CN103607846A - 一种挠性印刷基板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种挠性印刷基板制造方法,依次包括如下步骤:(1)在聚酰亚胺基板中形成过孔,(2)在形成过孔后的聚酰亚胺基板上用溅射的方法形成晶种层;所述晶种层被形成在聚酰亚胺的两个表面以及过孔的孔壁上;(3)将聚酰亚胺基板置入电镀液中,从而在晶种层的上镀铜,以形成铜箔层;(4)采用光刻工艺,在聚酰亚胺基板的铜箔层上形成电路图形;(5)对形成电路图形后的聚酰亚胺基板进行后处理,完成挠性基板的制作。
Description
技术领域
本发明涉及一种印刷基板领域,特别是涉及一种挠性印刷基板的制造方法。
背景技术
挠性印刷基板(flexible printed circuit board,FPCB)由于其特殊的可弯折性质,因此大量的应用于便携式电子设备中。
目前,挠性印刷基板是通过使用挠性覆铜板作为基板材料制造的。挠性覆铜板是通过将铜箔层粘贴到聚酰亚胺膜的表面上,通过对铜箔层的图形化,从而形成电路图形构造。现有技术中,制造方法主要是使用聚酰亚胺膜、粘合剂和铜箔依次堆叠而形成三层结构,其中,聚酰亚胺膜和铜箔利用粘合剂相互附着。然而,通过粘合剂的制造方法还存在许多问题,例如粘合力不足而导致铜箔层的翘起。
发明内容
本发明针对现有技术存在的问题,提供一种挠性印刷基板的制造方法,该方法不仅能够制造质量优良的挠性基板,避免铜箔层的翘起,而且能够通过减小挠性印刷基板的整体厚度。
本发明提出的挠性印刷基板制造方法,依次包括如下步骤:
(1)在聚酰亚胺基板中形成过孔,
(2)在形成过孔后的聚酰亚胺基板上用溅射的方法形成晶种层;所述晶种层被形成在聚酰亚胺的两个表面以及过孔的孔壁上;
(3)将聚酰亚胺基板置入电镀液中,从而在晶种层的上镀铜,以形成铜箔层;
(4)采用光刻工艺,在聚酰亚胺基板的铜箔层上形成电路图形;
(5)对形成电路图形后的聚酰亚胺基板进行后处理,完成挠性基板的制作。
具体实施方式
本发明提出的挠性印刷基板制造方法,依次包括如下步骤:
(1)在聚酰亚胺基板中形成过孔,
(2)在形成过孔后的聚酰亚胺基板上用溅射的方法形成晶种层;所述晶种层被形成在聚酰亚胺的两个表面以及过孔的孔壁上;
(3)将聚酰亚胺基板置入电镀液中,从而在晶种层的上镀铜,以形成铜箔层;
(4)采用光刻工艺,在聚酰亚胺基板的铜箔层上形成电路图形;
(5)对形成电路图形后的聚酰亚胺基板进行后处理,完成挠性基板的制作。
其中,步骤(1)中,可以通过使用计算机数字控制钻孔技术形成来形成过孔,也可以使用紫外线激光钻孔来形成过孔。
当采用计算机数字控制钻孔技术来形成过孔时,可将多片聚酰亚胺基板叠置在一起,一次性完成过孔的制作,这样可以提高过孔的效率,但是这种方法不适于精细过孔的制作,因为叠置在一起的聚酰亚胺基板在过孔制作过程中,钻孔时聚酰亚胺基板的每片基板之间可能会发生相对移动,从而导致钻孔产生较大误差。
如果需要形成精细的过孔,可以使用UV激光钻孔技术,激光源波长范围为355μm的UV。通过使用UV激光钻孔,可以形成更精细的过孔。在本发明中,优选使用紫外激光钻孔技术,过孔的孔径范围是50-70微米。
步骤(2)中,晶种层利用溅射方法形成,晶种层为镍铬合金(Ni-Cr)、铜(Cu)或者镍(Ni)形成。溅射方法是通过用惰性元素轰击金属板从金属板中移出金属分子,然后在金属板表面上粘附层来进行的。形成晶种层的溅射电压为650-750伏特,晶种层的厚度为800-1000埃;
步骤(3)中,通过将具有晶种层的聚酰亚胺基板浸入硫酸铜溶液中,通电后在晶种层上电镀铜箔层;电镀工艺采用本领域常规的工艺即可,铜箔层的厚度可根据实际需要来确定,在本发明中无需特别限定铜箔层的厚度。当然,如果是采用紫外激光钻孔技术制作的过孔,由于其孔径范围是50-70微米,因此,此时电镀铜波层的厚度必须根据过孔的孔径做调整。
步骤(5)中,所述的后处理是对聚酰亚胺基板进行清洗,以便去除附着在基板表面上的杂质。
优选实施例:
在本优选实施例中,挠性基板的制造方法与前文所述相同,优选的是:
其中,步骤(1)中,使用紫外线激光钻孔来形成过孔,激光源波长范围为355μm的UV,过孔的孔径是60微米。
步骤(2)中,晶种层为镍铬合金(Ni-Cr),形成晶种层的溅射电压为700伏特,晶种层的厚度为900埃;
步骤(5)中,所述的后处理是对聚酰亚胺基板进行清洗,可采用去离子水冲洗后风干。
根据本发明提出的挠性印刷基板制造方法,由于使用溅射方法形成晶种层,从而在晶种层上进行电镀铜以便形成铜箔层,因此避免了使用粘合剂来形成铜箔层,也就克服了现有技术中存在的问题。
至此已对本发明做了详细的说明,但前文的描述的实施例仅仅只是本发明的优选实施例,其并非用于限定本发明。本领域技术人员可对本发明做任何的修改,而本发明的保护范围由所附的权利要求来限定。
Claims (3)
1.一种挠性印刷基板制造方法,依次包括如下步骤:
(1)在聚酰亚胺基板中形成过孔,
(2)在形成过孔后的聚酰亚胺基板上用溅射的方法形成晶种层;所述晶种层被形成在聚酰亚胺的两个表面以及过孔的孔壁上;
(3)将聚酰亚胺基板置入电镀液中,从而在晶种层的上镀铜,以形成铜箔层;
(4)采用光刻工艺,在聚酰亚胺基板的铜箔层上形成电路图形;
(5)对形成电路图形后的聚酰亚胺基板进行后处理,完成挠性基板的制作。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:
步骤(1)中,可以通过使用计算机数字控制钻孔技术形成来形成过孔,也可以使用紫外线激光钻孔来形成过孔;
当采用计算机数字控制钻孔技术来形成过孔时,可将多片聚酰亚胺基板叠置在一起,一次性完成多片聚酰亚胺基板过孔的制作;当使用UV激光钻孔技术时,激光源波长范围为355μm的UV,过孔的孔径范围是50-70微米;
步骤(2)中,晶种层利用溅射方法形成,晶种层为镍铬合金(Ni-Cr)、铜(Cu)或者镍(Ni)形成;溅射电压为650-750伏特,晶种层的厚度为800-1000埃;
步骤(5)中,所述的后处理是对聚酰亚胺基板进行清洗,以便去除附着在基板表面上的杂质。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于:
优选地,步骤(1)中,过孔的孔径是60微米;
步骤(2)中,晶种层为镍铬合金(Ni-Cr),形成晶种层的溅射电压为700伏特,晶种层的厚度为900埃。
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