CN103412462B - 一种掩膜板及液晶面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种掩膜板及液晶面板，涉及半导体制造技术领域，为不需要改善硬件设备条件而使过孔具有较小的尺寸而设计。所述掩膜板包括板体，所述板体上设有孔，从所述孔的边缘向孔内部延伸形成有多个凸起。所述液晶面板包括过孔，所述过孔由前述的掩膜板制得。本发明掩膜板适用于过孔的制备。

Description

一种掩膜板及液晶面板
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种掩膜板及液晶面板。
背景技术
在液晶显示器中，过孔例如用于连接漏电极和像素电极。过孔的大小决定了漏电极的大小，从而决定了薄膜晶体管（TFT，ThinFilmTransistor）的大小。
减小过孔尺寸有利于降低薄膜晶体管的大小，而降低薄膜晶体管的大小可以提高像素的开口率，从而可以增加显示亮度和减少背光源的功耗。因此，减小过孔的尺寸对于提高显示器的性能和节约能源有着重要的意义。
在现有技术中，过孔的制备工艺涉及：薄膜沉积、光刻（包括曝光、显影等）和刻蚀（包括干法刻蚀和湿法刻蚀）等工艺。其中，光刻方面在曝光时采用具有光滑内圆弧形状过孔的掩膜板。设计的目标是追求过孔尺寸越小越好，但是现有的设备条件限制了过孔尺寸的减小。例如，对于光刻方面，受限于曝光机的分辨率，现有的常规形貌的过孔尺寸往往不能少于4μm，如果小于该尺寸的话，曝光机便无法使光刻胶充分曝光。
因此，为了制备出尺寸更小的过孔，可以考虑改善硬件设备条件。但是现有的薄膜沉积、光刻及刻蚀设备改善成本过大；而且，刻蚀之后形成的过孔尺寸往往大于曝光显影工艺中对应的过孔尺寸，由于薄膜沉积、刻蚀等工艺水平依托于现有的设备硬件参数，工艺水平提升的难度较大，因此在现有的工艺水平下，刻蚀之后的过孔尺寸与曝光显影后的过孔尺寸的差值降低效果有限。
上述原因均导致过孔的缩小遇到了瓶颈。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种掩膜板及液晶面板，能够不需要改善硬件设备条件而使过孔具有较小的尺寸。
为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种掩膜板，包括板体，所述板体上设有孔，从所述孔的边缘向孔内部延伸形成有多个凸起。
进一步地，所述凸起的顶角处设有圆角或倒角。
在一些实施例中，所述孔为圆形孔，所述凸起的位置相对于所述孔的中心呈中心对称分布。
具体的，各个所述凸起具有相同的形状和尺寸。
而且所述凸起的个数不超过12个。
在另一些实施例中，所述孔为矩形孔，所述凸起均匀分布在所述矩形孔的任意两个对边上，并且所述凸起的位置呈中心对称分布。
具体的，各个所述凸起具有相同的形状和尺寸。
其中，所述矩形的两个对边的长度小于另两个对边的长度，所述凸起设置在较短的两个对边上。
其中，所述凸起的中线长度为1.0-2.0μm。
一种液晶面板，包括过孔，所述过孔的边缘向孔内部延伸形成有多个凸起。
对于本发明实施例所提供的掩膜板而言，由于其上的孔的边缘向内部延伸形成有多个凸起，因此可以制得边缘具有凸起形状的过孔，这样一方面掩膜板上孔的边缘尺寸可以与现有的薄膜沉积、光刻及刻蚀设备相适应，例如可以适用于现有曝光机的分辨率的水平，另一方面制得的过孔尺寸减小，从而有利于提高液晶显示面板的开口率，进而增强了液晶面板本身的显示性能，同时降低了能耗。
附图说明
图1为本发明实施例具有圆形孔的掩膜板示意图；
图2为本发明实施例具有矩形孔的掩膜板示意图。
附图标记：
1-板体，2-凸起，3-圆角或倒角，4-孔的边缘尺寸，5-孔的有效尺寸。
具体实施方式
下面将结合附图，对本发明实施例掩膜板及液晶面板进行清楚描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1及图2所示，本发明实施例所提供的掩膜板包括板体1，板体1上设有孔，从该孔的边缘向孔内部延伸形成有多个凸起2。
对于本发明实施例所提供的掩膜板而言，由于其上的孔的边缘向内部延伸形成有多个凸起2，因此可以制得具有凸起形状的过孔，这样一方面掩膜板上孔的边缘尺寸4可以与现有的薄膜沉积、光刻及刻蚀设备相适应，例如可以使曝光机的光线从多个凸起之间的缝隙中透过，从而适用于现有曝光机的分辨率水平，另一方面掩膜板的孔内部的凸起2顶端可以环绕近似形成圆形，而该圆形的尺寸即对应于在液晶屏中形成的过孔的有效尺寸5，该过孔的尺寸显然小于所述掩膜板的孔的边缘尺寸4。边缘尺寸4大致相当于现有技术中光滑内圆弧的孔的最小尺寸，边缘尺寸4可以在曝光显影的过程中适应现有曝光机的分辨率水平，可以保证本发明的掩膜板可以在现有设备条件下制备出过孔。而当过孔制备完成，再经过沉积之后连接漏电极时，能够以凸起2围成的圆形的尺寸作为所形成的过孔的参考尺寸，该过孔的尺寸显然小于现有技术中过孔的尺寸，即所形成的过孔的有效尺寸5减小了。
如图1及图2可见，在上述各个凸起2的顶角处设有圆角或倒角3，圆角或倒角3可以使曝光显影之后的凸起2的形貌更加平滑，有利于后续像素电极的沉积，防止断裂的发生。
在图1所示的实施例中，所述孔为圆形，凸起2相对于所述孔的中心呈中心对称分布。这样有利于形成规则图形，为后续像素电极的沉积带来便利。
具体而言，优选地，上述实施例中的各个凸起2具有相同的形状和尺寸。即所有的凸起2均为全等形，这样可以方便凸起2的加工，并且有利于凸起2的顶端互相环绕形成近似圆形的轮廓。
而且优选地，上述实施例中凸起2的个数不超过12个。由于孔的边缘尺寸4为一相对的定值，如果凸起2的个数过多，那么每个凸起2的尺寸和相邻凸起2之间的空隙可能会过小，不利于凸起2的加工，并且相邻凸起2之间的空隙过小，可能不利于后续的曝光显影。
作为替代，在图2所示的实施例中，所述孔为矩形孔，凸起2均匀分布在所述矩形的任意两个对边上，并且更优选地，凸起2呈中心对称分布。这样有利于形成规则图形，为后续像素电极的沉积带来便利。
具体而言，在图2所示的实施例中，各个凸起2具有相同的形状和尺寸，即所有的凸起2均为全等形，这样可以方便凸起2的加工。
其中，如图2所示，当所述矩形的两个对边的长度小于另两个对边的长度时，优选将凸起2设置在较短的两个对边上。这样，凸起2的顶端更容易与另两个较长的对边形成近似圆形的轮廓。
在图1和图2所示的实施例中，均可以将凸起2的中线长度设置为1.0-2.0μm之间的任一值，优选为1.5μm。其中如果凸起2的中线过短，那么对于过孔尺寸的缩小效果不明显。在现有技术中，过孔可以达到的最小极限尺寸为4μm，而在本发明各实施例中，所得到的过孔的最小尺寸可以小于4μm（该最小尺寸是排除相应凸起中线长度之后得到的）；此外，上述对凸起2的中线长度的设定使得凸起的中线长度不能超过2μm，这是因为如果凸起2的中线过长，会使得过孔尺寸减小得过多，从而不利于在过孔中进行像素电极的沉积。
此外，本发明实施例还提供一种液晶面板，其包括过孔，该过孔的边缘向孔内部延伸形成有多个凸起，相较于现有技术中的光滑内圆弧的过孔，凸起所围成的圆形的尺寸较小，从而能够以较小的尺寸去连接尺寸较小的漏电极，有利于开口率的提高。该过孔可以由上述任一项实施例提供的掩膜板制得。因此应用了该过孔的液晶面板，将会因为开口率的提高，而增强液晶面板本身的显示性能，同时降低能耗。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，包括板体，所述板体上设有孔，其特征在于，从所述孔的边缘向孔内部延伸形成有多个凸起，所述多个凸起的顶端环绕成圆形或近似圆形。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起的顶角处设有圆角或倒角。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述孔为圆形孔，所述凸起的位置相对于所述孔的中心呈中心对称分布。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，各个所述凸起具有相同的形状和尺寸。
5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起的个数不超过12个。
6.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述孔为矩形孔，所述凸起均匀分布在所述矩形孔的任意两个对边上，并且所述凸起的位置呈中心对称分布。
7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，各个所述凸起具有相同的形状和尺寸。
8.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述矩形的两个对边的长度小于另两个对边的长度，所述凸起设置在较短的两个对边上。
9.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起的中线长度为1.0-2.0μm。
10.一种液晶面板，包括过孔，其特征在于，所述过孔是由权利要求1所述的掩模板制得。
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