CN103594513B - 半导体器件及其制造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011435 rock Substances 0.000 claims description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 2
- 229910015846 BaxSr1-xTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005898 GeSn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020696 PbZrxTi1−xO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 SiN Chemical class 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66787—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a gate at the side of the channel
- H01L29/66795—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a gate at the side of the channel with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种半导体器件，包括衬底、衬底上沿第一方向延伸的鳍片、鳍片上沿第二方向延伸的栅极堆叠结构，其特征在于：鳍片的下部分的材料导电性小于鳍片的上部分。本发明还提供了一种半导体器件制造方法，依照本发明的半导体器件及其制造方法，在鳍片沟道区下方刻蚀形成孔洞并且可以进一步填充氧化物，有效减小了沟道区底部泄漏电流同时还避免结电流和结电容增大，提高了器件性能。
Description
技术领域
本发明涉及半导体集成电路制造领域，更具体地，涉及一种FinFET及其制造方法。
背景技术
随着半导体器件的尺寸持续等比例缩小，出现了阈值电压随沟道长度减小而下降的问题，也即在半导体器件中产生了短沟道效应。为了抑制这种短沟道效应，业界采用了鳍片场效应晶体管(FinFET)的新结构，也即在体Si或者SOI衬底的顶部薄硅层中形成多个相互平行的垂直于衬底的硅鳍片(Fin)，在这些硅Fin中部形成沟道区、以及在两端形成源漏区，而控制栅极则横跨这些多个硅Fin分布。控制栅极包围了沟道区的顶面以及部分侧面，因此能够增强栅控能力。
然而，FinFET中鳍片的高宽比通常较大，并且控制栅极通常仅分布在鳍片顶部附近(例如鳍片下部埋设在STI氧化物中)，也即控制栅极仅包围了鳍片靠近顶面的部分侧面，对于鳍片沟道区底部控制能力较弱。在鳍片沟道区底部的泄漏电流成为制约FinFET发展的一个重要挑战。
现有的一种减小鳍片沟道区底部泄漏电流的方法是使用高阱区掺杂，也即在鳍片沟道区下方(通常埋设在STI氧化物中)的区域中施加大剂量、大浓度的掺杂，使得该区域与其上的FinFET具有不同的导电类型，例如对于PMOSFET而言为n+掺杂，对于NMOS而言为p+掺杂。这种高阱区掺杂可以利用pn结实现底部隔离，减小泄漏电流，因此也称作穿通阻挡层(PTS)。
然而，这种PTS具有的高浓度除了会减小沟道区底部泄漏电流之外，还会使得阱区自身的结电流增大并且自身结电容增大，这些寄生参数的增大会大大影响器件整体性能，特别是高频响应。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于减小FinFET底部泄漏电流，同时避免结电流和结电容增大。
实现本发明的上述目的，是通过提供一种半导体器件，包括衬底、衬底上沿第一方向延伸的鳍片、鳍片上沿第二方向延伸的栅极堆叠结构，其特征在于：鳍片的下部分的材料导电性小于鳍片的上部分。
其中，鳍片的下部分为由空气或者绝缘体填充的孔洞。
其中，鳍片的上部分的晶向为(110)或者(112)，衬底的晶向为(100)。
本发明还提供了一种半导体器件制造方法，包括：刻蚀衬底，形成沿第一方向延伸的鳍片，其中鳍片的上部分的侧面与鳍片的下部分的侧面晶向不同；各向异性刻蚀鳍片，刻蚀鳍片的下部分形成孔洞；在鳍片上沉积垫层和隔离氧化层；刻蚀垫层和隔离氧化层，露出鳍片的上部分；在鳍片的上部分上沉积沿第二方向延伸的栅极堆叠结构。
其中，衬底由不同晶向的第一衬底和第二衬底键合形成，刻蚀衬底形成鳍片时鳍片的下部分由第一衬底构成，鳍片的上部分由第二衬底构成。
其中，鳍片的上部分的侧面为{111}面。
其中，刻蚀衬底之前还包括在衬底上沉积盖层，盖层包括氧化硅、氮化硅及其组合。
其中，沉积垫层和隔离氧化层的同时还采用绝缘体填充了孔洞。
其中，采用TMAH湿法刻蚀来各向异性刻蚀鳍片。
其中垫层和/或隔离氧化层包括氧化硅、氮化硅及其组合。
依照本发明的半导体器件及其制造方法，在鳍片沟道区下方刻蚀形成孔洞并且可以进一步填充氧化物，有效减小了沟道区底部泄漏电流同时还避免结电流和结电容增大，提高了器件性能。
附图说明
以下参照附图来详细说明本发明的技术方案，其中：
图1至图6为根据本发明的半导体器件制造方法各个步骤的剖视图。
具体实施方式
以下参照附图并结合示意性的实施例来详细说明本发明技术方案的特征及其技术效果。需要指出的是，类似的附图标记表示类似的结构，本申请中所用的术语“第一”、“第二”、“上”、“下”、“厚”、“薄”等等可用于修饰各种器件结构。这些修饰除非特别说明并非暗示所修饰器件结构的空间、次序或层级关系。
参照图1，提供衬底。提供第一衬底100，其材质例如是体Si、体Ge、GaAs、SiGe、GeSn、InP、InSb、GaN等等，并且优选体Si(例如单晶Si晶片)。第一衬底100例如为(100)面。提供第二衬底110，其材质与第一衬底100相同，例如均是体Si晶片。第二衬底例如是(110)、(210)、(211)、(112)、(310)、(311)、(320)等面，并且优选(110)或者(112)面。通过晶片键合，使得不同晶向的第一衬底100和第二衬底110结合成为鳍片的生长衬底。其中，第二衬底110的厚度必须要大于稍后要形成的鳍片的高度。
如图2所示，刻蚀衬底，形成鳍片以及源漏接触区。图2B所示为器件的顶视图，图2A为图2B沿直线AA’的剖视图。在衬底100/110上通过PECVD、HDPCVD等方式沉积盖层120，其材质例如为氧化硅、氮化硅及其组合，用于在稍后刻蚀中保护衬底顶部，以避免在鳍片顶部沟道区中引入过多缺陷。采用各向异性的刻蚀方法，刻蚀衬底100/110，形成鳍片结构，包括上部鳍片110和下部鳍片100。特别地，控制刻蚀参数，使得刻蚀完成之后得到的鳍片结构的侧面的晶向不同。例如，不同的衬底沿不同方向刻蚀可以得到不同的侧面：(100)衬底沿中轴线方向垂直刻蚀得到晶向为{100}(其中{}表示晶面族，例如{100}面其实包括(100)、(010)、(001)、(-100)、(0-10)、(00-1)六个晶面，在本发明的实施例中表示{100}晶面族中与(100)垂直的一个或多个晶面，以下类似)的侧面，沿与中轴线夹角45度的方向垂直刻蚀得到晶向为{110}的侧面，其余类似。此外，不同的晶向的衬底在键合时，进行角度旋转，可以在不同衬底上刻蚀出不同晶向的侧面：(112)衬底与(100)衬底键合之前，(100)衬底顺时针旋转45度(或者(112)衬底逆时针旋转45度)，键合之后统一沿(112)衬底的与中轴线垂直的方向进行刻蚀，即可在(100)衬底上得到晶向为{110}的侧面，在(110)衬底上得到晶向为{111}的侧面。由此，可以使得上部鳍片110的侧面为{111}面，而下部鳍片100的侧面为除了{111}面之外的其他面。如图2B所示，除了形成鳍片之外，还在鳍片的两端形成源漏接触区。鳍片可以沿平行于衬底表面的第一方向延伸，也即未来器件沟道区方向。
如图3所示，刻蚀鳍片，在鳍片底部形成孔洞。图3A为刻蚀完成之后沿图2中线AA’的剖视图，图3B为沿图2中线BB’的剖视图。采用各向异性的刻蚀方法，例如采用TMAH刻蚀Si，对鳍片进行刻蚀，在鳍片底部形成孔洞130。由于上部鳍片110的侧面为{111}面，在TMAH刻蚀液中刻蚀速度最慢，因此鳍片上部由原第二衬底110构成的部分将基本不被刻蚀，而由原第一衬底100构成的下部鳍片在鳍片区域将被完全刻蚀去除，从而在上部鳍片110的下方留下孔洞。与此同时，在源漏接触区域，由于图案较之鳍片要宽厚，因此第一衬底100仍有部分保留，只是其宽度要小于第二衬底110部分。
如图4所示，在鳍片和衬底上形成垫层、以及隔离氧化层。通过LPCVD、PECVD、HDPCVD、快速热氧化(RTO)等方法，在鳍片结构120/110/130上沉积垫氧化层140以及优选地垫氮化层150(140、150共同构成垫层)。在垫层140/150上、多个鳍片结构之间通过类似方法沉积氧化硅、氮化硅及其组合的材料构成的隔离氧化层160，用于器件之间的绝缘隔离保护。此时，上部鳍片110下方的孔洞130可以保持由空气填充，或者在沉积垫层140/150时一并填充了氧化硅、氮化硅及其组合的材料而形成了绝缘体下层鳍片130A(其中图4中左侧130代表为空气，右侧130A代表填充了绝缘体)，总之孔洞130或者绝缘体130A构成的鳍片的下部分的导电性能小于鳍片的上部分。该空气填充的孔洞130或者绝缘体下层鳍片130A可以有效减少泄漏电流，同时又不会带来由于高掺杂引起的结电流和结电容的问题。
如图5所示，刻蚀隔离氧化层以及垫层，形成栅极沟槽，暴露鳍片。采用碳氟基刻蚀气体并调整刻蚀参数，依次刻蚀隔离氧化层160、垫氮化层150以及垫氧化层140，直至露出上部鳍片110。暴露出的上部鳍片110A将在后续工艺中用作器件的沟道区。
如图6所示，在暴露的鳍片上形成栅极堆叠结构。采用PECVD、HDPCVD、MOCVD、MBE、ALD等方式沉积栅极介质层170，其材质为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、高k材料及其组合，其中高k材料包括但不限于氮化物(例如SiN、AlN、TiN)、金属氧化物(主要为副族和镧系金属元素氧化物，例如Al2O3、Ta2O5、TiO2、ZnO、ZrO2、HfO2、CeO2、Y2O3、La2O3)、钙钛矿相氧化物(例如PbZrxTi1-xO3(PZT)、BaxSr1-xTiO3(BST))。通过MOCVD、MBE、ALD、蒸发、溅射等方法，在栅极沟槽中栅极介质层170上形成栅极电极层180，其材质为Cu、Al、Ti、Mo、Ta、W及其组合，优选地，栅极电极层180与栅极介质层170之间还形成有TiN、TaN材质的阻挡层/功函数调节层(未示出)。其中，虽然图6中并未示出，但是栅极堆叠结构170/180沿不同于第一方向的第二方向延伸，优选地垂直于第一方向。
最终形成的器件结构如图6所示，至少包括衬底100、衬底100上沿第一方向延伸的鳍片110、鳍片110上沿第二方向延伸的栅极堆叠结构，其中鳍片110下方还包括孔洞130或者绝缘体下层鳍片130A。其他的器件结构和材料如方法描述中所述，在此不再赘述。
依照本发明的半导体器件及其制造方法，在鳍片沟道区下方刻蚀形成孔洞并且可以进一步填充氧化物，有效减小了沟道区底部泄漏电流同时还避免结电流和结电容增大，提高了器件性能。
尽管已参照一个或多个示例性实施例说明本发明，本领域技术人员可以知晓无需脱离本发明范围而对形成器件结构的方法做出各种合适的改变和等价方式。此外，由所公开的教导可做出许多可能适于特定情形或材料的修改而不脱离本发明范围。因此，本发明的目的不在于限定在作为用于实现本发明的最佳实施方式而公开的特定实施例，而所公开的器件结构及其制造方法将包括落入本发明范围内的所有实施例。
Claims (7)
1.一种半导体器件制造方法，包括：
刻蚀由不同晶向的第一衬底和第二衬底键合形成的衬底，形成沿第一方向延伸的鳍片，以及在鳍片两端的源漏接触区，其中鳍片的上部分的侧面与鳍片的下部分的侧面晶向不同，衬底与鳍片的晶向不同；
各向异性刻蚀鳍片，在鳍片区域完全刻蚀去除鳍片的下部分以形成孔洞，在源漏接触区域第一衬底部分保留；
在鳍片上沉积垫层和隔离氧化层；
刻蚀垫层和隔离氧化层，露出鳍片的上部分；
在鳍片的上部分上沉积沿第二方向延伸的栅极堆叠结构。
2.如权利要求1的方法，其中，刻蚀衬底形成鳍片时鳍片的下部分由第一衬底构成，鳍片的上部分由第二衬底构成。
3.如权利要求1的方法，其中，鳍片的上部分的侧面为{111}面。
4.如权利要求1的方法，其中，刻蚀衬底之前还包括在衬底上沉积盖层，盖层包括氧化硅、氮化硅及其组合。
5.如权利要求1的方法，其中，沉积垫层和隔离氧化层的同时还采用绝缘体填充了孔洞。
6.如权利要求1的方法，其中，采用TMAH湿法刻蚀来各向异性刻蚀鳍片。
7.如权利要求1的方法，其中垫层和/或隔离氧化层包括氧化硅、氮化硅及其组合。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201210293573.9A CN103594513B (zh) | 2012-08-16 | 2012-08-16 | 半导体器件及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201210293573.9A CN103594513B (zh) | 2012-08-16 | 2012-08-16 | 半导体器件及其制造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103594513A CN103594513A (zh) | 2014-02-19 |
| CN103594513B true CN103594513B (zh) | 2017-09-15 |
Family
ID=50084584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201210293573.9A Active CN103594513B (zh) | 2012-08-16 | 2012-08-16 | 半导体器件及其制造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103594513B (zh) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9000522B2 (en) * | 2013-01-09 | 2015-04-07 | International Business Machines Corporation | FinFET with dielectric isolation by silicon-on-nothing and method of fabrication |
| US9064890B1 (en) * | 2014-03-24 | 2015-06-23 | Globalfoundries Inc. | Methods of forming isolation material on FinFET semiconductor devices and the resulting devices |
| CN103928521B (zh) * | 2014-04-04 | 2017-04-26 | 唐棕 | 一种鳍型半导体结构及其成型方法 |
| CN103904122B (zh) * | 2014-04-04 | 2017-04-26 | 唐棕 | 一种鳍型半导体结构及其成型方法 |
| CN107636809B (zh) * | 2015-06-27 | 2023-01-13 | 英特尔公司 | 用于隧穿场效应晶体管的截止状态寄生漏电减少 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7777275B2 (en) * | 2006-05-18 | 2010-08-17 | Macronix International Co., Ltd. | Silicon-on-insulator structures |
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| US8101486B2 (en) * | 2009-10-07 | 2012-01-24 | Globalfoundries Inc. | Methods for forming isolated fin structures on bulk semiconductor material |
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| CN102157554A (zh) * | 2010-02-12 | 2011-08-17 | 中国科学院微电子研究所 | 鳍式晶体管结构及其制作方法 |
-
2012
- 2012-08-16 CN CN201210293573.9A patent/CN103594513B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103594513A (zh) | 2014-02-19 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |