CN204149614U - 单银可钢化低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型有关于一种单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片表面从底层向上依次镀有氮化硅膜层、铬膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层以及氮化硅膜层。本实用新型的单银可钢化低辐射镀膜玻璃辐射率低、耐磨性好，在钢化加工过程中性能稳定，钢化前后透过率变化小。

Description

单银可钢化低辐射镀膜玻璃

技术领域

本实用新型涉及一种低辐射镀膜玻璃，特别是涉及一种含有Cr薄膜的单银可钢化低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收率和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。此种玻璃既可用于家庭窗户，也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所。夏天它可以有效阻止太阳光中的近红外线进入室内，避免室内温度升高，节约空调费用；冬天它可阻止室内暖气等产生的远红外线逸出室外，保持室内温度，节约取暖费用。可钢化低辐射镀膜玻璃是指所镀膜层材料可承受玻璃钢化工艺过程且钢化后其性能不发生明显的变化。

可钢化低辐射镀膜玻璃的优点是可极大地释放低辐射镀膜玻璃生产设备的产能，利于异地加工。现在市场上有单银可钢化低辐射镀膜玻璃，也有双银可钢化低辐射镀膜玻璃。所用的牺牲层薄膜材料通常都是纯金属NiCr。在玻璃钢化过程中，NiCr薄膜被氧化，从而保护功能层银层不被氧化。NiCr薄膜被氧化后，玻璃的透过率会发生较大变化。

有鉴于上述现有的可钢化低辐射镀膜玻璃存在的问题，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，能够解决现有的可钢化低辐射镀膜玻璃存在的问题，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本实用新型。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种以含有铬的薄膜作为牺牲层的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，所要解决的技术问题是利用铬金属性能稳定、不易氧化的特性，通过在氮化硅膜层和镍铬膜层间嵌入铬膜，共同保护银膜不被氧化，以使含有铬薄膜的低辐射镀膜产品具有膜层性能稳定、钢化前后透过率变化小的特点。

本实用新型的目的是采用以下的技术方案来实现的。本实用新型提供一种单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片表面从底层向上依次镀有氮化硅膜层、铬膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层以及氮化硅膜层。

本实用新型的目的还可采用以下技术措施进一步实现。

较佳的，前述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其中所述的氮化硅膜层的厚度为35～50纳米。

较佳的，前述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其中所述的铬膜层的厚度为3～5纳米。

较佳的，前述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其中所述的镍铬膜层的厚度为3～6纳米。

较佳的，前述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其中所述的银膜层的厚度为10纳米。

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本实用新型单银可钢化低辐射镀膜玻璃至少具有下列优点及有益效果：本实用新型的单银可钢化低辐射镀膜玻璃具有辐射率低、耐磨性好、在钢化加工过程中性能稳定，钢化前后透过率变化小的特点。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。

附图说明

图1是本实用新型的具体结构示意图。

【主要元件符号说明】

1：玻璃基片      2：氮化硅膜层

3：铬膜层        4：镍铬膜层

5：银膜层        6：镍铬膜层

7：氮化硅膜层

具体实施方式

为更进一步阐述本实用新型为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的一种单银可钢化低辐射镀膜玻璃的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

如图1所示，本实用新型的单银可钢化低辐射镀膜玻璃包括：玻璃基片1，在玻璃基片表面从底层向上依次镀制氮化硅(Si₃N₄)膜层2、铬(Cr)膜层3、镍铬(NiCr)膜层4、银(Ag)膜层5、镍铬(NiCr)膜层6以及氮化硅(Si₃N₄)膜层7，从而构成六层膜结构的单银可钢化低辐射镀膜玻璃。

本实用新型是在高真空环境下，用磁控溅射镀膜机在浮法玻璃表面上镀制六层纳米材料膜的方法，通过精确控制每层膜的厚度和化合物比例来得到设计的折射率和消光系数，实现对太阳光谱的控制，而生产出的一种低辐射率、低遮阳系数的可钢化单银低辐射镀膜玻璃，可提高其在钢化过程中的性能稳定性。

本实用新型的可钢化单银低辐射镀膜玻璃是在工厂镀膜机上按如下方法完成：首先镀膜室抽真空至本底真空度5×10^﹣4Pa以下，充入工艺气体(氩气、氮气、氧气)，使镀膜室内工艺气体压力稳定在2.5×10^﹣1Pa左右，接通溅射电源，靶材开始溅射，玻璃经清洗机清洗合格后进入真空室，经过靶材时，靶材原子或其化合物就会沉积到玻璃表面。第一个靶靶材为硅铝，工艺气体为氩气和氮气，将氮化硅(Si₃N₄)薄膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度35至50纳米；第二个靶靶材为金属铬(Cr)，工艺气体为氩气，将纯金属Cr薄膜沉积到氮化硅表面为第二层膜，厚度3至5纳米；第三个靶靶材为金属镍铬(NiCr)，工艺气体为氩气，将纯金属NiCr薄膜沉积到Cr表面为第三层膜，厚度3至6纳米；第四个靶靶材为金属银(Ag)，工艺气体为氩气，将纯金属银薄膜沉积到NiCr表面为第四层膜，厚度10纳米；第五个靶靶材为金属镍铬(NiCr)，工艺气体为氩气，将纯金属NiCr薄膜沉积到银表面为第五层膜，厚度3至6纳米；第六个靶靶材为硅铝，工艺气体为氩气和氮气，将氮化硅(Si₃N₄)薄膜沉积到NiCr表面为第六层膜，厚度35至50纳米。

第一层氮化硅膜会增加膜与玻璃的结合力，第二层铬膜会提高产品钢化过程的稳定性，第三层和第五层的镍铬膜主要起到保护银层不被氧化的作用，第四层银膜主要起降低玻璃辐射率的作用，第六层氮化硅膜采用纳米陶瓷材料，克服了金属材料易氧化、褪色等缺点，有效地提高了膜层的隔热性能、耐划伤性能、耐腐蚀性能、耐高温性能。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (7)

1.一种单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片(1)表面从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、铬膜层(3)、镍铬膜层(4)、银膜层(5)、镍铬膜层(6)以及氮化硅膜层(7)。

2.根据权利要求1所述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的氮化硅膜层(2)的厚度为35～50纳米。

3.根据权利要求1所述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的铬膜层(3)的厚度为3～5纳米。

4.根据权利要求1所述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的镍铬膜层(4)的厚度为3～6纳米。

5.根据权利要求1所述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的银膜层(5)的厚度为10纳米。

6.根据权利要求1所述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的镍铬膜层(6)的厚度为3～6纳米。

7.根据权利要求1所述的单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的氮化硅膜层(7)的厚度为35～50纳米。