CN103278978A - 一种液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种液晶显示面板及其制作方法，该显示面板包括：彩膜基板、阵列基板和封框胶，所述阵列基板包括：第一绝缘层、有机平坦化层和第二绝缘层；其中，所述有机平坦化层位于第一绝缘层上；所述第二绝缘层位于有机平坦化层上；所述封框胶位于所述第二绝缘层上；所述有机平坦化层中设置有位于非显示区域的第一通透区；所述第二绝缘层通过所述第一通透区与第一绝缘层接触。本发明使得非显示区域中有机平坦化层上方的第二绝缘层能够通过该第一通透区与有机平坦化层下方的第一绝缘层接触，可以较好地避免因有机平坦化层与绝缘层之间的较小附着力而导致膜层脱离的问题，进一步降低了阵列基板与彩膜基板分离的风险。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制作方法。
背景技术
目前，在IPS（In-Plane Switching，共平面切换）模式或FFS（Fringe FieldSwitching，边缘场开关）模式的液晶显示面板制作工艺中，通常会在形成ITO（Indium-Tin Oxide，铟锡氧化物）电极前，先沉积一层有机平坦化层，这样随后形成的其他ITO电极就可以形成在平坦的表面上，从而形成均匀的电场。然而，由于有机平坦化层一般采用有机材料（如有机树脂或感光树脂）制作，具有较强的吸水性，并且与采用无机材料（如氧化硅或氮化硅等材料）制作的绝缘层或钝化层之间的附着力比较弱，当受到较强的应力作用时容易发生膜层脱离现象。
例如，图1（1）所示为目前常见的液晶显示器面板平面示意图，整个面板区域可分为用于显示的显示区域和不可见的非显示区域，非显示区域中包括有：VSR（Vertical Shift Register，竖向移位寄存器）电路区域和封框胶区域，封框胶区域一般要小于VSR电路区域；在对应显示区域的有机平坦化层中通常会设置有过孔，以使得位于有机平坦化层上下的ITO电极之间形成电场；但在对应非显示区域的有机平坦化层中通常不设置过孔；
如图1（2）所示的液晶显示面板结构中，有机平坦化层13覆盖了显示区域以及部分非显示区域，在非显示区域中依次包括：封框胶11、钝化层12、有机平坦化层13和金属绝缘层14，由于有机平坦化层13与钝化层12和金属绝缘层14之间的附着力较弱，当出现较强的应力作用时就容易发生膜层脱离现象，甚至导致彩膜基板15和阵列基板16分离；此外，由于有机平坦化层13的吸水性较强，水汽可能会从基板边缘的有机平坦化层13进入VSR电路区域，使该区域的金属走线受到腐蚀。
如图1（3）所示的液晶显示面板结构中，有机平坦化层13仅覆盖了显示区域，在非显示区域依次包括：封框胶11、钝化层12和金属绝缘层14，由于钝化层12和金属绝缘层14之间直接接触且附着力较强，使得彩膜基板15和阵列基板16之间具有较高的附着强度，不容易发生分离，但是由于在VSR电路区域仅有一层钝化层12覆盖金属走线，水汽等容易进入VSR电路区域，同样容易使得金属走线发生腐蚀。
发明内容
本发明提供一种液晶显示面板及其制作方法，用以解决现有的液晶显示面板因有机平坦化层与绝缘层之间附着力较差而导致容易发生膜层脱离的问题。
本发明包括：
一种液晶显示面板，包括彩膜基板、阵列基板和封框胶，所述阵列基板包括：第一绝缘层、有机平坦化层和第二绝缘层；其中，
所述有机平坦化层位于第一绝缘层上；
所述第二绝缘层位于有机平坦化层上；
所述封框胶位于所述第二绝缘层上；
所述有机平坦化层中设置有位于非显示区域的第一通透区；
所述第二绝缘层通过所述第一通透区与第一绝缘层接触。
一种液晶显示面板制作方法，包括制作彩膜基板、阵列基板的工艺，和涂覆封框胶的工艺，
所述制作阵列基板的工艺具体包括：
依次形成第一绝缘层、有机平坦化层和第二绝缘层；
所述涂覆封框胶的工艺具体包括：
在所述第二绝缘层上涂覆封框胶；
其中，所述形成有机平坦化层具体包括：
在所述有机平坦化层中形成位于非显示区域的第一通透区。
本发明提供的液晶显示面板及其制作方法，通过在有机平坦化层中设置第一通透区，使得非显示区域中有机平坦化层上方的第二绝缘层能够通过该第一通透区与有机平坦化层下方的第一绝缘层接触，相比有机平坦化层与第二绝缘层或第一绝缘层之间的附着力，所述第二绝缘层与第一绝缘层之间附着力更大，可以较好地避免因有机平坦化层与绝缘层之间的较小附着力而导致膜层脱离的问题，进一步降低了阵列基板与彩膜基板分离的风险。
附图说明
图1（1）为目前常见的液晶显示器面板平面示意图；
图1（2）为一种现有液晶显示器面板剖面示意图；
图1（3）为另一种现有液晶显示器面板剖面示意图；
图2（1）为实施例一提供的液晶显示面板剖面示意图；
图2（2）为实施例一提供的设置有第一通透区的液晶显示面板剖面示意图；
图2（3）为实施例一提供的横截面为环形的沟道示意图；
图2（4）为实施例一提供的横截面为网格形的沟道示意图；
图2（5）为实施例一提供的设置有突起部位的液晶显示面板剖面示意图；
图2（6）为实施例一提供的设置有第二通透区的液晶显示面板剖面示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，对本发明液晶显示面板及其制作方法的具体实施方式作进一步详细描述。
需要说明的是：
1、本发明实施例中所称的例如“X覆盖于Y上”或“X上设置有Y”或“X位于Y上”中的“上”一般包含了X与Y接触，并且X位于Y的上方的意思；
2、本发明实施例中所称的例如“M区域”是指M在整个液晶显示面板上的投影区域；例如，封框胶区域是指封框胶在液晶显示面板上的投影区域，竖向移位寄存器VSR电路区域是指VSR电路在液晶显示面板上的投影区域；
3、本发明实施例中所称的“第一绝缘层”或“第二绝缘层”是指：采用无机材料制作的用于将两侧的导电体绝缘的膜层，例如，第一绝缘层为用于将VSR电路区域中不同层的金属走线绝缘的ILD（Inter Layer Deposition，层间淀积）层，第二绝缘层为采用无机材料制作的用于起到保护和绝缘作用的钝化层。
实施例一
本实施例提供一种液晶显示面板，如图2（1）所示，该液晶显示面板包括：阵列基板21、彩膜基板22、封框胶23，所述阵列基板21具体包括：第一绝缘层211、有机平坦化层212和第二绝缘层213；其中，
所述有机平坦化层212覆盖于对应显示区域和至少部分非显示区域的第一绝缘层211上；
所述第二绝缘层213覆盖于有机平坦化层212上；
所述封框胶23设置于所述第二绝缘层213上；
所述有机平坦化层212对应非显示区域的位置设置有第一通透区214；
所述第二绝缘层213通过所述第一通透区214与第一绝缘层211接触。
本实施例提供的液晶显示面板，通过在有机平坦化层212中设置第一通透区214，使得非显示区域中有机平坦化层212上方的第二绝缘层213能够通过该第一通透区214与有机平坦化层212下方的第一绝缘层211接触，相比有机平坦化层212与第二绝缘层213或第一绝缘层211之间的附着力，所述第二绝缘层213与第一绝缘层211之间附着力更大，可以较好地避免因有机平坦化层212与所述两绝缘层之间的较小附着力而导致膜层脱离的问题，进一步降低了阵列基板21与彩膜基板22分离的风险。
优选的，所述第一通透区214包括：
对应封框胶区域的至少一个过孔；和/或，
外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道，所述外侧壁为沟道靠近阵列基板边缘的侧壁
具体的，如图2（2）所示，在有机平坦化层212中分布有位于封框胶区域的至少一个过孔，所述过孔既使得第二绝缘层213与第一绝缘层211直接接触，又增大了封框胶23与第二绝缘层213的接触面积，由于封框胶23与第一绝缘层211或第二绝缘层213之间的附着力和第二绝缘层213与第一绝缘层211之间的附着力都比有机平坦化层212与第一绝缘层211或第二绝缘层213之间的附着力大，因此通过该过孔有效地提高了膜层间的附着力，降低了阵列基板与彩膜基板分离的风险；
具体实施中，所述过孔的数量和大小可以根据实际情况确定，较佳的，可以设置过孔的直径为8~80μm之间，并且所述过孔均匀地分布于有机平坦化层212上封框胶23覆盖的区域。
具体的，在有机平坦化层212中设置有沟道，该沟道具有靠近阵列基板21边缘的侧壁（即外侧壁）和远离阵列基板21边缘的侧壁（以下简称内侧壁），所述沟道使得有机平坦化层212被分割为沟道内侧壁以内的区域和沟道外侧壁以外的区域；当该沟道的外侧壁包围了VSR电路区域时，由于所述沟道的存在可隔绝液晶显示面板外部的水汽通过有机平坦化层212进入VSR电路区域，从而可以有效解决该区域中金属走线腐蚀的问题；此外，通过所述沟道，第二绝缘层213也可以与第一绝缘层311直接接触，也起到了一定的提高膜层间附着力的作用；
具体实施中，所述沟道的数量、大小和形状可以根据实际情况确定；较佳的，所述第一通透区214可以同时包括所述过孔和所述沟道，以同时起到提高膜层间附着力和解决水汽腐蚀VSR区域内金属走线的问题。
优选的，所述沟道的横截面为环形或网格形。
具体的，如图2（3）所示，所述沟道的横截面为环形，这种情况下，该沟道将有机平坦化层212分割为沟道外和沟道内的两部分，能够起到有效地防止水汽通过有机平坦化层212进入VSR区域的目的，避免VSR区域的金属走线被腐蚀；
具体实施中，所述横截面为环形的沟道的数量和宽窄可以根据实际情况确定，较佳的，可以设置沟道的宽度为20~300μm之间；
如图2（4）所示，所述沟道的横截面为网格形，这种情况下，该沟道将有机平坦化层212分割为多个小网格的部分，第二绝缘层212通过网格状的沟道与第一绝缘层211直接接触，提高了膜层间附着力；并且在最外层网格中，靠近阵列基板21边缘的侧壁包围了所述有机平坦化层212中与VSR电路区域对应的区域，能够起到有效防止水汽通过有机平坦化层212进入VSR区域的目的，避免VSR区域的金属走线被腐蚀。
优选的，所述第一通透区214至少位于封框胶区域；
所述彩膜基板22正对阵列基板21的表面设置有突起部位215，所述突起部位215正对位于封框胶区域的第一通透区214，且与该第一通透区214的形状相匹配。
具体的，由于第一通透区214的段差一般较大，当第一通透区214位于封框胶区域时，容易导致封框胶的整体厚度不均匀，对封框胶进行固化时就容易出现固化不均匀的现象，为了避免该现象的发生，如图2（5）所示，在彩膜基板22上设置与第一通透区214相对应的突起部位215，该突起部位215的形状与第一通透区214的形状相匹配，包括：突起部位215的直径大小和高度分别与过孔的直径大小和深度一致，或，突起部位215的横截面大小和高度分别与沟道的横截面大小和深度一致，因此可使得夹在突起部位215和第一通透区214之间的封框胶23与其他部位的封框胶23的厚度一致，即使得各部位的封框胶23的厚度均匀一致，这样在对封框胶23进行固化时就不容易出现固化不均匀的现象；另外，由于突起部位215设置于彩膜基板22上，突起部位215与封框胶23的接触相当于增大了彩膜基板22和封框胶23的接触面积，对提高彩膜基板22和封框胶23的粘着力具有一定的帮助，进一步提高了膜层间的附着力，降低了彩膜基板22与阵列基板21的分离风险。
优选的，所述第二绝缘层213对应第一通透区214的位置设置有第二通透区216；
所述封框胶23通过所述第二通透区216和第一通透区214与第一绝缘层211接触。
具体的，如图2（6）所示，在第二绝缘层213上设置有第二通透区216，所述第二通透区216与第一通透区214的位置相对应，通过该第二通透区216和第一通透区214，既使得封框胶23与第一绝缘层211直接接触，又增加了封框胶23与第二绝缘层213的接触面积，由于封框胶23与第一绝缘层211或第二绝缘层213之间的附着力要比有机平坦化层212与第一绝缘层211或第二绝缘层213之间的附着力大，因此相比只有第一通透区214的情况，在具有第二通透区216的情况下，更进一步提高了膜层间的附着力，进一步降低了阵列基板21与彩膜基板22的脱离风险。
实施例二
本实施例提供一种液晶显示面板制作方法，用于制作如实施例一提供的液晶显示面板，该制作方法包括：
沉积第一绝缘薄膜，形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层上沉积有机薄膜，形成覆盖显示区域和至少部分非显示区域的有机平坦化层，以及形成位于所述有机平坦化层上对应非显示区域位置的第一通透区；
在所述有机平坦化层上沉积第二绝缘薄膜，形成第二绝缘层；
在所述第二绝缘层上涂覆封框胶。
具体的，在依次形成第一绝缘层、有机平坦化层和第二绝缘层时，形成的有机平坦化层位于第一绝缘层上，第二绝缘层位于有机平坦化层上。
本实施例提供的液晶显示面板制作方法，通过在有机平坦化层中设置第一通透区，使得非显示区域中有机平坦化层上方的第二绝缘层能够通过该第一通透区与有机平坦化层下方的第一绝缘层接触，相比有机平坦化层与第二绝缘层或第一绝缘层之间的附着力，所述第二绝缘层与第一绝缘层之间附着力更大，可以较好地避免因有机平坦化层与绝缘层之间的较小附着力而导致膜层脱离的问题，进一步降低了阵列基板与彩膜基板分离的风险。
优选的，所述液晶显示面板制作方法中，在所述第一绝缘层上沉积有机薄膜，形成至少覆盖显示区域和部分非显示区域的有机平坦化层，以及形成位于所述有机平坦化层上对应非显示区域位置的第一通透区，具体包括：
在所述第一绝缘层上沉积有机树脂材料薄膜，形成至少覆盖显示区域和部分非显示区域的有机平坦化层；通过喷射板对所述有机平坦化层喷射粒子形成对应非显示区域位置的第一通透区；或，
在所述第一绝缘层上沉积感光树脂材料，形成至少覆盖显示区域和部分非显示区域的有机平坦化层；通过掩模板对所述有机平坦化层进行曝光和显影处理形成对应非显示区域位置的第一通透区。
具体的，当有机平坦化层由有机树脂材料构成时，可通过喷射板喷射粒子（例如固体二氧化碳等），在有机平坦化层的表面形成第一通透区，第一通透区的形状和深度等可通过设置喷射粒子的参数进行精确控制；当然，有机平坦化层是由有机树脂构成时，也可以采用普通的掩膜工艺形成第一通透区；
当有机平坦化层由感光树脂材料构成时，可通过掩模板对有机平坦化层进行曝光处理，并显影形成第一通透区。
优选的，上述制作方法中，形成对应非显示区域位置的第一通透区，具体包括：
形成对应封框胶区域的至少一个过孔；和/或，
形成外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道，所述外侧壁为沟道靠近阵列基板边缘的侧壁。
优选的，形成外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道，具体包括:形成横截面为环形或网格形，并且外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道。
优选的，上述制作方法中，形成位于所述有机平坦化层上对应非显示区域位置的第一通透区，具体包括：形成位于所述有机平坦化层上对应封框胶区域位置的第一通透区；
则所述液晶显示面板制作方法还包括：
在面向阵列基板的彩膜基板表面形成突起部位，使所述突起部位正对位于封框胶区域的第一通透区，且与该第一通透区的形状相匹配。
优选的，所述液晶显示面板制作方法中，形成第二绝缘层时还包括：通过构图工艺，在所述第二绝缘层上对应所述第一通透区的位置形成第二通透区。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种液晶显示面板，包括彩膜基板、阵列基板和封框胶，其特征在于，所述阵列基板包括：第一绝缘层、有机平坦化层和第二绝缘层；其中，
所述有机平坦化层覆盖于对应显示区域和至少部分非显示区域的第一绝缘层上；
所述第二绝缘层覆盖于有机平坦化层上；
所述封框胶设置于所述第二绝缘层上；
所述有机平坦化层对应非显示区域的位置设置有第一通透区；
所述第二绝缘层通过所述第一通透区与第一绝缘层接触。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一通透区包括：
对应封框胶区域的至少一个过孔；和/或，
外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道，所述外侧壁为沟道靠近阵列基板边缘的侧壁。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述沟道的横截面为环形或网格形。
4.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一通透区至少位于封框胶区域；
所述彩膜基板正对阵列基板的表面设置有突起部位，所述突起部位正对位于封框胶区域的第一通透区，且与该第一通透区的形状相匹配。
5.如权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，
所述第二绝缘层对应第一通透区的位置设置有第二通透区；
所述封框胶通过所述第二通透区和第一通透区与第一绝缘层接触。
6.一种液晶显示面板制作方法，其特征在于，包括：
沉积第一绝缘薄膜，形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层上沉积有机薄膜，形成覆盖显示区域和至少部分非显示区域的有机平坦化层，以及形成位于所述有机平坦化层上对应非显示区域位置的第一通透区；
在所述有机平坦化层上沉积第二绝缘薄膜，形成第二绝缘层；
在所述第二绝缘层上涂覆封框胶。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述第一绝缘层上沉积有机薄膜，形成至少覆盖显示区域和部分非显示区域的有机平坦化层，以及形成位于所述有机平坦化层上对应非显示区域位置的第一通透区，具体包括：
在所述第一绝缘层上沉积有机树脂材料薄膜，形成至少覆盖显示区域和部分非显示区域的有机平坦化层；通过喷射板对所述有机平坦化层喷射粒子形成对应非显示区域位置的第一通透区；或，
在所述第一绝缘层上沉积感光树脂材料，形成至少覆盖显示区域和部分非显示区域的有机平坦化层；通过掩模板对所述有机平坦化层进行曝光和显影处理形成对应非显示区域位置的第一通透区。
8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，形成对应非显示区域位置的第一通透区，具体包括：
形成对应封框胶区域的至少一个过孔；和/或，
形成外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道，所述外侧壁为沟道靠近阵列基板边缘的侧壁。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，形成外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道，具体包括:形成横截面为环形或网格形，并且外侧壁包围竖向移位寄存器VSR电路区域的沟道。
10.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，形成位于所述有机平坦化层上对应非显示区域位置的第一通透区，具体包括：形成位于所述有机平坦化层上对应封框胶区域位置的第一通透区；
则所述方法还包括：
在面向阵列基板的彩膜基板表面形成突起部位，使所述突起部位正对位于封框胶区域的第一通透区，且与该第一通透区的形状相匹配。
11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，形成第二绝缘层时还包括：通过构图工艺，在所述第二绝缘层上对应所述第一通透区的位置形成第二通透区。
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