CN103361612A - 圆柱磁控溅射靶 - Google Patents

圆柱磁控溅射靶 Download PDF

Info

Publication number
CN103361612A
CN103361612A CN201210097115.8A CN201210097115A CN103361612A CN 103361612 A CN103361612 A CN 103361612A CN 201210097115 A CN201210097115 A CN 201210097115A CN 103361612 A CN103361612 A CN 103361612A
Authority
CN
China
Prior art keywords
target
magnetic control
control sputtering
column magnetic
baffle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201210097115.8A
Other languages
English (en)
Inventor
黄登聪
徐华勇
刘振章
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN201210097115.8A priority Critical patent/CN103361612A/zh
Priority to TW101112724A priority patent/TW201341557A/zh
Priority to US13/526,765 priority patent/US20130264199A1/en
Publication of CN103361612A publication Critical patent/CN103361612A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405—Magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414—Targets
    • H01J37/342—Hollow targets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

一种圆柱磁控溅射靶，其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体，该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置，该防护装置包括一内挡板，该绝缘装置包括至少一绝缘件，所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。所述绝缘装置可有效免因内挡板在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后发生局部变形，进而避免内挡板与靶材发生短路。

Description

圆柱磁控溅射靶
技术领域
本发明涉及一种圆柱磁控溅射靶。
背景技术
现有的真空镀膜装置内通常安装有若干对靶材。针对每一靶材分别设置有内挡板及外挡板，该内挡板与外挡板配合用以避免未使用的靶材受到热辐射及污染。
为了提高靶材的利用率，在镀膜过程中圆柱靶要绕其中心轴转动。由于内挡板在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后容易发生局部变形，且圆柱靶的长度较长（一般在一米以上）；如此，难以保证圆柱靶始终沿着该圆柱靶的中心轴转动（即圆柱靶在转动过程中会发生轻微晃动）。另外，由于内挡板局部发生变形，靶材易于与内挡板接触，易于造成靶材与内挡板发生短路，严重影响镀膜的进行。
发明内容
有鉴于此，提供一种可避免靶材与内挡板发生短路的圆柱磁控溅射靶。
一种圆柱磁控溅射靶，其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体，该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置，该防护装置包括一内挡板，该绝缘装置包括至少一绝缘件，所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。
所述圆柱磁控溅射靶在所述内挡板与靶材之间设置绝缘装置，可有效免因内挡板在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后发生局部变形，进而避免内挡板与靶材发生短路。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例的圆柱磁控溅射靶的立体图。
图2为图1所示圆柱磁控溅射靶的主视图。
主要元件符号说明
圆柱磁控溅射靶 100
靶头 10
靶座 11
第一传动装置 13
连接件 50
齿轮 131
电机 133
靶体 30
靶材 31
靶材下盖 33
防护装置 35
绝缘装置 37
内挡板 351
外挡板 353
绝缘件 371
绝缘座 373
第二传动装置 70
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1及图2，本发明一较佳实施例圆柱磁控溅射靶100，其包括靶头10及与靶头10连接于一体的靶体30。该靶头10与靶体30通过一连接件50连接在一起。本实施例中，该连接件50为一法兰。
该靶头10包括一靶座11及一第一传动装置13。该靶座11用以承载所述第一传动装置13。
该第一传动装置13包括一齿轮131及一电机133。该电机133通过齿轮131与靶座11相连。该第一传动装置13用以驱动靶体30沿该靶体30的中心轴进行旋转。
该靶体30包括一靶材31、一靶材下盖33、一套设在靶材31外的防护装置35及一绝缘装置37。该绝缘装置37可通过螺钉连接、铆钉连接或粘结等方式固定在该防护装置35上。
该靶材31在所述电机133的驱动下沿靶材31的中心轴进行旋转，用以提高靶材31的利用率，避免在靶材31工作过程中仅在靶材31的部分表面发生蚀刻。
该防护装置35的两端分别与所述连接件50及靶材下盖33相固接。该防护装置35用以避免靶材31受到热辐射及污染。该防护装置35包括一内挡板351及一可旋转地套设在该内挡板351外的外挡板353。当内挡板351旋转到与外挡板353相对的位置时，外挡板353处于关闭状态，靶材31被密封在外挡板353与内挡板351配合形成的空间内，从而免受热辐射和污染。当外挡板353旋转到内挡板351的同一侧时，外挡板353处理开启状态，该靶材31可进行磁控溅射作业。
该绝缘装置37包括至少一绝缘件371及绝缘座373。该绝缘件371用以避免所述防护装置35与所述靶材31接触而发生短路。所述绝缘件371可通过螺钉连接、铆钉连接或粘结等方式固定在内挡板351的内侧壁上。该绝缘座373设置在靶材下盖33与靶材31之间，用以避免所述靶材31与靶材下盖33接触而发生短路。本实施例中，该绝缘件371的个数为3个，所述绝缘件371均匀地间隔固设在内挡板351的内侧壁上。该绝缘装置37的材质为铁氟龙、陶瓷等耐高温绝缘材料。
可以理解的，根据实际生产情况，可通过调整所述绝缘件371的大小、厚度和个数，以及二绝缘件371之间的间隔等参数，以避免防护装置35与所述靶材31接触而发生短路。
可以理解的，根据实际生产情况，可将至少一绝缘件371设置在连接件50与内挡板351之间，且所述绝缘件371的一端部固设在所述连接件50上。
该圆柱磁控溅射靶100还包括一第二传动装置70，该第二传动装置70驱动所述外挡板353沿靶材31旋转，使外挡板353在关闭与打开的状态下进行切换。
本发明的圆柱磁控溅射靶100在所述内挡板351与靶材31之间设置绝缘装置37，可有效避免因内挡板351在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后发生局部变形，进而避免内挡板351与靶材31发生短路。另外，该绝缘装置37的结构简单，易于拆装。

Claims (10)

1.一种圆柱磁控溅射靶，其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体，其特征在于：该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置，该防护装置包括一内挡板，该绝缘装置包括至少一绝缘件，所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。
2.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该绝缘件的个数为3。
3.如权利要求2所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：所述绝缘件均匀地间隔固设在内挡板的内侧壁上。
4.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该绝缘件通过螺钉连接、铆钉连接或粘结的方式固定在内挡板的内侧壁上。
5.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该绝缘装置的材质为耐高温绝缘材料。
6.如权利要求5所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该绝缘装置的材质为铁氟龙或陶瓷。
7.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该靶体还包括一靶材下盖，该靶材下盖与靶材之间设置有一绝缘座。
8.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该防护装置还包括一可旋转地套设在该内挡板外的外挡板，当内挡板旋转到与外挡板相对的位置时，外挡板处于关闭状态，靶材被密封在外挡板与内挡板配合形成的空间内；当外挡板旋转到内挡板的同一侧时，外挡板处理开启状态，该靶材可进行磁控溅射作业。
9.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该靶头与靶体通过一连接件连接在一起。
10.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶，其特征在于：该靶头包括一靶座及一第一传动装置，该靶座承载所述第一传动装置，该第一传动装置驱动靶材沿其中心轴进行旋转。
CN201210097115.8A 2012-04-05 2012-04-05 圆柱磁控溅射靶 Pending CN103361612A (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210097115.8A CN103361612A (zh) 2012-04-05 2012-04-05 圆柱磁控溅射靶
TW101112724A TW201341557A (zh) 2012-04-05 2012-04-11 圓柱磁控濺射靶
US13/526,765 US20130264199A1 (en) 2012-04-05 2012-06-19 Cylindrical magnetron sputtering target assembly

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210097115.8A CN103361612A (zh) 2012-04-05 2012-04-05 圆柱磁控溅射靶

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103361612A true CN103361612A (zh) 2013-10-23

Family

ID=49291442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210097115.8A Pending CN103361612A (zh) 2012-04-05 2012-04-05 圆柱磁控溅射靶

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20130264199A1 (zh)
CN (1) CN103361612A (zh)
TW (1) TW201341557A (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104947056A (zh) * 2015-06-01 2015-09-30 黑龙江汉能薄膜太阳能有限公司 一种通过粘结聚四氟乙烯薄片防止阳极框短路的方法
CN105112872A (zh) * 2015-09-22 2015-12-02 苏州格科特真空镀膜技术有限公司 制备圆筒零件内表面涂层的脉冲磁控溅射装置及其应用
CN106683988A (zh) * 2016-12-28 2017-05-17 惠科股份有限公司 一种靶材装置
CN108774727A (zh) * 2018-08-06 2018-11-09 法德(浙江)机械科技有限公司 一种多弧离子刻蚀镀膜复合装置
CN117778979A (zh) * 2024-02-26 2024-03-29 芜湖新航薄膜科技有限公司 半导体离子薄膜材料的制备装置、方法及薄膜材料

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6518809B1 (ja) * 2018-03-19 2019-05-22 Ｊｘ金属株式会社 スパッタリングターゲット及びその梱包方法
US11851751B2 (en) * 2021-07-23 2023-12-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Deposition system and method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005213587A (ja) * 2004-01-29 2005-08-11 Konica Minolta Opto Inc マグネトロンスパッタ装置
CN101410931B (zh) * 2006-03-28 2011-02-16 贝卡尔特股份有限公司 涂覆设备

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104947056A (zh) * 2015-06-01 2015-09-30 黑龙江汉能薄膜太阳能有限公司 一种通过粘结聚四氟乙烯薄片防止阳极框短路的方法
CN105112872A (zh) * 2015-09-22 2015-12-02 苏州格科特真空镀膜技术有限公司 制备圆筒零件内表面涂层的脉冲磁控溅射装置及其应用
CN106683988A (zh) * 2016-12-28 2017-05-17 惠科股份有限公司 一种靶材装置
CN106683988B (zh) * 2016-12-28 2019-05-24 惠科股份有限公司 一种靶材装置
CN108774727A (zh) * 2018-08-06 2018-11-09 法德(浙江)机械科技有限公司 一种多弧离子刻蚀镀膜复合装置
CN117778979A (zh) * 2024-02-26 2024-03-29 芜湖新航薄膜科技有限公司 半导体离子薄膜材料的制备装置、方法及薄膜材料
CN117778979B (zh) * 2024-02-26 2024-04-30 芜湖新航薄膜科技有限公司 半导体离子薄膜材料的制备装置、方法及薄膜材料

Also Published As

Publication number Publication date
US20130264199A1 (en) 2013-10-10
TW201341557A (zh) 2013-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103361612A (zh) 圆柱磁控溅射靶
CN102599808B (zh) 具有防止泡沫溢出功能的电饭煲及其防止方法
WO2014044023A1 (zh) 一种高压断路器及其操动机构
WO2014191877A3 (en) Punching apparatus
CN106949554B (zh) 空调器及其导风板运动机构
CN106206109A (zh) 一种电力开关装置
CN104279811B (zh) 电动风门及冰箱
CN202658221U (zh) 一种磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶
CN103737245B (zh) 轴类零件热套过程中的冷却装置
CN206724319U (zh) 空调器及其导风板运动机构
CN209655666U (zh) 一种带信号反馈的冰箱风门
CN202461034U (zh) 硅片酸洗槽
CN112071562A (zh) 一种能够驱赶鸟类的变压器保护设备
CN203722457U (zh) 一种带强制对流散热风冷罩的永磁传动装置
CN204038689U (zh) L型带废膜收集装置的封切机
CN106965941B (zh) 航空发动机万向偏转舵矢量机动装置
CN103285970B (zh) 石墨烯加工机
CN207831963U (zh) 冷却塔用活动百叶窗及其冷却塔
CN103007826A (zh) 一种旋转活塞式出料器
CN102444354A (zh) 烘箱门开关行程控制器
CN207062347U (zh) 一种用于铜线生产的退火炉
CN102620400B (zh) 空调装置
CN104748543A (zh) 一种真空隧道式烤箱传输阀的密封方法及装置
CN212304959U (zh) 一种设备用电机散热装置
CN202327631U (zh) 一种新型热压罐装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20131023