CN103563675B - 一种铁皮石斛栽培装置 - Google Patents
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Abstract
本发明的铁皮石斛栽培装置，包括：支撑装置，其包含有转动机构；栽培柱，呈管状，其竖直设置在支撑装置上，所述栽培柱包括中空的管，且在管壁上开有若干个孔，在所述管的外壁上包覆有培养基质；以及套筒，其固定设置在架体上，位于所述栽培柱的上方，所述栽培柱中空的管延伸入套筒内；其中，在动力驱动下带动所述转动机构转动，所述转动机构带动所述栽培柱转动。本发明的铁皮石斛栽培装置，其结构简单、充分发挥铁皮石斛的生长特点，单柱栽培装置占地面积小，造价低廉，便于推广使用。
Description
技术领域
本发明涉及一种植物栽培装置，尤其涉及一种铁皮石斛栽培装置。
背景技术
石斛属气生兰科草本植物，石斛中的铁皮石斛等具有极高的药用价值，被称作“软黄金”或植物中的“大熊猫”。中华药典《道藏》把它列为中华九大仙草之首，其所具有的滋阴生津、益五脏、清虚热以及增强免疫功能和调节体内平衡等功能已被历代药典所记载。长期以来，由于对野生石斛的过度开采，野生石斛资源遭受严重破坏，目前我国政府已将野生石斛列入国家二类保护植物，因此国内铁皮石斛资源奇缺。
野生铁皮石斛的习性宜生长在温暖、湿润、少光照、适当透风、根系透气好、排水好的环境中丛生，需要附着树木、崖缝进行爬升或吊挂生长。目前各地相继建立了铁皮石斛人工种植基地，大都采用大棚平面垄地种植或种植床平面种植等种植方式，现有种植技术普遍存在产量低，易烂根、成活率不高、植株透气不好、质量不佳、易受病虫害、易受水灾、难管理等诸多问题，平面种植效果不理想，很难进行集约化种植或农户分散种植的推广。
发明内容
为克服现有技术的不足，本发明的目的是提供一种铁皮石斛栽培装置，该栽培装置能为铁皮石斛提供一个较好的生长环境，且结构简单。
为解决以上技术问题，本是发明提供了以下技术方案：
一种铁皮石斛栽培装置，包括：
支撑装置，其包含有转动机构；
栽培柱，呈管状，其竖直设置在支撑装置上，所述栽培柱包括中空的内管，且在管壁上开有若干个孔，在所述内管的外壁上包覆有培养基质；以及
套筒，其固定设置在架体上，位于所述栽培柱的上方，所述栽培柱中空的内管延伸入套筒内；
其中，在动力驱动下带动所述转动机构转动，所述转动机构带动所述栽培柱转动；
在包覆有培养基质区域对应的所述栽培柱上方设置有灌溉装置，所述的灌溉装置包括滴灌管和滴头，滴灌管设置在栽培柱的上部；在所述栽培柱的下方设置有导水槽。
优选的是，所述的包覆是用网或开有若干个孔的外管进行包覆。。
优选的是，所述的开有若干个孔的外管，所述的孔均匀分布在管壁上。
优选的是，分布在内管壁同一竖直线上的孔的距离为5cm～10cm，圆周上的距离为5-8CM。
优选的是，所述中空的内管直径为3cm～4cm。
优选的是，所述的培养基质厚度为5cm～10cm。
本发明的有益效果：本发明的铁皮石斛栽培装置，采用管状结构的栽培柱，栽培柱包括有中空的管，管壁上开有若干个孔，在种植铁皮石斛时，使栽培装置具有良好的空气流通，利于铁皮石斛的生长；在支撑装置上设有转动机构，当栽培柱一侧的铁皮石斛受到阳光照射时，另一侧铁皮石斛需要阳光照射时，可直接转动栽培柱，使铁皮石斛生长趋势均匀；栽培柱呈管状结构，竖直放置，符合铁皮石斛的生长习性，且占地面积小。进一步的，在包覆用的开有若干个孔的管，铁皮石斛种植时呈螺旋状栽培，栽培距离为20cm～40cm，使种植在孔中的铁皮石斛生长互不干扰，保持良好的生长趋势。本发明的铁皮石斛栽培装置，其结构简单、充分发挥铁皮石斛的生长特点，单柱栽培装置占地面积小，造价低廉，便于推广使用。
附图说明
图1为本发明铁皮石斛栽培装置的结构示意图；
图2为图1铁皮石斛栽培装置的主视图；
图3为本发明铁皮石斛栽培装置另一个实施例的结构示意图。
其中，1、内管；2、外管；3、套筒；4、滴灌管；5、滴头；6、架体；7、导水槽；8、支撑装置；10、网；11、轴承；12、支架杆。
具体实施方式
以下参照附图并结合具体实施方式来进一步描述本发明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施，本发明保护范围并不受制于本发明的实施方式。
实施例1
如图1和图2所示，一种铁皮石斛栽培装置，包括：
支撑装置8，其包含有转动机构为轴承11；
栽培柱，呈管状，其竖直设置在支撑装置8上，所述栽培柱包括中空的内管1，且在管壁上开有若干个孔A，在所述内管1的外壁上包覆有培养基质；以及套筒3，其固定设置在架体6上，位于所述栽培柱的上方，所述栽培柱中空的内管1延伸入套筒3内，在所述的架体6上安装有支架杆12，用于支撑固定架体6；
其中，在动力驱动下带动轴承11转动，所述轴承11带动所述栽培柱转动。
所述的包覆是用开有若干孔B的外管2进行包覆。
在包覆有培养基质区域对应的所述栽培柱上方设置有灌溉装置，所述的滴灌装置包括滴灌管4和滴头5，滴灌管4设置在栽培柱的上部。
所述包覆用的开有若干孔B的外管2，所述的孔B均匀分布在管壁上，铁皮石斛种植时呈螺旋状栽培。
在所述栽培柱的下方设置有导水槽7，用于接灌溉时渗透到栽培柱底部的水，并引导排出。
所述包覆用的开有若干个孔B的外管2，分布在在同一竖直线上的孔B的距离为20cm～40cm。分布在内管壁同一竖直线上的孔的距离为5cm～10cm，圆周上的距离为5-8CM。
所述中空的内管1直径为3cm～40cm。
所述的包覆培养基质厚度为5cm～10cm。
具体操作步骤如下：将内管1的一端竖直设置在支撑装置8内，并套入在位于支撑装置8内的轴承12内圈中，另一端套在套筒3内，当施加外力转动栽培柱时，可将栽培柱转到另一个面，在内管1的外壁包覆培养基质，然后用开有若干孔B的外管2进行包覆并固定，将铁皮石斛种植在孔B中，铁皮石斛种植时呈螺旋状栽培。在包覆有培养基质区域对应的所述栽培柱上方设置有灌溉装置，所述的灌溉装置包括滴灌管4和滴头5，滴灌管4设置在栽培柱的上部，当滴灌装置对铁皮石斛进行滴灌时，多余的水渗透带栽培柱的底部，在栽培柱的下方设置有导水槽7，接收多余的水并排出。种植后根据铁皮石斛生长的需要可以施加外力转动栽培柱，使另一面铁皮石斛植株得到阳光的照射，使铁皮石斛植株光照均匀，生长趋势良好。
实施例2
如图3所示，一种铁皮石斛栽培装置，其特征在于：包括：
支撑装置8，其包含有转动机构为轴承11；
栽培柱，呈管状，其竖直设置在支撑装置8上，所述栽培柱包括中空的内管1，且在管壁上开有若干个孔A，在所述内管1的外壁上包覆有培养基质；以及套筒3，其固定设置在架体6上，位于所述栽培柱的上方，所述栽培柱中空的内管1延伸入套筒3内，在所述的架体6上安装有支架杆12，用于支撑固定架体6；
其中，在动力驱动下带动轴承11转动，所述轴承11带动所述栽培柱转动。
所述的包覆是用网10进行包覆，可将铁皮石斛种植在孔B中，铁皮石斛种植时呈螺旋状栽培。
在包覆有培养基质区域对应的所述栽培柱上方设置有灌溉装置，所述的滴灌装置包括滴灌管4和滴头5，滴灌管4设置在栽培柱的上部。
在所述栽培柱的下方设置有导水槽7，用于接灌溉时渗透到栽培柱底部的水，并引导排出。分布在内管壁同一竖直线上的孔的距离为5cm～10cm，圆周上的距离为5-8CM。
所述中空的内管1直径为3cm～4cm。
所述的包覆培养基质厚度为5cm～10cm。
具体操作步骤如下：将内管1的一端竖直设置在支撑装置8内，并套入在位于支撑装置8内的轴承12内圈中，另一端套在套筒3内，当施加外力转动栽培柱时，可将栽培柱转到另一个面，在内管1的外壁包覆培养基质，然后用网10进行包覆，将铁皮石斛种植在网10的孔中，种植间隔呈螺旋状分布在栽培柱上，种植在同一竖直线上的网孔的距离为20cm～40cm，在包覆有培养基质区域对应的所述栽培柱上方设置有灌溉装置，所述的滴灌装置包括滴灌管4和滴头5，滴灌管4设置在栽培柱的上部，当滴灌装置对铁皮石斛进行滴灌时，多余的水渗透带栽培柱的底部，在栽培柱的下方设置有导水槽7，接收多余的水并排出。种植后根据铁皮石斛生长的需要可以施加外力转动栽培柱，使另一面铁皮石斛植株得到阳光的照射，使铁皮石斛植株光照均匀，生长趋势良好。
以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于本发明的专利保护范围中。
Claims (6)
1.一种铁皮石斛栽培装置，其特征在于：包括：
支撑装置，其包含有转动机构；
栽培柱，呈管状，其竖直设置在支撑装置上，所述栽培柱包括中空的内管，且在管壁上开有若干个孔，在所述内管的外壁上包覆有培养基质；以及
套筒，其固定设置在架体上，位于所述栽培柱的上方，所述栽培柱中空的内管延伸入套筒内；
其中，在动力驱动下带动所述转动机构转动，所述转动机构带动所述栽培柱转动；
在包覆有培养基质区域对应的所述栽培柱上方设置有灌溉装置，所述的灌溉装置包括滴灌管和滴头，滴灌管设置在栽培柱的上部；在所述栽培柱的下方设置有导水槽。
2.根据权利要求1所述的铁皮石斛栽培装置，其特征在于：所述的包覆是用网或开有若干个孔的外管进行包覆。
3.根据权利要求2所述的铁皮石斛栽培装置，其特征在于：所述的开有若干个孔的外管，所述的孔均匀分布在管壁上。
4.根据权利要求3所述的铁皮石斛栽培装置，其特征在于：分布在内管壁同一竖直线上的孔的距离为5cm～10cm，圆周上的距离为5-8CM。
5.根据权利要求1所述的铁皮石斛栽培装置，其特征在于：所述中空的内管直径为3cm～4cm。
6.根据权利要求1所述的铁皮石斛栽培装置，其特征在于：所述的培养基质厚度为5cm～10cm。
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