CN103578751A - 电容器用小宽度金属化镀膜 - Google Patents
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Abstract
一种电容器用小宽度金属化镀膜,涉及电容器技术领域,包括基膜和蒸镀在基膜上金属镀层,所述金属镀层蒸镀在基膜的上下两面上,所述金属镀层与基膜的边缘处设有空白留边,位于基膜上面的金属镀层为镀铝层,位于基膜下面的金属镀层为镀锌层,所述镀铝层和镀锌层的表面上涂覆有硅油层。本发明能够使电容器生产成本降低20%,体积减小15%,同时在金属化层增加硅油涂层,等于为金属层增加了一个“油封”,减少金属化层和空气的接触,增加金属化膜的抗氧化能力。
Description
技术领域
本发明涉及电容器技术领域,具体涉及一种电容器用小宽度金属化镀膜。
背景技术
薄膜电容器是一种性能优越的电容器,其具有如下主要特性:无极性,绝缘阻抗很高,频率特性优异,介质损失很小,并且体积小容量大。因此,薄膜电容器有着较为广泛的用途,可以形成不同的系列产品,如高比能储能电容器、抗电磁干扰电容器、抗辐射电容器、安全膜电容器、长寿命电容器、高可靠电容器、高压全膜电容器等。随着电子整机向数字化、高频化、多功能化以及向薄、轻、小、便携等方向发展,电容器不可避免的要向体积小、性能优、价格更低的方向发展。研发小型电容器用金属化膜,可以有效减少电容器体积,改善电容器的产品性能。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种降低生产成本,减小产品体积的电容器用小宽度金属化镀膜。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种电容器用小宽度金属化镀膜,包括基膜和蒸镀在基膜上金属镀层,所述金属镀层蒸镀在基膜的上下两面上,所述金属镀层与基膜的边缘处设有空白留边,位于基膜上面的金属镀层为镀铝层,位于基膜下面的金属镀层为镀锌层,所述镀铝层和镀锌层的表面上涂覆有硅油层。
所述的基膜为聚丙烯基膜。
所述基膜上下两面上的金属镀层厚度相同。
本发明的有益效果是:本发明能够使电容器生产成本降低20%,体积减小15%,同时在金属化层增加硅油涂层,等于为金属层增加了一个“油封”,减少金属化层和空气的接触,增加金属化膜的抗氧化能力。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示,一种电容器用小宽度金属化镀膜,包括基膜10和蒸镀在基膜10上金属镀层20,金属镀层20蒸镀在基膜10的上下两面上,金属镀层20与基膜10的边缘处设有空白留边,位于基膜10上面的金属镀层20为镀铝层201,位于基膜10下面的金属镀层20为镀锌层202,镀铝层201和镀锌层202的表面上涂覆有硅油层203,基膜10为聚丙烯基膜,基膜10上下两面上的金属镀层20厚度相同。经使用试验验证,本实施例金属化镀膜真空包装的保质期为8个月,暴露在空气下保质期也可以达到40天。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (3)
1.一种电容器用小宽度金属化镀膜,其特征在于:包括基膜和蒸镀在基膜上金属镀层,所述金属镀层蒸镀在基膜的上下两面上,所述金属镀层与基膜的边缘处设有空白留边,位于基膜上面的金属镀层为镀铝层,位于基膜下面的金属镀层为镀锌层,所述镀铝层和镀锌层的表面上涂覆有硅油层。
2.根据权利要求1所述的电容器用小宽度金属化镀膜,其特征在于:所述的基膜为聚丙烯基膜。
3.根据权利要求1所述的电容器用小宽度金属化镀膜,其特征在于:所述基膜上下两面上的金属镀层厚度相同。
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