功率设置为42W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例5的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例6。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为24℃，环境的湿度设置为48%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为铝片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为7950mm/s，镭雕功率设置为39W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例6的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例7。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为28℃，环境的湿度设置为67%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为铝片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为8050mm/s，镭雕功率设置为43W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例7的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
实施例8。
一种手机电池盖的镭雕工艺，它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为23℃，环境的湿度设置为43%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于镭雕机的工作台面，然后将镭雕机的激光发射器发出的激光照射在金属片的表面，然后调整激光发射器与金属片的表面之间的距离以使激光发射器发出的激光照射在金属片的表面发出最亮光，然后将金属片移出工作台面；
其中，金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
本实施例中，金属片为铁片；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的差距除以2得出中间值，然后将激光发射器向下调降中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将镭雕机的镭雕速度设置为7850mm/s，镭雕功率设置为36W；
步骤五、镭雕产品：将待镭雕的产品放置于工作台面，然后进行镭雕产品。
利用本实施例8的手机电池盖的镭雕工艺，能够使得所镭雕的产品表面不会出现表面异色、表面烧焦和油漆未雕透的问题，该镭雕工艺能够提高产品的外观质量，降低废品率，从而降低生产成本。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (6)

1.一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：它包括以下步骤：
步骤一、设定环境温度和湿度：将镭雕机所在的环境的温度设置为20℃~30℃，所述环境的湿度设置为40%~70%；
步骤二、利用金属片调整焦距：将一块金属片放置于所述镭雕机的工作台面，然后将所述镭雕机的激光发射器发出的激光照射在所述金属片的表面，然后调整所述激光发射器与所述金属片的表面之间的距离以使所述激光发射器发出的激光照射在所述金属片的表面发出最亮光，然后将所述金属片移出所述工作台面；
其中，所述金属片表面的高度与待镭雕的产品的最高镭雕面的高度相同；
步骤三、根据产品的镭雕面微调焦距：测量待镭雕的产品的最高镭雕面和最低镭雕面之间的差距，将所测得的所述差距除以2得出中间值，然后将所述激光发射器向下调降所述中间值对应的距离；
步骤四、设定镭雕速度和镭雕功率：将所述镭雕机的镭雕速度设置为7800mm/s~8200mm/s，镭雕功率设置为35W~45W；
步骤五、镭雕产品：将所述待镭雕的产品放置于所述工作台面，然后进行镭雕所述产品。
2.根据权利要求1所述的一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：所述步骤一中，所述环境的温度设置为25℃。
3.根据权利要求1所述的一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：所述环境的湿度设置为50%。
4.根据权利要求1所述的一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：所述步骤二中，所述金属片为铝片或铁片或铜片或银片或不锈钢片。
5.根据权利要求1所述的一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：所述步骤四中，所述镭雕速度设置为8000mm/s。
6.根据权利要求1所述的一种手机电池盖的镭雕工艺，其特征在于：所述步骤四中，所述镭雕功率设置为40W。
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