CN103531666B - 一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法。其特点是,包括如下步骤:(1)在1#预清洗槽内加入双氧水溶液并且浸没过返工片,溶液中双氧水质量浓度为4%—6%,同时配合超声清洗返工片,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间300s—550s;(2)在2#预清洗槽内加入纯水并且浸没过返工片,控制温度为55℃—65℃,同时配合超声对返工片进行漂洗,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间250s—300s。经过试用证明,采用本发明的方法后,返工硅片表面油污、白斑、手印等脏污经过清洗后完全洗净,降低硅片的报废比例30%以上。

Description

一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法
技术领域
本发明涉及一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法。
背景技术
在物理冶金法单晶太阳能电池片生产过程中,由于人员操作失误、工艺稳定性不足或原材料原因,不可避免的会产生返工片。物理冶金法单晶太阳能电池片的生产过程主要包括以下几个流程:清洗制绒;扩散;刻蚀、去PSG;PECVD;丝网印刷、烧结、测试分选。可做返工处理的返工片主要是丝网印刷、烧结、测试分选前的几道工序产生的返工片。
其中清洗制绒工序返工片类型主要包括:油污片、手印片、白斑片、局部泛白片、雨点片、水痕印片。扩散工序返工片类型包括:高方阻片、低方阻片、烧焦片、脏片。刻蚀工序返工片类型包括:过刻片、脏片。PECVD工序返工片类型包括:彩虹片、膜过厚片、膜过薄片。上述返工片的出现,若不做返工处理,它不仅影响物理冶金法单晶太阳能电池片的外观还会影响转换效率。
发明内容
本发明的目的是提供一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法,能够减少电池片生产过程中返工片数量,提高返工片的转换效率及成品率。
一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法,其特别之处在于,包括如下步骤:
(1)在1#预清洗槽内加入双氧水溶液并且浸没过返工片,溶液中双氧水质量浓度为4%—6%,同时配合超声清洗返工片,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间300s—550s;
(2)在2#预清洗槽内加入纯水并且浸没过返工片,控制温度为55℃—65℃,同时配合超声对返工片进行漂洗,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间250s—300s。
当制绒槽内的溶液为刚失效的溶液时,先将制绒槽内的溶液排掉1/3,然后注入等量纯水稀释溶液,然后在溶液内补加添加剂、NaOH和异丙醇,控制每升稀释后的溶液加入1.55mL添加剂,8.2gNaOH,10mL异丙醇;最后将步骤(2)得到的返工片在上述制绒槽内进行清洗制绒工序即可。
其中返工片是指清洗制绒工序、扩散工序或刻蚀工序产生的返工片。
其中返工片是指PECVD工序产生的返工片,并且先用质量浓度为8%—15%的HF溶液浸泡该返工片28—35分钟,从而将其表面的减反射膜去掉,最后干燥即可。
其中添加剂采用单晶硅片制绒辅助剂。
经过试用证明,采用本发明的方法后,返工硅片表面油污、白斑、手印等脏污经过清洗后完全洗净,降低硅片的报废比例30%以上,减少了由于物理冶金法返工硅片所需的化学品的使用量10%左右。
具体实施方式
本发明主要从以下几个方面解决上述技术问题,其中PECVD工序的返工片先用溶液浓度为10%HF溶液将其表面的减反射膜泡掉,浸泡时间为30分钟,甩干后将其和其它工序的返工片统一返回清洗制绒工序做统一处理。在清洗制绒工序预清洗采用高浓度H2O2和超声清洗结合,调节温度和清洗时间,配合满产状态下刚刚失效的制绒溶液,调整浓度、温度、制绒时间、单批化学品补加量。其中刚刚失效的制绒溶液具体是指:例如根据生产经验,制绒槽内新配置好的溶液恰好可以对10000片125硅片进行制绒,那么当10000片125硅片制绒完毕后即视为刚刚失效的制绒溶液,此时溶液酸度过高已经不再适合制绒。
实施例1:
1、在1#预清洗槽内加入双氧水溶液,溶液浸没过返工片(本例中返工片顶端位于液面下方1cm处),溶液中双氧水质量浓度为5.3%,同时配合超声进行清洗返工片(超声功率及频率范围:1.8kW,频率30kHz,时间400s);
2、在2#预清洗槽内加纯水,纯水浸没过返工片(本例中返工片顶端位于液面下方1cm处),控制温度为60℃,配合超声对返工片进行漂洗(超声功率及频率范围:1.8kW,频率30kHz;时间250s);
上述清洗完毕后的返工片可以直接用于正常的清洗制绒工序,也可以配合下列重新激活后的制绒槽内溶液进行清洗制绒,从而进一步节约成本。
1、制绒槽内的溶液采用刚失效的165L溶液,先将制绒槽内的溶液排掉55L溶液,然后注入新的纯水55L稀释溶液,然后在稀释后的溶液内补加添加剂(即单晶硅片制绒辅助剂,昆山大远化工科技有限公司、制绒添加剂型号DY-810)、NaOH和异丙醇,用量为每一升稀释液补加1.55mL添加剂,8.2gNaOH,10mL异丙醇。
2、完成1#、2#预清洗槽配制、制绒槽溶液激活后:
①分别取清洗制绒工序中产生的白斑、手印、脏污片等返工片2000片;扩散工序中产生的高方阻、低方阻、烧焦片等返工片2000片;刻蚀工序中产生的过刻、手印、脏污片等返工片2000片;PECVD工序产生的彩虹片、膜厚片、膜薄片等返工片2000片。
②先将PECVD工序产生的返工片用质量浓度为10%的HF溶液浸泡该返工片30分钟,从而将其表面的减反射膜去掉,最后干燥。
③将上述各工序产生的返工片分别插入花篮,放入提篮(每花篮25片,每提篮200片)。
④经过1#、2#预清洗槽的预清洗、制绒槽内制绒、最后酸洗即可完成整个清洗制绒过程,再经过扩散、刻蚀去PSG、PECVD、丝网印刷、测试分选即可完成电池片的整个制成过程。

Claims (3)

1.一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)在1#预清洗槽内加入双氧水溶液并且浸没过返工片,溶液中双氧水质量浓度为4%—6%,同时配合超声清洗返工片,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间300s—550s;
(2)在2#预清洗槽内加入纯水并且浸没过返工片,控制温度为55℃—65℃,同时配合超声对返工片进行漂洗,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间250s—300s;
(3)当制绒槽内的溶液为刚失效的溶液时,先将制绒槽内的溶液排掉1/3,然后注入等量纯水稀释溶液,然后在溶液内补加添加剂、NaOH和异丙醇,控制每升稀释后的溶液加入1.55mL添加剂,8.2gNaOH,10mL异丙醇;最后将步骤(2)得到的返工片在上述制绒槽内进行清洗制绒工序即可;
其中添加剂采用单晶硅片制绒辅助剂。
2.如权利要求1所述的一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法,其特征在于:其中返工片是指清洗制绒工序、扩散工序或刻蚀工序产生的返工片。
3.如权利要求1所述的一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法,其特征在于:其中返工片是指PECVD工序产生的返工片,并且先用质量浓度为8%—15%的HF溶液浸泡该返工片28—35分钟,从而将其表面的减反射膜去掉,最后干燥即可。
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WO2010080069A2 (en) * 2009-01-06 2010-07-15 Frontken (Singapore) Pte Ltd Techniques for maintaining a substrate processing system
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