CN103288361A - 一种低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。本发明的镀膜玻璃通过各个膜层厚度的调节，使得该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调，并且银的特性使得该玻璃对远红外线的反射率大大提高，即达到了低辐射的性能，非常适于实用。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃制造技术领域，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃。
背景技术
现有技术中镀膜比例，特别是低辐射镀膜玻璃，除具有采光遮阳节能作用外，对建筑物的美化、装饰效果也很重要。现代商业建筑和民用住宅对玻璃的装饰性要求越来越高，各种功能和色彩都是建造师追求的目标。镀膜玻璃制造商设计了不同颜色的镀膜玻璃以适合不同色彩的要求。低辐射镀膜玻璃是一种禁止绝大部分红外频率透过，允许可见光透过的功能材料。由于低辐射镀膜玻璃具有很高的可见光透过率以及极好的隔热性能，在建造幕墙、门窗、天窗和汽车玻璃上得到广泛应用。
低辐射镀膜玻璃（又称LOW-E玻璃），是在玻璃表面镀上多层金属或其它化合物组成的膜系产品。低辐射镀膜玻璃是一种既能像浮法玻璃一样让室外太阳能、可见光透过，又像红外线反射镜一样（尤其是中远红外有很高的反射率），将物体二次辐射热反射回去的新一代镀膜玻璃。在任何气候环境下使用，均能达到控制阳光、节约能源、热量控制调节及改善环境。同时无论室内外温差有多少，只要装上低辐射玻璃，夏天防热能入室，冬天防热能泄露，具有双向节能效果，这样室内花很少的空调费用便可永远维持冬暖夏凉的境地。
90年代以来，用真空磁控溅射生产的低辐射玻璃在欧美发展很快，其作用是在玻璃表面镀制可以反射远红外线的薄膜，从而降低玻璃表面的反射率，减少玻璃因热辐射而造成的传热损耗，以提高玻璃窗的保温隔热能力，由于磁控溅射方法已经广泛用于大面积镀膜，成为生产薄膜玻璃产品的主流技术。真空磁控溅射是将玻璃置于真空中，并通入工艺气体（氩气、氮气、氧气等），当在溅射阴极和阳极通入电场时，由于在电场的作用下，气体分子电离，带正电的氩粒子将在电场的加速下，高速向带负电的阴极靶材表面撞击，将靶材表面的金属原子或离子击出，逐渐沉积在玻璃表面形成薄膜。
现有的金色镀膜玻璃主要采用低磁控溅射镀膜技术进行加工制造，该技术的实质是在普通滞留（射频）溅射技术的基础上发展起来的，其通过磁场对荷能粒子（主要是电子）的约束，提高气体分子的离化率，可以在比较高的真空状态下较快沉积高质量的薄膜材料。简言之，通过电子离化气体分子而产生的离子（如典型的Ar+）轰击靶材来实现薄膜沉积的。即采用带有几十电子伏特以上动能的粒子或粒子束照射固体表面，靠近固体表面的原子会获得入射粒子带来的能量而脱离固体表面且自身具有一定能量，在飞行一定距离后碰撞基片沉积而形成薄膜。溅射发生的过程如下：入射粒子在进入靶材表面过程中与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分能量传给了靶材的原子，当靶材原子获得的能量超过了周围存在的其他原子形成的束缚（势垒），这种原子从靶材晶格阵点被撞出，当被碰出的粒子飞行过程中将与其它靶材粒子发生相互碰撞，最终沉积在基片表面。
金色低辐射镀膜玻璃（LOW-E）产品，其主要采用介质靶材（介质层）、金属靶材（保护层）、纯铜靶材、功能靶材（低辐射层）材料在普通浮法玻璃上按照一定的沉积顺序和沉积厚度镀膜形成金色外观色调。
金色低辐射镀膜玻璃（LOW-E）产品，主要存在如下缺陷：
1.不可钢化热处理。即不能采用大板玻璃镀膜后钢化，目前所生产的低辐射镀膜玻璃没有高硬度的最外层保护层，在运输过程中极易损坏，降低了生产效率和可异地加工性。且生产出的低辐射镀膜玻璃的玻璃表面的辐射率仍然较高，无法实现较好的隔热效果。
2. 外观色调不纯正（呈现土黄色调）。
3. 抗氧化性能差，有效储存时间短。放入干燥剂密封包装的情况下，有效储存时间约三天，时间越长则出现膜层氧化的风险就越大。增加了生产过程中质量控制难度。
发明内容
鉴于上述问题，本发明的目的在于提供一种低辐射镀膜玻璃，非常适于实用。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。
本发明提供一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其中，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现：
所述第一复合电介质层的厚度为20nm～40nm。
所述第一保护层的厚度为1nm～30nm。
所述阻隔红外线层的厚度为5nm～25nm。
所述第二保护层的厚度为1nm～30nm。
所述第二复合电介质层的厚度为20nm～40nm。
所述低辐射镀膜玻璃的镀膜总厚度为40nm～150nm。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
附图说明
参考所附附图，以更加充分的描述本发明的实施例。然而，所附附图仅用于说明和阐述，并不构成对本发明范围的限制。
图1绘示本发明涉及的一种低辐射镀膜玻璃的剖视结构示意图。
附图标注：1.玻璃基板，2. 第一复合电介质层，3. 第一保护层，4. 阻隔红外线层，5. 第二保护层，6. 第二复合电介质层。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种低辐射镀膜玻璃，详细说明如下。
本发明的不同实施例将详述如下，以实施本发明的不同的技术特征，可理解的是，以下所述的特定实施例的单元和配置用以简化本发明，其仅为范例而不限制本发明的范围。
实施例1
如图1所示，一种低辐射镀膜玻璃，包括包括玻璃基板，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。所述第一复合电介质层的厚度为20nm，所述第一保护层的厚度为5nm，所述阻隔红外线层的厚度为5nm，所述第二保护层的厚度为5nm，所述第二复合电介质层的厚度为20nm。该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调。
实施例2
如图1所示，一种低辐射镀膜玻璃，包括包括玻璃基板，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。所述第一复合电介质层的厚度为40nm，所述第一保护层的厚度为10nm，所述阻隔红外线层的厚度为15nm，所述第二保护层的厚度为15nm，所述第二复合电介质层的厚度为25nm。该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调。
实施例3
如图1所示，一种低辐射镀膜玻璃，包括包括玻璃基板，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。所述第一复合电介质层的厚度为30nm，所述第一保护层的厚度为15nm，所述阻隔红外线层的厚度为20nm，所述第二保护层的厚度为30nm，所述第二复合电介质层的厚度为30nm。该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调。
实施例4
如图1所示，一种低辐射镀膜玻璃，包括包括玻璃基板，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。所述第一复合电介质层的厚度为40nm，所述第一保护层的厚度为20nm，所述阻隔红外线层的厚度为25nm，所述第二保护层的厚度为15nm，所述第二复合电介质层的厚度为20nm。该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调。
实施例5
如图1所示，一种低辐射镀膜玻璃，包括包括玻璃基板，自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。所述第一复合电介质层的厚度为35nm，所述第一保护层的厚度为8nm，所述阻隔红外线层的厚度为20nm，所述第二保护层的厚度为18nm，所述第二复合电介质层的厚度为25nm。该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调。
本发明的镀膜玻璃通过各个膜层厚度的调节，使得该镀膜玻璃的反射色呈现24K黄金色，透过色为冷蓝色调，并且银的特性使得该玻璃对远红外线的反射率大大提高，即达到了低辐射的性能。
通过说明和附图，给出了具体实施方式的特定结构的典型实施例。尽管上述发明提出了现有的较佳实施例，然而，这些内容并不作为局限。对于本领域的技术人员而言，阅读上述说明后，各种变化和修正无疑将显而易见。因此，所附的权利要求书应看作是涵盖本发明的真实意图和范围的全部变化和修正。在权利要求书范围内任何和所有等价的范围与内容，都应认为仍属本发明的意图和范围内。
Claims (7)
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于：自玻璃基板向外依次包括第一复合电介质层，第一保护层，阻隔红外线层，第二保护层以及第二复合电介质层；所述第一复合电介质层为SiOxNy，所述阻隔红外线层为Ag，所述第一保护层和第二保护层为NiCr合金，所述第二复合电介质层为ZnSnO3。
2.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一复合电介质层的厚度为20nm ~40nm。
3.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一保护层的厚度为1nm~30nm。
4.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述阻隔红外线层的厚度为5nm~25nm。
5.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二保护层的厚度为1nm~30nm。
6.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二复合电介质层的厚度为20nm ~40nm。
7.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述低辐射镀膜玻璃的镀膜总厚度为40nm~150nm。
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