CN103512787A - 协助三维定位和去吸头的装置 - Google Patents

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CN103512787A
CN103512787A CN201310494305.8A CN201310494305A CN103512787A CN 103512787 A CN103512787 A CN 103512787A CN 201310494305 A CN201310494305 A CN 201310494305A CN 103512787 A CN103512787 A CN 103512787A
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宋云霞
刘尊亮
吴芸
胡万道
赵玉娇
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Abstract

一种协助三维定位和去吸头的装置,它包括壳体(3),壳体(3)的内部为便于收藏吸头的中空结构,其特征是所述的壳体(3)的上表面设有去吸头槽(1),该去吸头槽(1)由槽孔(5)和与槽孔(5)相连通的、供吸头进入的空位(4)组成,在所述的去吸头槽(1)的前后均设有三维运动定位孔(2)。本发明既能实现三维定位,又能有效地去除吸头,同时还不会对工作台造成污染,具有结构简单,制造方便,使用可靠的优点。

Description

协助三维定位和去吸头的装置
技术领域
本发明涉及一种医疗检测装置,尤其是一种生化检测装置使用的辅助设备,具体地说是一种协助全自动样品处理系统使用的协助三维定位和去吸头的装置。
背景技术
目前,随着临床检验事业的发展,样品前处理系统得到越来越多的应用,大多样品前处理系统为避免交叉污染问题,采用一次性吸头,这就存在一次性彻底去掉吸头和三维定位的问题。在气动置换吸头时,紧紧依靠气动力,吸头不易掉落,因此,常常出现有的吸头掉落,有的吸头未掉落等现象,此外,在加样枪初始化和去吸头时如果定位不准,就会出现触碰X、Y、Z三维定位和去吸头装置,造成电机失步,影响实验运行,甚至造成实验失败。为此有必须设计一种多路去吸头槽,它既能对加样枪进行X、Y、Z三维定位,确定定位基点,又能有效去吸头,同时防止剩余液体在吸头掉落时溅在工作台面污染、腐蚀仪器,甚至造成使用者感染现象的发生。
发明内容
本发明的目的是针对现有的全自动样品处理系统因缺少相应的去吸头装置而影响实验进行的问题,设计一种协助三维定位和去吸头的装置。
本发明的技术方案是:
一种协助三维定位和去吸头的装置,它包括壳体3,壳体3的内部为便于收藏吸头的中空结构,其特征是所述的壳体3的上表面设有去吸头槽1,该去吸头槽1由槽孔5和与槽孔5相连通的、供吸头进入的空位4组成,在所述的去吸头槽1的前后部设有三维运动定位孔2。
所述的去吸头槽1的数量为八个,与各去吸头槽1相连通的空位4连成一个整体长条形空槽。
本发明的有益效果:
    本发明既能实现三维定位,又能有效地去除吸头,同时还不会对工作台造成污染,具有结构简单,制造方便,使用可靠的优点。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图2是本发明去除吸头示意图。
图3是定位示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
如图1-3所示。
   一种协助三维定位和去吸头的装置,它包括壳体3,壳体3的内部为便于收藏吸头的中空结构,所述的壳体3的上表面设有8个去吸头槽1,该去吸头槽1由槽孔5和与槽孔5相连通的、供吸头进入的空位4组成,与各去吸头槽1相连通的空位4连成一个整体长条形空槽。如图1所示,在所述的去吸头槽1的前后部各设有两个三维运动定位孔2。定位孔2的作用是对加样枪进行X、Y、Z三维定位,确定定位基点,防止在加样枪初始化和去吸头时定位不准,出现触碰X、Y、Z三维定位和去吸头装置,造成电机失步,影响实验运行,甚至造成实验失败,如图3所示;壳体3的作用是起到导向和防止剩余液体在吸头掉落时溅在工作台面的作用,污染、腐蚀仪器,甚至造成使用者感染。去吸头槽一边由8个槽孔5组成,另一边由一排空位4,当加样枪运动到空位,垂直下降到空位4下,然后在X轴方向上向移近槽孔里侧,最后Z轴在气动力作用下上提,从而彻底去掉吸头,如图2所示。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。

Claims (2)

1.一种协助三维定位和去吸头的装置,它包括壳体(3),壳体(3)的内部为便于收藏吸头的中空结构,其特征是所述的壳体(3)的上表面设有去吸头槽(1),该去吸头槽(1)由槽孔(5)和与槽孔(5)相连通的、供吸头进入的空位(4)组成,在所述的去吸头槽(1)的前后均设有三维运动定位孔(2)。
2.根据权利要求1所述的协助三维定位和去吸头的装置,其特征是所述的去吸头槽(1)的数量为八个,与各去吸头槽(1)相连通的空位(4)连成一个整体长条形空槽。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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