CN103309511B - 跨线结构及电子装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种跨线结构，包括第一导线、绝缘层及第二导线；其中，第一导线沿第一方向延伸，第二导线沿第二方向延伸，绝缘层设在第一导线及所述第二导线之间；绝缘层包括相对的第一表面及第二表面，第一表面上开设有第一凹槽，第一凹槽沿第一方向延伸并贯穿绝缘层，绝缘层通过第一凹槽卡设于第一导线上；第二导线靠近绝缘层第二表面的一侧上开设有第二凹槽，第二凹槽沿第一方向延伸并贯穿第二导线，第二导线通过第二凹槽卡设于绝缘层第二表面上。该跨线结构具有相对较低断线风险。本发明还提供一种使用该跨线结构的电子装置。

Description

跨线结构及电子装置

技术领域

本发明涉及电子技术领域，特别是涉及一种跨线结构及使用该跨线结构的电子装置。

背景技术

设计触摸屏时，为节约空间往往需要进行跨线设计。跨线设计即一条导线从另一条导线上跨设过去。为避免短路，需要在两导线之间覆设一绝缘层进行间隔。目前主要采用印刷绝缘油墨的方式形成绝缘层，其厚度相对较厚（常规印刷厚度为6μm），在较厚的绝缘油墨表面覆设另一导线时存在较高的台阶，而导电材料在固化时存在一定程度的收缩和开裂，容易使得覆设于绝缘油墨表面的导线容易发生断线，进而使得现有的跨线设计具有较高的断线风险。

发明内容

基于此，有必要提供一种具有相对较低断线风险的跨线结构。

一种跨线结构，包括第一导线、绝缘层及第二导线；

其中，所述第一导线沿第一方向延伸，所述第二导线沿第二方向延伸，所述绝缘层设在所述第一导线及所述第二导线之间；

所述绝缘层包括相对的第一表面及第二表面，所述第一表面上开设有第一凹槽，所述第一凹槽沿第一方向延伸并贯穿所述绝缘层，所述绝缘层通过所述第一凹槽卡设于所述第一导线上；

所述第二导线靠近所述绝缘层第二表面的一侧上开设有第二凹槽，所述第二凹槽沿第一方向延伸并贯穿所述第二导线，所述第二导线通过所述第二凹槽卡设于所述绝缘层第二表面上。

在其中一个实施例中，所述绝缘层沿第一方向的宽度小于所述第一导线沿第一方向的宽度，所述绝缘层沿第二方向的宽度大于所述第一导线沿第二方向的宽度；所述第二导线沿第一方向的宽度小于所述绝缘层沿第一方向的宽度，所述第二导线沿第二方向的宽度大于所述绝缘层沿第二方向的宽度。

在其中一个实施例中，所述第一凹槽沿第三方向的高度与所述第一导线沿第三方向的高度相同，所述第二凹槽沿第三方向的高度与所述绝缘层沿第三方向的高度相同，所述第一凹槽沿第二方向的宽度与所述第一导线沿第二方向的宽度相同，所述第二凹槽沿第二方向的宽度与所述绝缘层沿第二方向的宽度相同。

在其中一个实施例中，所述绝缘层第一凹槽的槽底与所述绝缘层第二表面之间的距离为0.5μm～3μm。

在其中一个实施例中，所述第一导线沿第三方向的高度为10nm～20μm，所述第二凹槽的槽底与所述第二导线远离所述绝缘层的一侧之间的距离为10nm～20μm。

在其中一个实施例中，所述第一导线的导电材料为金属单质、合金、金属氧化物、碳纳米管、石墨烯及有机导电高分子中的至少一种，所述第二导线的导电材料为金属单质、合金、金属氧化物、碳纳米管、石墨烯及有机导电高分子中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述绝缘层的材质为光阻剂。

在其中一个实施例中，所述光阻剂的曝光波长为200nm～400nm，粘度为200cps～20000cps。

在其中一个实施例中，所述光阻剂为正型光阻剂，所述正型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、10～40份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为PMMA与线性酚醛树脂中的至少一种，

所述感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯与聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯中的至少一种，

所述溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述正型光阻剂各组分的份数之和为100。

在其中一个实施例中，所述光阻剂为负型光阻剂，所述负型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、10～40份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为甲基丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种，

所述感光剂为芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种，

所述溶剂为甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述负型光阻剂各组分的份数之和为100。

在其中一个实施例中，所述光阻剂为正型光阻剂，所述正型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～45份成膜树脂、1～10份感光剂、10～35份溶剂、1～10份染料、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为PMMA与线性酚醛树脂中的至少一种，

所述感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯与聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯中的至少一种，

所述溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述染料为碳粉、钛白粉、偶氮化合物与酞菁化合物中的至少一种。

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述正型光阻剂各组分的份数之和为100。

在其中一个实施例中，所述光阻剂为负型光阻剂，所述负型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～45份成膜树脂、1～10份感光剂、10～35份溶剂、1～10份染料、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为甲基丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种，

所述感光剂为芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种，

所述溶剂为甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述染料为炭粉、钛白粉、偶氮化合物与酞菁化合物中的至少一种。

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述负型光阻剂各组分的份数之和为100。

上述跨线结构通过在绝缘层及第二导线上开设凹槽，绝缘层通过第一凹槽卡设于第一导线上，第二导线通过第二凹槽卡设于绝缘层上，从而使得在沿第三方向的方向上，第二导线覆设于绝缘层具有相对较低厚度的部分上，进而使得上述跨线结构具有较低的断线风险。

特别是，当选用光阻剂作为绝缘层的材质时，可以通过旋涂方式将光阻剂覆设于第一导线上，得到厚度均一的绝缘层，且厚度较采用印刷方式得到绝缘油墨低（采用旋涂方式更容易控制绝缘层的厚度）。而且以光阻剂作为绝缘层的材质时，绝缘层可以采用曝光-显影制程，从而可以将绝缘层的长度和宽度做小，以满足精密制程的需要。此外，以光阻剂为原料采用旋涂方式制作得到的绝缘层相比较于以绝缘油墨为原料采用印刷的方式得到的绝缘油墨能有效避免发生短路问题。因为绝缘油墨在印刷过程中容易产生气泡，进而使得绝缘油墨上存在针孔。而在具有针孔的绝缘油墨的表面覆设另一导线时，导电材料容易通过针孔渗透到下层的导线中，使得两导线连接，从而发生短路问题。

一种电子装置，所述电子装置使用上述的跨线结构。该电子装置具有较低的断线风险。

附图说明

图1为一实施方式的跨线结构的结构示意图；

图2为图1中的跨线结构沿Ⅱ-Ⅱ线的剖面图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1及图2所示，一实施方式的跨线结构100，包括第一导线110、绝缘层120及第二导线130。

在实施方式中，第一方向相对于三维直角坐标里的X方向，第二方向相对于三维直角坐标里的Y方向，第三方向相对于三维直角坐标里的Z方向。第一导线110、绝缘层120及第二导线130均为长方体形。可以理解，在其他实施方式中，第一导线110、绝缘层120及第二导线130的形状不限于长方体形，也可以是其它不规则形状。

第一导线110沿第一方向延伸，第二导线130沿第二方向延伸，绝缘层120设在第一导线110及第二导线130之间。

绝缘层120包括相对的第一表面122及第二表面124。第一表面122上开设有第一凹槽，第一凹槽沿第一方向延伸并贯穿绝缘层120。绝缘层120通过第一凹槽卡设于第一导线110上。

第二导线130靠近绝缘层120第二表面124的一侧上开设有第二凹槽，第二凹槽沿第一方向延伸并贯穿第二导线130。第二导线130通过第二凹槽卡设于第二表面124上。

在本实施方式中，第一凹槽沿第三方向的高度（第一凹槽的深度）与第一导线110沿第三方向的高度相同，第二凹槽沿第三方向的高度与绝缘层120沿第三方向的高度相同。第一凹槽沿第二方向的宽度与第一导线110沿第二方向的宽度相同，第二凹槽沿第二方向的宽度与绝缘层120沿第二方向的宽度相同。从而使得跨线结构100结构更紧凑，在第三方向上的高度更低，更适合用于各种电子装置中。可以理解，在其他实施方式中，第一凹槽沿第二方向的宽度可以大于第一导线110沿第二方向的宽度，第二凹槽沿第二方向的宽度也可以大于与绝缘层120沿第二方向的宽度。

绝缘层120沿第一方向的宽度a小于第一导线110沿第一方向的宽度b，绝缘层120沿第二方向的宽度c大于第一导线110沿第二方向的宽度d。第二导线130沿第一方向的宽度小于绝缘层120沿第一方向的宽度，第二导线130沿第二方向的宽度大于绝缘层120沿第二方向的宽度。从而可以确保第一导线110与第二导线130相互绝缘，且不影响第一导线110与第二导线130与外界的电性导通。

在本实施方式中，第一凹槽的槽底与第二表面124之间的距离h为0.5μm～3μm。根据跨线结构100的结构，可以认为第二导线130覆设于绝缘层130上的实际厚度为0.5μm～3μm，这个厚度相对于常规印刷厚度（6μm）低很多，从而使得覆设于绝缘层130上的第二导线130不容易发生断线现象，进而使得跨线结构100具有相对较低断线风险，使用寿命相对较长。

第一导线110及第二导线130在保证具有良好的导电性能的同时，还需要具有相对较低的断线风险。综合上述两方面，第一导线110及第二导线130的导电材料优选为金属单质、合金、金属氧化物、碳纳米管、石墨烯及有机导电高分子中的至少一种。第一导线110及第二导线130的导电材料可以相同，也可以不相同。而第一导线110沿第三方向的高度g优选为10nm～20μm，第二凹槽的槽底与第二导线130远离绝缘层120的一侧之间的距离i优选为10nm～20μm。

在本实施方式中，绝缘层120的材质为光阻剂。

光阻剂为正型光阻剂，正型光阻剂包括如下重量份数的各组分：30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、10～40份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂。正型光阻剂各组分的份数之和为100。

其中，成膜树脂为PMMA（polymethylmethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯）与线性酚醛树脂中的至少一种。感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯与聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯中的至少一种。溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯中的至少一种。稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种。流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种。

上述光阻剂的曝光波长为200nm～400nm，粘度为200cps～20000cps。曝光的具体做法是：将上述光阻剂预先置于60～120℃下预烘10～60min，再于曝光功率为800～1200W的条件下曝光。

在其他实施方式中，光阻剂也可以为负型光阻剂，负型光阻剂包括如下重量份数的各组分：30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、10～40份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂。负型光阻剂各组分的份数之和为100。

其中，成膜树脂为甲基丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种。感光剂为芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种。溶剂为甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种。稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种。流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种。

上述光阻剂的曝光波长为200nm～400nm，粘度为200cps～20000cps。曝光的具体做法是：将上述光阻剂预先置于60～120℃下预烘10～60min，再于曝光功率为800～1200W的条件下曝光。

在其他实施方式中，光阻剂为正型光阻剂，正型光阻剂包括如下重量份数的各组分：30～45份成膜树脂、1～10份感光剂、10～35份溶剂、1～10份染料、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂。正型光阻剂各组分的份数之和为100。

其中，成膜树脂为PMMA与线性酚醛树脂中的至少一种。感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯与聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯中的至少一种。溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯中的至少一种。稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种。染料为碳粉、钛白粉、偶氮化合物与酞菁化合物中的至少一种。流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种。

上述光阻剂的曝光波长为200nm～400nm，粘度为200cps～20000cps。曝光的具体做法是：将上述光阻剂预先置于60～120℃下预烘10～60min，再于曝光功率为800～1200W的条件下曝光。

在其他实施方式中，光阻剂为负型光阻剂，负型光阻剂包括如下重量份数的各组分：30～45份成膜树脂、1～10份感光剂、10～35份溶剂、1～10份染料、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂。负型光阻剂各组分的份数之和为100。

其中，成膜树脂为甲基丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种。感光剂为芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种。溶剂为甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种。稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6一二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种。染料为碳粉、钛白粉、偶氮化合物与酞菁化合物中的至少一种。流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种。消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种。

上述光阻剂的曝光波长为200nm～400nm，粘度为200cps～20000cps。曝光的具体做法是：将上述光阻剂预先置于60～120℃下预烘10～60min，再于曝光功率为800～1200W的条件下曝光。

上述跨线结构100通过在绝缘层120及第二导线130上开设凹槽，绝缘层120通过第一凹槽卡设于第一导线110上，第二导线130通过第二凹槽卡设于绝缘层120上，从而使得在沿第三方向的方向上，第二导线130覆设于绝缘层120具有相对较低厚度的部分上，进而使得上述跨线结构100具有较低的断线风险。

特别是，当选用光阻剂作为绝缘层120的材质时，可以通过旋涂方式将光阻剂覆设于第一导线110上，得到厚度均一的绝缘层120，且厚度较采用印刷方式得到绝缘油墨低（采用旋涂方式更容易控制绝缘层的厚度）。而且以光阻剂作为绝缘层120的材质时，绝缘层120可以采用曝光-显影制程，从而可以将绝缘层120的长度和宽度做小，以满足精密制程的需要。此外，以光阻剂为原料采用旋涂方式制作得到的绝缘层120相比较于以绝缘油墨为原料采用印刷的方式得到的绝缘油墨能有效避免发生短路问题。因为绝缘油墨在印刷过程中容易产生气泡，进而使得绝缘油墨上存在针孔。而在具有针孔的绝缘油墨的表面覆设另一导线时，导电材料容易通过针孔渗透到下层的导线中，使得两导线连接，从而发生短路问题。

此外，在本实施方式中，还提供一种电子装置，电子装置使用上述的跨线结构100。其中，电子装置可以是触摸屏、显示器等。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (12)

1.一种跨线结构，其特征在于，包括第一导线、绝缘层及第二导线；

其中，所述第一导线沿第一方向延伸，所述第二导线沿第二方向延伸，所述绝缘层设在所述第一导线及所述第二导线之间；

所述绝缘层包括相对的第一表面及第二表面，所述第一表面上开设有第一凹槽，所述第一凹槽沿第一方向延伸并贯穿所述绝缘层，所述绝缘层通过所述第一凹槽卡设于所述第一导线上；

所述第二导线靠近所述绝缘层第二表面的一侧上开设有第二凹槽，所述第二凹槽沿第一方向延伸并贯穿所述第二导线，所述第二导线通过所述第二凹槽卡设于所述绝缘层第二表面上；

其中，所述绝缘层的材质为光阻剂。

2.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述绝缘层沿第一方向的宽度小于所述第一导线沿第一方向的宽度，所述绝缘层沿第二方向的宽度大于所述第一导线沿第二方向的宽度；所述第二导线沿第一方向的宽度小于所述绝缘层沿第一方向的宽度，所述第二导线沿第二方向的宽度大于所述绝缘层沿第二方向的宽度。

3.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述第一凹槽沿第三方向的高度与所述第一导线沿第三方向的高度相同，所述第二凹槽沿第三方向的高度与所述绝缘层沿第三方向的高度相同，所述第一凹槽沿第二方向的宽度与所述第一导线沿第二方向的宽度相同，所述第二凹槽沿第二方向的宽度与所述绝缘层沿第二方向的宽度相同。

4.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述绝缘层第一凹槽的槽底与所述绝缘层第二表面之间的距离为0.5μm～3μm。

5.根据权利要求4所述的跨线结构，其特征在于，所述第一导线沿第三方向的高度为10nm～20μm，所述第二凹槽的槽底与所述第二导线远离所述绝缘层的一侧之间的距离为10nm～20μm。

6.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述第一导线的导电材料为金属单质、合金、金属氧化物、碳纳米管、石墨烯及有机导电高分子中的至少一种，所述第二导线的导电材料为金属单质、合金、金属氧化物、碳纳米管、石墨烯及有机导电高分子中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述光阻剂的曝光波长为200nm～400nm，粘度为200cps～20000cps。

8.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述光阻剂为正型光阻剂，所述正型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、10～40份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为PMMA与线性酚醛树脂中的至少一种，

所述感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯与聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯中的至少一种，

所述溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6-二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述正型光阻剂各组分的份数之和为100。

9.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述光阻剂为负型光阻剂，所述负型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～50份成膜树脂、1～10份感光剂、10～40份溶剂、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为甲基丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种，

所述感光剂为芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种，

所述溶剂为甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6-二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述负型光阻剂各组分的份数之和为100。

10.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述光阻剂为正型光阻剂，所述正型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～45份成膜树脂、1～10份感光剂、10～35份溶剂、1～10份染料、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为PMMA与线性酚醛树脂中的至少一种，

所述感光剂为重氮苯醌、重氮萘醌酯、聚乙烯醇肉桂酸酯与聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯中的至少一种，

所述溶剂为四氢呋喃、甲基乙基酮、环己酮、丙二醇、N,N-二甲基甲酰胺、乙二醇乙醚乙酸酯、乙酸乙酯与乙酸丁酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6-二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述染料为碳粉、钛白粉、偶氮化合物与酞菁化合物中的至少一种；

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述正型光阻剂各组分的份数之和为100。

11.根据权利要求1所述的跨线结构，其特征在于，所述光阻剂为负型光阻剂，所述负型光阻剂包括如下重量份数的各组分：

30～45份成膜树脂、1～10份感光剂、10～35份溶剂、1～10份染料、0.1～5份稳定剂、0.1～5份流平剂、0.1～5份消泡剂；

其中，所述成膜树脂为甲基丙烯酸、巴豆酸、丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯基醚与丁烯酸甲酯中的至少一种，

所述感光剂为芳香重氮盐、芳香硫鎓盐、芳香碘鎓盐与二茂铁盐中的至少一种，

所述溶剂为甲苯、二甲苯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇甲氧基单丙烯酸酯与乙氧基化新戊二醇甲氧基单丙烯酸酯中的至少一种，

所述稳定剂为对苯二酚、对甲氧基苯酚、对苯醌、2,6-二叔丁基甲苯酚、酚噻嗪与蒽醌中的至少一种，

所述染料为炭粉、钛白粉、偶氮化合物与酞菁化合物中的至少一种；

所述流平剂为聚丙烯酸酯、醋酸丁酸纤维、硝化纤维素与聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种，

所述消泡剂为磷酸酯、脂肪酸酯与有机硅中的至少一种；

所述负型光阻剂各组分的份数之和为100。

12.一种电子装置，其特征在于，所述电子装置使用如权利要求1-11中任一项所述的跨线结构。