CN103365448A - 基板结构、其制造方法、触控面板及显示器装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种基板结构及其制造方法，以及具有基板结构的显示器装置。基板结构包括：一玻璃；一金属掺杂光学膜，位于该玻璃上，其中该金属掺杂光学膜掺杂有一金属离子；以及一抗污涂料层，位于该金属掺杂光学膜上。本发明实施例可以解决具抗污涂料的光学玻璃耐用性不佳的问题。

Description

基板结构、其制造方法、触控面板及显示器装置

技术领域

本发明涉及基板结构，且特别是有关于一种具金属掺杂光学膜的基板结构。

背景技术

随着智能型手机、平板电脑等产品的热销，具有触控功能的显示器需求日益增加，此类型的产品因为有很高的机会与手指接触，通常需要以抗污涂料(anti-smudge coating)进行表面处理。抗污涂料可以降低显示器保护玻璃表面能，使其对油污及灰尘吸沾附性大幅下降，藉以提供抗油污、防泼水及脏污容易被去除的性质。

一般来说，为了提升显示器界面的保护玻璃的光学性质，常会在保护玻璃上以物理气相沉积或溶胶凝胶法等方法沉积功能性光学膜。通过设计高低折射率介电质膜的堆叠，可达到不同的光学表现(高反射膜、半穿反膜、抗反射膜等…)。具有光学膜结构的保护玻璃可称作光学玻璃。其中，为了降低反射光量而提高观赏品质，显示器最常见的光学膜为抗反射光学膜(Anti-Reflection film；AR film)，其可为单层或多层堆叠结构。

传统的保护玻璃的制造方法是先将玻璃进行化学强化，以形成强化玻璃。其中，玻璃的化学强化工艺例如可将玻璃置于熔融态的硝酸钾熔盐中，使得熔盐中的钾离子(半径较大)和玻璃表层的钠离子(半径较小)进行离子交换，使其在玻璃表面形成压缩应力(Compressive Stress)，而达到提高玻璃强度和抗冲击性能的目的。而后，在强化玻璃上涂布光学膜，并在光学膜上涂布抗污材料。由于光学膜的形成目的在于提升玻璃的穿透度，故光学膜需具有特定的厚度、均匀度及折射率，以提升玻璃的穿透效率。因此，必须在玻璃强化后才形成光学膜，以避免在玻璃化学强化工艺中光学膜的性质改变。然而上述工艺所形成的保护玻璃常有耐用性不佳的问题。

由于同时兼具光学及抗污性质的显示器产品有相当大的应用与市场需求，目前亟需解决具抗污涂料的光学玻璃耐用性不佳的问题。

发明内容

在本发明一实施例中，提供一种基板结构，包括：一玻璃；一金属掺杂光学膜，位于该玻璃上，其中该金属掺杂光学膜掺杂有一金属离子；以及一抗污涂料层，位于该金属掺杂光学膜上。在本发明另一实施例中，提供一种基板结构的制造方法，包括：提供一玻璃；在该玻璃上形成一光学膜；对该光学膜进行一金属离子改质处理，使得一金属离子掺杂进入该光学膜中，以形成一金属掺杂光学膜；以及在该金属掺杂光学膜上形成一抗污涂料层。

在本发明又一实施例中，提供一种触控面板，其包括如前述的基板结构。

在本发明又一实施例中，提供一种显示器装置，包括：一如前述的基板结构；一第二基板，该第二基板相对于该基板结构设置；以及一显示介质，位于该基板结构及该第二基板之间，且该金属掺杂光学膜与该显示介质分别位于该玻璃的相反两侧上。

本发明实施例可以解决具抗污涂料的光学玻璃耐用性不佳的问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明的限定。在附图中：

图1显示一种制造基板结构的方法流程图。

图2至图4则显示在本发明一实施例中制造基板结构的各阶段的剖面图。

图5至图6则显示在本发明另一实施例中制造基板结构的各阶段的剖面图。

图7-图8显示根据本发明各种实施例所形成触控面板的剖面图。

图9-图10显示根据本发明各种实施例所形成显示器装置的剖面图。

图11显示根据本发明一实施例的耐摩擦性测试的结果。

图12显示根据本发明一实施例的光学性质测试的结果。

附图标号：

200、700、800、900、1000～玻璃

202～光学膜

204～金属离子改质处理

202’、702、802、902、1002～金属掺杂光学膜

206、706、806、906、1006～抗污涂料层

202a～低折射率材料层

202b～高折射率材料层

701、801～触控面板

708、808、908、1008～基板结构

710、810～导电层

812～第一基板

901、1001～显示器装置

914、1014～第二基板

916、1016～显示介质

1018～第三基板

具体实施方式

为让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举出较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。

以下依本发明的不同特征举出数个不同的实施例。本发明中特定的元件及安排是为了简化，但本发明并不以这些实施例为限。举例而言，在第二元件上形成第一元件的描述可包括第一元件与第二元件直接接触的实施例，亦包括具有额外的元件形成在第一元件与第二元件之间、使得第一元件与第二元件并未直接接触的实施例。此外，为简明起见，本发明在不同例子中以重复的元件符号及/或字母表示，但不代表所述各实施例及/或结构间具有特定的关系。

发明人经实验发现，抗污涂料与玻璃有极佳的化学结合性，例如在钢丝绒摩擦测试上有极佳的耐摩擦性表现。然而，抗污涂料对于光学玻璃表层的介电质光学膜的化学结合性不佳，易从表面脱落，以致光学玻璃上的抗污涂料的耐摩擦性表现差，故光学玻璃上的抗污涂料会有耐用性不佳的问题。

一般而言，在光学玻璃的最表层通常为低折射率的二氧化硅层(SiO₂)(折射率：n＝1.4～1.48)。亦即，光学玻璃通常以二氧化硅层与抗污涂料接合。虽然二氧化硅亦为玻璃的主要成分，但将抗污涂料涂布在二氧化硅光学膜上时，其化学结合性却远低于直接将抗污涂料涂布在玻璃上。发明人推论可能的原因在于一般玻璃在工艺中，会添加部份碱金族离子(例如钠离子、钾离子)以降低工艺中的玻璃熔点。这些碱金族离子进入玻璃后，会与玻璃的网状二氧化硅结构中的架桥氧(Bridging Oxygen；≡Si-O-Si≡)形成非架桥氧(Non-bridgingOxygen)的终端结构(Terminal structure)，例如形成≡Si-ONa或≡Si-OK结构。在具水气的环境下，这些非架桥氧的终端结构容易和水形成羟基。因此，当抗污涂料涂布于其上时，抗污涂料可与玻璃上的羟基反应(例如进行脱醇反应)，故可具有较佳的镀附性。

由于化学反应发生容易与否取决于活性位置及反应途径(决定活化能)，本发明通过改质光学膜成分，提高光学膜中的羟基密度，以提升光学玻璃与抗污涂料的化学结合力。因此，在本发明各实施例中，对光学玻璃上的光学膜进行改质，使其性质与玻璃更接近(提高光学膜上的羟基密度)。光学膜改质的方法可在光学膜中掺杂金属离子，以在光学膜上形成非架桥氧的终端结构，藉此提升光学膜与抗污涂料的化学结合性，因而使其有较佳的耐摩擦性(耐用性)，进而提升其商业价值。

图1显示一种制造基板结构的方法流程图。在步骤102中，提供玻璃。在步骤104中，在玻璃上形成光学膜。在步骤106中，对光学膜进行金属离子改质处理，使得金属离子掺杂进入光学膜中，以形成金属掺杂光学膜。在步骤108中，在金属掺杂光学膜上形成抗污涂料层。

图2至图4则显示在本发明一实施例中制造基板结构的各阶段的剖面图。参照图1、图2，在步骤102中，提供一玻璃200。玻璃200例如包括钠钙玻璃(soda-lime glass)、石英玻璃(silica glass)、硅酸碱玻璃、铅碱玻璃、陶瓷玻璃、铝酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、或前述的组合。在另一实施例中，玻璃200可为强化玻璃。在步骤104中，在玻璃200上形成光学膜202。其中，光学膜可为各种已知或未来发展的光学膜，其厚度例如介于5至300nm。在一实施例中，光学膜例如为抗反射膜、抗眩膜、增亮膜或前述的组合。光学膜的折射率例如为1.3～1.8，光学膜的材料例如为二氧化硅(SiO₂)、氟化镁(MgF₂)、冰晶石(Na₃AlF₆)。上述光学膜的形成可利用任何已知或未来发展的涂布技术，例如包括旋转涂布(spin coating)、棒状涂布(bar coating)、刮刀涂布(blade coating)、滚筒涂布(roller coating)、线棒涂布(wire bar coating)、浸渍涂布(dip coating)、喷洒涂布(spray coating)。此外，上述光学膜也可利用气相沉积形成，例如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、原子层沉积(ALD)、高密度电浆化学气相沉积(HDPCVD)、金属有机化学气相沉积(MOCVD)、原子层化学气相沉积(ALCVD)、大气压化学气相沉积(APCVD)、其他适合的方法、或前述的组合。

参照图1、图3，在步骤106中，对光学膜202进行金属离子改质处理204，使得金属离子掺杂进入光学膜中，以形成金属掺杂光学膜202’。上述金属离子可为IA族的金属离子，例如包括锂离子、钠离子、钾离子、或前述的组合。在一实施例中，金属离子改质处理204将光学膜202及玻璃200浸入改质液中，其操作温度介于360℃至500℃，操作时间介于1至24小时，较佳是介于5至10小时。另外，改质液例如可包括硝酸钾熔盐(KNO₃₍₁₎)、硝酸钠熔盐(NaNO₃₍₁₎)、硝酸锂熔盐(LiNO₃₍₁₎)或前述的组合。金属掺杂光学膜202’中的金属离子含量可小于30wt％，例如介于0.01wt％至30wt％。在一实施例中，金属掺杂光学膜202’中的钾离子含量约为27wt％。

参照图1、图4，在步骤108中，在金属掺杂光学膜202’上形成抗污涂料层206。其中，抗污涂料层206可包括氟化硅氧烷化合物(fluoroalkyl siloxane)、全氟聚醚硅氧烷化合物(perfluoropolyether siloxane)、或前述的组合。上述抗污涂料层206的形成可利用任何已知或未来发展的涂布技术，例如包括旋转涂布(spin coating)、浸渍涂布(dip coating)、喷洒涂布(spray coating)、或前述的组合。或者可利用气相沉积法形成，例如：化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、原子层沉积(ALD)、高密度电浆化学气相沉积(HDPCVD)、金属有机化学气相沉积(MOCVD)、原子层化学气相沉积(ALCVD)、大气压化学气相沉积(APCVD)、其他适合的方法、或前述的组合。

在另一实施例中，在步骤106中，金属离子可更进一步的掺杂进入玻璃200中，并在玻璃200中进行金属离子交换，而形成强化玻璃。而后，再形成抗污涂料层206(步骤108)。在传统保护玻璃的工艺中，必须在玻璃强化后才形成光学膜，以避免光学膜在化学强化工艺中性质改变。然而，发明人发现，虽然金属掺杂光学膜在改质过程中，会造成其光穿透率的略微下降，但相较于不具光学膜的玻璃，其仍具有较佳的光穿透率。因此，若在步骤106中同时对光学膜进行改质且对玻璃进行化学强化，使得金属离子掺杂进入光学膜及玻璃中，不仅可提升光学膜与抗污涂料的镀附性，使得基板结构可具有较佳的耐用性，且基板结构仍可维持其光学性质(例如仍具有较佳的光穿透率)。此外，也不会增加工艺步骤，亦不会增加工艺成本。

图5至图6显示根据本发明另一实施例所形成的基板结构在各制造阶段的剖面图。参照图5，玻璃200上具有多层结构的光学膜202。其中，光学膜202以溅镀法形成的低折射率材料层202a及高折射率材料层202b交互堆叠的多层结构，其中，低折射率材料层的折射率为1.3～1.8，低折射率材料层例如为氟化镁(MgF₂)、冰晶石(Na₃AlF₆)、二氧化硅(SiO₂)层，高折射率材料层的折射率为2.0～2.8，高折射率材料层例如是二氧化钛(TiO₂)、五氧化二钽(Ta₂O₅)、五氧化二铌(Nb₂O₅)层。参照图6，之后依照前述实施例同样的方式，对具多层结构的光学膜进行金属离子改质处理，以形成金属掺杂光学膜202’，接着，在金属掺杂光学膜202’上形成抗污涂料层206。

上述基板结构也可应用于触控面板。图7显示在本发明一实施例中所形成的触控面板701。其中，触控面板701包括基板结构708及导电层710，基板结构708包括玻璃700、金属掺杂光学膜702及抗污涂料层706。导电层710与金属掺杂光学膜702分别位于玻璃700的相反两侧上。其中玻璃可以为一保护玻璃。导电层为触控面板内的电极，例如是感测电极和读取电极两者或至少其中之一。

图8显示在本发明另一实施例中所形成的触控面板801。在触控面板801中，包括基板结构808及第一基板812。其中，基板结构808包括玻璃800、金属掺杂光学膜802及抗污涂料层806。第一基板812上设置有导电层810，且第一基板812与金属掺杂光学膜802分别位于玻璃800的相反两侧上。其中玻璃可以为一保护玻璃。导电层为触控面板内的电极，例如是感测电极和读取电极两者或至少其中之一。

上述触控面板均可再结合一显示面板(图中未显示)以形成一显示器装置。

本发明另一实施例中，可将前述具金属掺杂光学膜的基板结构进一步的应用于现有或未来发展的各种显示器装置中。参照图9，在一实施例中，显示器装置901包括基板结构908、与基板结构908对组的第二基板914、以及位于基板结构908及第二基板914之间的显示介质916。显示介质916例如可包括液晶介质、有机发光介质或电子墨水介质。其中，基板结构908更包括玻璃900、金属掺杂光学膜902及抗污涂料层906，且金属掺杂光学膜902与显示介质916分别位于玻璃900的相反两侧上。在一实施例中，基板结构908例如是彩色滤光片基板，其包括基底、彩色滤光片与黑色矩阵(black matrix，BM)(图中未显示)，其中彩色滤光片包括红色滤光片、蓝色滤光片与绿色滤光片，而黑色矩阵(BM)介于各种不同颜色滤光片之间。第二基板914例如是驱动元件基板，其包括基底及阵列层(array layer)(图中未显示)。在另一实施例中，基板结构908例如是驱动元件基板，其包括基底及阵列层。第二基板914例如是彩色滤光片基板，其包括基底、彩色滤光片与黑色矩阵。

图10显示根据本发明另一实施例所形成的显示器装置1001。显示器装置1001包括基板结构1008、与基板结构1008对组的第二基板1014、以及位于基板结构1008及第二基板1014之间的显示介质1016。显示介质1016例如可包括液晶介质、有机发光介质或电子墨水介质。其中，基板结构1008更包括玻璃1000、金属掺杂光学膜1002及抗污涂料层1006，且金属掺杂光学膜1002与显示介质1016分别位于玻璃1000的相反两侧上。此外，在基板结构1008和第二基板1014之间设置有第三基板1018，且显示介质1016位于第二基板1014及第三基板1018之间。在一实施例中，基板结构1008例如为保护玻璃，第三基板1018例如为彩色滤光片基板，其包括基底、彩色滤光片与黑色矩阵，第二基板1014例如为驱动元件基板，其包括基底及阵列层。在另一实施例中，基板结构1008例如是保护玻璃，第三基板1018例如是驱动元件基板，其包括基底及阵列层，第二基板1014例如是彩色滤光片基板，其包括基底、彩色滤光片与黑色矩阵。

第二基板与第三基板的基底可以为玻璃、石英、塑胶、树脂或其他适合的材料。阵列层包括薄膜晶体管结构、像素电极、扫描线与数据线等像素控制结构(图中未显示)。由于经改质的金属掺杂光学膜与抗污涂料层可具有良好的镀附性，故可增加显示器装置的耐用性及抗污性。

【比较例1】不具光学膜的基板结构

取一片钠钙玻璃(soda-lime glass)作为基底，其大小约为5cmx10cm，厚度约为1.1mm。以超音波震荡机清洗并在大气下以电浆进行前处理，即可得到不具光学膜的基板结构。

【比较例2】具有光学膜的基板结构(无金属掺杂)

取一片钠钙玻璃(soda-lime glass)作为基底，其大小约为5cmx10cm，厚度约为1.1mm。将上述钠钙玻璃浸入纯硝酸钾熔盐中，并在470℃下反应6小时，以进行钠钙玻璃的化学强化，在钠钙玻璃经化学强化处理后，再在钠钙玻璃上溅镀上二氧化硅层作为抗反射层，以形成光学玻璃。其中，二氧化硅层的厚度约为100nm。接着，以超音波震荡机清洗并在大气下以电浆进行前处理，即可得到具无金属掺杂光学膜的基板结构。

【实施例1】具有金属掺杂光学膜的基板结构

取一片钠钙玻璃(soda-lime glass)作为基底，其大小约为5cmx10cm，厚度约为1.1mm。在钠钙玻璃上溅镀上二氧化硅层作为抗反射层，以形成光学玻璃。其中，二氧化硅层的厚度约为100nm。将上述光学玻璃浸入纯硝酸钾熔盐中，并在470℃下反应6小时，以同时进行二氧化硅层的改质及钠钙玻璃的化学强化。接着，取出改质后的光学玻璃，以超音波震荡机清洗并在大气下以电浆进行前处理，即可得到具有金属掺杂光学膜的基板结构。

【耐摩擦性测试】

将比较例1、比较例2及实施例1所形成的基板结构以浸渍方式涂布抗污涂料(Daikin Industries：Optool DSX)，并在200℃下烘烤10分钟。而后再进行摩擦试验。在前述5cmx10cm的基板结构中心区域以泰伯线性摩擦试验机(TABER 5750)进行测试，其负载量(loading)为1公斤，测试面积为4cm²，周期为60次/min，冲程长度(stroke length)为1inch。其中，摩擦试验的接触介质是利用极细钢丝绒(SW Wool)；钻石牌；型号#0000。另外，以可携式接触角计(FIBRO PG-X)测量其接触角，其是在静态模式下量测，且量测水滴大小为2μl，并在摩擦区域中量测5点(含未摩擦)。

图11显示比较例1、比较例2及实施例1所形成的基板结构其接触角对摩擦次数的耐性曲线。如图11所示，在比较例1中，将抗污涂料直接涂布在玻璃上所形成不具光学膜的基板结构，其耐摩擦性大于3000周期(当接触角大于100度时)。然而，在比较例2中，当钠钙玻璃上具有一般光学膜(无金属掺杂)时，其耐摩擦性小于500周期(当接触角大于100度时)。在实施例1中，当钠钙玻璃上具有金属掺杂光学膜时，其耐摩擦性大于2000周期(当接触角大于100度时)。亦即，若在无金属掺杂的光学膜上直接形成抗污涂料层时，其耐摩擦性无法达到一般业界规格。然而，在实施例1中所述经改质的金属掺杂光学膜，可与抗污涂料具有良好的镀附性，可达到较佳的耐摩擦性。

【光学性质测试】

图12为比较例1、比较例2及实施例1所形成的基板结构光学性质的比较。光学性质的测试方式叙述如下：利用光学量测仪(Varian；Cary 300)进行量测。首先，在量测入口处安装固持器并将标准白板(Spectralon)放在样品反射端口。以空的固持器纪录基线。在特定测试条件下测量上述待测玻璃的可见光谱。其中，测试条件如下：扫描范围：380至780nm；扫描速度：400nm/min；扫描模式：透射。

参照图12，比较例2中具无金属掺杂的光学膜的基板结构具有最佳的穿透率，而比较例1中不具光学膜的基板结构的穿透率最差。应注意的是，虽然实施例1中具金属掺杂光学膜的基板结构穿透率略低于比较例2中具无金属掺杂光学膜的基板结构，但仍高于比较例1中不具光学膜的基板结构。另外，虽然此实施例1中的光学膜上并未涂布抗污涂料，但由于抗污涂料层的厚度对玻璃而言相对薄，故对其整体光学性质影响极低。

由耐摩擦性测试及光学性质测试可知，比较例1所形成的不具光学膜的基板结构虽具有较佳的耐摩擦性，但其光学穿透率差。比较例2所形成具无金属掺杂的光学膜的基板结构虽可提高玻璃的穿透率，但其耐摩擦性无法达到业界标准。然而，在实施例1中所形成具金属掺杂光学膜的基板结构，由于其金属掺杂光学膜与抗污涂料可具有较佳的化学反应性，故所形成的基板结构耐摩擦性较佳，且金属掺杂光学膜仍具有光学膜抗反射性质，故仍具有较佳的穿透率。

【玻璃化学强化测试】

为了确认在光学膜的改质过程中，钠钙玻璃是否也可同步进行化学强化，故以表面应力仪(Orihara；FSM 6000)对钠钙玻璃进行测试。其中，其量测厚度分别为22μm(锡面)及24μm(空气面)。测试结果显示，比较例2所形成的基板结构仅在玻璃的锡面测试上具有干涉纹，但没有相位差，且在玻璃的空气面测试则无干涉纹。然而，在实施例1所形成的基板结构的测试中，在玻璃的锡面及空气面测试上均有干涉纹，且其干涉具相位差。上述结果表示在实施例1中，金属离子进入钠钙玻璃中进行离子交换，使得其折射率改变，而造成应力残留的状况。此外，由于应力测试的深度分别为22μm(锡面)及24μm(空气面)，而钠钙玻璃上二氧化硅光学膜的厚度仅为100nm，故可确定离子已顺利进入玻璃中，而达到玻璃的化强作用。

虽然本发明已以数个较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作任意的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求范围所界定者为准。

Claims (20)

1.一种基板结构，其特征在于，包括：

一玻璃；

一金属掺杂光学膜，位于所述玻璃上，其中所述金属掺杂光学膜掺杂有一金属离子；以及

一抗污涂料层，位于所述金属掺杂光学膜上。

2.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属离子择自IA族金属离子。

3.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属离子在所述金属掺杂光学膜中的含量介于0.01wt％至30wt％。

4.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属掺杂光学膜为折射率为1.3～1.8的材料。

5.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属掺杂光学膜为折射率为1.3～1.8的材料及折射率为2.0～2.8的材料的堆叠结构。

6.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述玻璃包括钠钙玻璃、石英玻璃、硅酸碱玻璃、铅碱玻璃、陶瓷玻璃、铝酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、或前述的组合。

7.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述抗污涂料层包括氟化硅氧烷化合物、全氟聚醚硅氧烷化合物、或前述的组合。

8.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述玻璃中更包括所述金属离子。

9.一种基板结构的制造方法，其特征在于，包括：

提供一玻璃；

在所述玻璃上形成一光学膜；

对所述光学膜进行一金属离子改质处理，使得一金属离子掺杂进入所述光学膜中，以形成一金属掺杂光学膜；以及

在所述金属掺杂光学膜上形成一抗污涂料层。

10.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子择自IA族金属离子。

11.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属掺杂光学膜中所述金属离子含量介于0.01wt％至30wt％。

12.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子改质处理的操作温度介于360℃至500℃。

13.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子改质处理包括将所述光学膜浸入一改质液中。

14.如权利要求13所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述改质液包括硝酸钾、硝酸钠、硝酸锂、或前述的组合。

15.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子改质处理更包括使得所述金属离子进入所述玻璃中，以形成一强化玻璃。

16.一种触控面板，其特征在于，其包括如权利要求1所述的基板结构。

17.如权利要求16所述的触控面板，其特征在于，更包括一导电层，所述金属掺杂光学膜与所述导电层分别位于所述玻璃的相反两侧上，所述导电层作为一感测电极及一读取电极两者或其中之一。

18.如权利要求16所述的触控面板，其特征在于，更包括一第一基板，所述金属掺杂光学膜与所述第一基板分别位于所述玻璃的相反两侧上，其中所述第一基板上设置有作为一感测电极及一读取电极两者或其中之一的一导电层。

19.一种显示器装置，其特征在于，包括：

一如权利要求1所述的基板结构；

一第二基板，所述第二基板相对于所述基板结构设置；以及

一显示介质，位于所述基板结构及所述第二基板之间，且所述金属掺杂光学膜与所述显示介质分别位于所述玻璃的相反两侧上。

20.如权利要求19所述的显示器装置，其特征在于，所述第二基板更包括一彩色滤光片和一驱动元件其中之一。

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