CN103418568B - 一种用于光刻工艺的溶剂清洗池 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于光刻工艺的溶剂清洗池，该溶剂清洗池安装在光阻涂覆机构的一侧；特点是，该溶剂清洗池内依次分隔设置有若干个单独的溶剂清洗单元；每个溶剂清洗单元的底部分别通过管道吐出稀释剂；每个溶剂清洗单元的顶部分别设置有通孔，用于放置光阻喷嘴位于原始位置。所述的每个溶剂清洗单元根据放置其中的光阻喷嘴所吐出的光阻类型，以相应的流速和频率由管道吐出与所述光阻类型相对应的稀释剂。本发明为每个光阻喷嘴设置单独的溶剂清洗单元，并且对于每种类型的光阻采用相应的稀释剂以及稀释剂吐出速率和频率，能有效避免不同光阻之间的相互影响，提高溶剂清洗池工作效率以及晶圆的涂覆质量。
Description
技术领域
本发明属于半导体制造技术领域，涉及一种用于半导体工艺制程的溶剂清洗池，尤其是指用于光刻工艺的溶剂清洗池。
背景技术
在现有的半导体光刻工艺流程中，通常一部光刻轨道机（PHTrackTool）具有4个光阻涂覆机构（CoaterUnit），而每个光阻涂覆机构中都能设置4种不同的光阻。但是每个光阻涂覆机构却只设置有一个溶剂清洗池。
如图1所示，为现有技术中的光阻涂覆机构的溶剂清洗池的结构示意图。所述的溶剂清洗池1’安装在光阻涂覆机构的一侧，其底部通过管道4’吐出稀释剂（Thinner）；其顶部设置有4个通孔2’，用于分别放置能够涂覆4种不同光阻的4个光阻喷嘴3’，使4个光阻喷嘴3’位于原始位置（HomePosition）。
当需要对晶圆表面进行光阻涂覆时，利用步进电机驱动其中一个光阻手臂移动，从而带动该光阻手臂上的一个光阻喷嘴3’移动至晶圆中心上方位置进行光阻涂覆。
当完成光阻涂覆之后，同样利用步进电机驱动光阻手臂，从而使该光阻手臂上的光阻喷嘴3’移动至溶剂清洗池1’的顶部通孔2’内，返回原始位置；此时，光阻喷嘴3’的顶端伸入放置在溶剂清洗池1’内。为了保护光阻质量并且防止光阻喷嘴3’顶端的光阻结晶凝固，溶剂清洗池1’从底部管道4’以一定的流速和频率吐出稀释剂，使得稀释剂在溶剂清洗池1’内部以一定的流速和频率在光阻喷嘴3’顶端周围流动，从而保证光阻不会结晶凝固，以便于该光阻喷嘴3’可随时对晶圆表面进行光阻涂覆，不会耽误整个光刻工艺流程的进行。
但是，现有技术所使用的溶剂清洗池存在以下问题，4种分别用来涂覆不同类型光阻的光阻喷嘴共享一个溶剂清洗池，也就是说，4种不同类型的光阻使用同一种稀释剂进行清洗。而各种不同类型的光阻可能具有完全不同的特性，分别需要不同种类的稀释剂进行清洗才更为合适。如果共享同一种稀释剂，可能其中一种光阻会影响另一种光阻的特性，并且导致其余光阻喷嘴顶端的结晶凝固，进而直接影响晶圆表面的光阻涂覆效果或产生彩纹。
另外，由于不同的光阻需要溶剂清洗池以不同的流速和频率吐出稀释剂对其进行保护和清洗，如果四种光阻共享一个溶剂清洗池的话，就必须采用其中最高的流速和频率以兼容适用于所有4种光阻的清洗需要，长期以往，会加速溶剂清洗池的损耗从而使得维护成本大大提高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于光刻工艺的溶剂清洗池，其为每个光阻喷嘴设置单独的溶剂清洗单元，并且对于每种类型的光阻采用相应的稀释剂以及稀释剂吐出速率和频率，能有效避免不同光阻之间的相互影响，提高溶剂清洗池工作效率以及晶圆的涂覆质量。
为了达到上述目的，本发明的技术方案是提供一种用于光刻工艺的溶剂清洗池，该溶剂清洗池安装在光阻涂覆机构的一侧；特点是，该溶剂清洗池内依次分隔设置有若干个单独的溶剂清洗单元；每个溶剂清洗单元的底部分别通过管道吐出稀释剂；每个溶剂清洗单元的顶部分别设置有通孔，用于放置光阻喷嘴位于原始位置。
所述的每个溶剂清洗单元根据放置其中的光阻喷嘴所吐出的光阻类型，由管道吐出与所述光阻类型相对应的稀释剂。
所述的每个溶剂清洗单元根据放置其中的光阻喷嘴所吐出的光阻类型，以相应的流速和频率吐出稀释剂。
本发明所提供的用于光刻工艺的溶剂清洗池，为每个光阻喷嘴设置单独的溶剂清洗单元，能保护各种不同类型的光阻质量，使其相互间不受影响，且能够有效防止光阻喷嘴顶端的光阻结晶凝固，可随时对晶圆表面进行光阻涂覆，不会耽误整个光刻工艺流程的进行，并且能够提高晶圆的涂覆质量。
本发明所提供的用于光刻工艺的溶剂清洗池，对于每种类型的光阻分别采用相应的稀释剂以及稀释剂吐出速率和频率，有效提高溶剂清洗池工作效率，降低维护成本。
附图说明
图1是现有技术中用于光刻工艺的溶剂清洗池的结构示意图；
图2是本发明中用于光刻工艺的溶剂清洗池的结构示意图。
具体实施方式
以下结合图2，通过详细描述来说明本发明的具体实施方式。
如图2所示，为本发明中用于光刻工艺的溶剂清洗池的结构示意图。所述的溶剂清洗池1安装在光阻涂覆机构的一侧，该溶剂清洗池1内依次分隔设置有若干个单独的溶剂清洗单元11，每个溶剂清洗单元11的底部分别通过管道4吐出稀释剂，每个溶剂清洗单元11的顶部分别设置有通孔2，用于放置光阻喷嘴3位于原始位置。
每个溶剂清洗单元11根据放置其中的光阻喷嘴3所吐出的光阻类型，由管道4吐出与所述光阻类型相对应的稀释剂。
每个溶剂清洗单元11根据放置其中的光阻喷嘴3所吐出的光阻类型，以相应的流速和频率吐出稀释剂。
当需要对晶圆表面进行光阻涂覆时，利用步进电机驱动其中一个光阻手臂移动，从而带动该光阻手臂上的一个光阻喷嘴3移动至晶圆中心上方位置进行光阻涂覆。
当完成光阻涂覆之后，同样利用步进电机驱动光阻手臂，从而使该光阻手臂上的光阻喷嘴3移动至与其对应的溶剂清洗单元11的顶部通孔2内，返回原始位置；此时，光阻喷嘴3的顶端伸入放置在与其对应的溶剂清洗单元11内。
为了保护光阻质量并且防止光阻喷嘴3顶端的光阻结晶凝固，溶剂清洗单元11从底部管道4以与所述光阻相应的流速和频率吐出稀释剂，使得稀释剂在该溶剂清洗单元11内部以一定的流速和频率在光阻喷嘴3顶端周围流动，从而保证光阻不会结晶凝固，以便于该光阻喷嘴3可随时对晶圆表面进行光阻涂覆，不会耽误整个光刻工艺流程的进行。
本发明所提供的用于光刻工艺的溶剂清洗池，为每个光阻喷嘴设置单独的溶剂清洗单元，能保护各种不同类型的光阻质量，使其相互间不受影响，且能够有效防止光阻喷嘴顶端的光阻结晶凝固，可随时对晶圆表面进行光阻涂覆，不会耽误整个光刻工艺流程的进行，并且能够提高晶圆的涂覆质量。
本发明所提供的用于光刻工艺的溶剂清洗池，对于每种类型的光阻分别采用相应的稀释剂以及稀释剂吐出速率和频率，有效提高溶剂清洗池工作效率，降低维护成本。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
Claims (2)
1.一种用于光刻工艺的溶剂清洗池，该溶剂清洗池（1）安装在光阻涂覆机构的一侧；其特征在于，
所述的溶剂清洗池（1）内依次分隔设置有若干个单独的溶剂清洗单元（11）；
所述的每个溶剂清洗单元（11）的底部分别通过管道（4）吐出稀释剂；
所述的每个溶剂清洗单元（11）的顶部分别设置有通孔（2），用于放置光阻喷嘴（3）；
所述的每个溶剂清洗单元（11）根据放置其中的光阻喷嘴（3）所吐出的光阻类型，以相应的流速和频率吐出稀释剂。
2.如权利要求1所述的用于光刻工艺的溶剂清洗池，其特征在于，所述的每个溶剂清洗单元（11）根据放置其中的光阻喷嘴（3）所吐出的光阻类型，由管道（4）吐出与所述光阻类型相对应的稀释剂。
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