CN103381570A - 散热器单柱双面自动抛光机 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种散热器单柱双面自动抛光机,包括:主支架、气缸、模具支架、单柱模具、辅助支架、辅助模具、辅助轮、主抛光胶轮、滑道、滑块、齿条、电机、减速机、连杆、平面架、抛光轮支架、伺服电机、抛光带、轴承等。其散热器单柱双面自动抛光机在马达驱动下左右旋转、自动旋转、前进、后退,可自动压紧工件自由更换模具,电脑编程可更加快捷操作简便,可以避免发生安全事故。

Description

散热器单柱双面自动抛光机
技术领域
1.本发明涉及机械加工工具技术领域,具体涉及一种散热器单柱双面自动抛光机。 
背景技术
2.对产品表面处理是产品加工工序中通常需要进行的造作,尤其是对于散热器单柱焊接后对其进行抛光处理。对其散热器焊接后抛光处理,普遍为人工手拿散热器单柱,单柱在简单的抛光机上手拿单柱手动抛光。其结构为一个电机一个抛光轮一个抛光带,人工手拿散热器单柱手工做左右前后抛光这样的人工手拿式抛光单柱散热器抛光处理有很大的技术上和人身安全隐患,产品抛光时手一旦拿不住散热器单柱就会飞出去甚至可以导致安全事故存在安全隐患。 
发明内容
3.本发明散热器单柱双面自动抛光机要解决的技术问题是提供一种抛光效果更好,更快更安全可靠的散热器单柱双面自动抛光机。 
4.为解决上述问题本发明采用如下技术方案:这种自动抛光机包括主机架、气缸压紧单柱,其单柱在模具内旋转、前进、后退,其模具可更换,模具固定在轴承内轴承稳定在轴承机架内,侧面有齿条有马达驱动前进、后退、单柱后有辅助模具与链条、连杆相接由马达驱动可以左右旋转。抛光轮支架在平面架上由马达驱动前进、后退带动抛光胶轮上的抛光带旋转抛光。由马达驱动前进、后退这样可以准确的到达抛光点,侧有减震器和弹簧辅助压紧,压紧平面架前进。 
5.进一步的阐述散热器单柱双面自动抛光机,模具可以更换如5025、6030、三柱、四柱、五柱、六柱等模具可以是工件变换自如前进、后退、旋转、压紧。 
6.进一步说明散热器单柱双面自动抛光机,两侧马达压紧,减震器弹簧辅助压紧与其抛光胶轮砂带两侧之间的间隙准确侧有齿条前进、后退,长短可调。 
7.进一步说明散热器单柱双面自动抛光机,抛光支架上的抛光胶轮、砂带、辅轮在平面架上前进后退。 
8.本发明通过气缸压紧工件,工件在模具内自由的旋转、前进、后退,压紧不会跳动,模具可更换这样可保持更加的抛光效果,又可以避免发生安全事故。 
附图说明
9.图1为本发明整体结构图; 
10.图2为本发明侧面结构图。 
11.图中,1为气缸,2为模具支架,3为单柱模具,4为辅助支架,5为辅助模具,6为辅助轮,7为抛光胶轮,8为滑道,9为滑块,10为齿条,11为电机,12为减速机,13为连杆,14为滑道,15为滑块,16为主支架,17为平面架,18为抛光轮支架,19为伺服电机,20为抛光带,21为轴承,22为减震器。 
具体实施方式
12.本实施例中,参照图1和图2,所述散热器单柱双面自动抛光机,工作流程。1气缸压紧2模具支架内单柱固定3单柱模具在21轴承内旋转5是辅助模具与23链条连动19马达前进10齿条前进、后退6辅助轮7抛光胶轮在11电机旋转后和13连杆连动,左右8滑道9滑块左右同行,左右12减速机19马达同步压紧左右7抛光胶轮开始工作22减震器弹簧辅助压紧,散热器单柱开始旋转、前进、后退、使散热器单柱抛光平整,散热器单柱抛光完成。 
13.以上已将本发明做一详细说明,以上所述,仅为本发明之较佳实施例而已,当不能限定本发明实施范围,即凡依申请范围所作均等变化与修饰,皆应仍属本发明涵盖范围内。 

Claims (5)

1.一种散热器单柱双面自动抛光机,包括机架、抛光机电机、抛光胶轮、辅轮、砂带、单柱各种模具(5025、6030、三柱、四柱、五柱、六柱)气缸压紧机架、抛光轮支架、链条、连接杆、电机、马达、滑动平台、左右双轮抛光两侧减震器和压力弹簧压紧。
2.根据权利要求1所述的散热器单柱双面自动抛光机,其特征在于:所述由马达驱动单柱自动旋转、前进、后退、左右,由压力弹簧和减震器辅压可使单柱自动旋转、前进、后退、左右,单柱在气缸压紧吓进行抛光。
3.根据权利要求1所述的散热器单柱双面自动抛光机,其特征在于:其单柱在模具内气缸压紧可左右旋转前后行走在马达的带动下工作。其模具下有平面滑道底侧有齿条,可使工件前后行走。模具内有轴承,后有辅助模具,后面有连杆、链条、马达驱动下可使工件左右旋转。
4.根据权利要求1所述的散热器单柱双面自动抛光机,其特征在于:所述模具单柱可更换不同模具(5025、6030、三柱、四柱、五柱、六柱)与其抛光胶轮上的砂带能自由抛光。
5.根据权利要求1所述的散热器单柱双面自动抛光机,其特征在于:抛光轮支架连接在平面支架上在马达驱动下可以前进、后退。侧有减震器、压力弹簧辅助压紧。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20131106